一种适用于100Gy/h及以下辐射环境的反射式耐辐照摄像机制造技术

本实用新型专利技术涉及一种适用于100Gy/h及以下辐射环境的反射式耐辐照摄像机，所述摄像机包括CCD摄像机本体(1)，所述CCD摄像机本体(1)安装在防护材料(2)中，所述防护材料(2)的外面为外壳(3)包覆，所述CCD摄像机本体(1)的镜头前方安装有一只反射镜(4)，所述反射镜(4)与CCD摄像机本体(1)的镜头的夹角为45°，所述反射镜(4)的前方的需要观察的目标(5)的中心与反射镜(4)的夹角为45°。本实用新型专利技术能使CCD摄像机防护辐射能力提高，从而使CCD耐辐照摄像机可应用在高射线剂量环境中。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种耐辐照摄像机，特别是涉及ー种能使CCD摄像机防护辐射能カ提高，从而使CCD耐辐照摄像机可应用在高射线剂量环境中的适用于lOOGy/h及以下辐 射环境的反射式耐辐照摄像机。
技术介绍
现有在核环境中使用的耐辐照摄像机，摄像镜头直接对着目标，由于CCD摄像机防护辐射能力的限制，很难在高射线剂量环境中应用。CCD是Charge Coupled Device (电荷稱合器件)的缩写,它是ー种半导体成像器件，因而具有灵敏度高、抗强光、畸变小、体积小、寿命长、抗震动等优点。CXD摄像机的工作方式被摄物体的图像经过镜头聚焦至CXD芯片上，CXD根据光的强弱积累相应比例的电荷，各个像素积累的电荷在系统时序的控制下，逐点外移，经滤波、放大处理后，形成视频信号输出。视频信号连接到监视器或电视机的视频输入端便可以看到与原始图像相同的视频图像。
技术实现思路
针对上述问题，本技术的主要目的在于提供一种能使CCD摄像机防护辐射能カ提高，从而使CCD耐辐照摄像机可应用在高射线剂量环境中的适用于lOOGy/h及以下辐射环境的反射式耐辐照摄像机。本技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的ー种适用于100Gy/h及以下辐射环境的反射式耐辐照摄像机，所述摄像机包括CCD摄像机本体，所述CCD摄像机本体安装在防护材料中，所述防护材料的外面为外壳包覆，所述CCD摄像机本体的镜头前方安装有一只反射镜，所述反射镜与CCD摄像机本体的镜头的夹角为45°，所述反射镜的前方的需要观察的目标的中心与反射镜的夹角为45°。在本技术的具体实施例子中，所述反射镜为镜面不锈钢反射镜。在本技术的具体实施例子中，所述CCD摄像机本体为定焦或变焦镜头的摄像机。本技术的积极进步效果在于本技术提供的适用于100Gy/h及以下辐射环境的反射式耐辐照摄像机具有以下优点本技术能使CCD摄像机防护辐射能力提高，从而使CCD耐辐照摄像机可应用在高射线剂量环境中。附图说明图I是本技术提供的适用于100Gy/h及以下辐射环境的反射式耐辐照摄像机的结构示意图。具体实施方式以下结合附图给出本技术较佳实施例，以详细说明本技术的技术方案。图I是本技术提供的适用于100Gy/h及以下辐射环境的反射式耐辐照摄像机的结构示意图，如图I所示，本技术包括CCD摄像机本体I,所述CCD摄像机本体I安装在防护材料2中，防护材料2的外面为外壳3包覆，CCD摄像机本体I的镜头前方安装有一只反射镜4，所述反射镜4与C⑶摄像机本体I的镜头的夹角为45°，所述反射镜4的前方的需要观察的目标5的中心与反射镜4的夹角为45°，所述反射镜4为镜面不锈钢反射镜。本技术能使CCD摄像机防护辐射能力提高，从而使CCD耐辐照摄像机可应用在高射线剂量环境中。本技术采用镜面不锈钢反射镜，适用于辐射量为100y/h以下的 环境，采用定焦或变焦镜头的摄像机。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内，本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.ー种适用于100Gy/h及以下辐射环境的反射式耐辐照摄像机，所述摄像机包括CXD摄像机本体(I)，其特征在于所述CCD摄像机本体(I)安装在防护材料(2)中，所述防护材料(2)的外面为外壳(3)包覆，所述CCD摄像机本体(I)的镜头前方安装有一只反射镜(4)，所述反射镜⑷与CCD摄像机本体⑴的镜头的夹角为45°，所述反射镜⑷...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐哲杨，齐海，
申请(专利权)人：上海兴禄科技实业有限公司，
类型：实用新型
国别省市：