磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘用玻璃基板技术

本发明专利技术提供一种高效地制造可抑制了主表面的表面凸凹的磁盘用玻璃基板的方法及磁盘用玻璃基板。在制造具有一对主表面的磁盘用玻璃基板时，通过对熔融玻璃或软化玻璃进行加压成形而成形如下板状玻璃材料，该玻璃材料具有，其主表面具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度、且所述主表面的粗糙度为0.01μm以上10μm以下的表面凹凸、及雾度为20％以上的光学特性。使用固定磨粒研削具有所述表面凸凹和所述表面特性的所述板状玻璃材料。之后，对具有使用所述固定磨粒进行研削的所述主表面的表面凸凹的板状玻璃材料，使用游离磨粒进行研磨。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有一对主表面的磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘用玻璃基板。
技术介绍
如今,在个人计算机、笔记本电脑或DVD (Digital Versatile Disc)记录装置等，为了记录数据内置有硬盘装置。特别是，在笔记本电脑等以携带性为前提的设备所使用的硬盘装置中，使用在玻璃基板设置磁性层的磁盘，用微微上浮于磁盘的面上的磁头(Dra，Dynamic Flying Height)在磁性层进行磁记录信息的记录或读取。该磁盘的基板由于与金属基板等相比具有不易产生塑性变形的性质，所以适用玻璃基板。 另外，为满足硬盘装置的存储容量增大的要求，人们正在谋求磁记录的高密度化。例如，使用磁性层的磁化方向相对于基板的面垂直的方向的垂直磁记录方式，进行磁记录信息区域的微细化。因此，能够使一张盘面基板的存储容量增大。并且，为了存储容量的进一步增大化，还尽量缩短从磁头的磁记录面的上浮距离进行磁记录信息区域的微细化。在这样的磁盘的基板中，磁性层平坦地形成，以使磁性层的磁化方向向着相对于基板面略垂直的方向。因此，玻璃基板表面的凹凸被做成尽可能小。另外，通过缩短磁头的上浮距离容易引起磁头猛撞故障或热粗糙故障，由于这些障碍因磁盘面上的微小的凹凸或者颗粒产生，所以，除玻璃基板的主表面外，玻璃基板的端面的表面凹凸也做得尽可能小。然而，磁盘所使用的玻璃基板，例如采用以下方法制造。具体地说，在该方法中，在作为承接料滴形成模具的下模具上提供由熔融玻璃构成的玻璃料滴，使用作为与下模具对置的料滴形成模具的上模具，加压成形玻璃料滴、制造板状玻璃材料后，加工成信息记录介质用玻璃基板(专利文献I)。在该方法中，在下模具上提供了由熔融玻璃构成的玻璃料滴后，使上模具用筒形模具的下表面和下模具用筒形模具的上表面抵接，超越上模具与上模具用筒形模具的滑动面以及下模具与下模具用筒形模具的滑动面在外侧形成薄钢板状玻璃制造空间，进一步使上模具下降而进行加压成形，加压成形之后马上使上模具上升。由此，作为磁盘用玻璃基板的母材的板状玻璃材料被成形。之后，经研削工序以及研磨工序得到磁盘用玻璃基板。在研削工序中，进行例如使用了氧化铝系游离磨粒的研削。在该工序中，使用粒子尺寸不同的游离磨粒进行第一研削工序和第二研削工序。设定在第二研削工序中使用的游离磨粒的粒子尺寸比在第一研削工序中使用的游离磨粒的粒子尺寸小。由此，按照该顺序进行粗的研削和细的研削。研磨工序中，包括例如使用了氧化铈等的游离磨粒以及硬性树脂材抛光机等的第一研磨工序，和例如使用了硅胶以及柔性树脂材抛光机等的第二研磨工序。在第一研磨工序中使用的磨粒的粒子尺寸比在研削工序中的第二研削工序中使用的磨粒的粒子尺寸小。而且，在第二研磨工序中使用的磨粒的粒子尺寸比在第一研磨工序中使用的磨粒的粒子尺寸小。如上所述，在玻璃基板的表面加工中，按照第一研削工序、第二研削工序、第一研磨工序、第二研磨工序的顺序进行，以使玻璃基板的表面粗糙度等的表面品质逐步地提高精度。现有技术文献专利文献专利文献I :专利第3709033号公报
技术实现思路
但是，用上述方法成形的玻璃基板的表面精度相对于上述磁记录的高密度化以及磁记录信息区域的微细化所要求的主表面的表面精度并不充分。例如，在成形板状玻璃材料时，为了防止玻璃材料在上模具以及下模具的模具表面融着，在模具表面涂布脱模剂，因为使用该脱模剂，所以板状玻璃材料的主表面的表面粗糙度较大。另外，上模具以及下模具的表面温度差较大，提供玻璃料滴(玻璃材料块)的下模具处于高温状态。因该表面温度差在成形的板状玻璃材料的厚度方向以及在该板的面内造成温度分布，所以，从模具取出而冷却的板状玻璃材料的收缩量也在板状玻璃材料的厚度方向以及该板的面内维持分布。因此，板状玻璃材料易弯曲，作为其结果，成形时的板状玻璃材料的平坦度低。这样的板状玻璃材料的平坦度能够通过研削(第一研削工序)提高。例如，为提高平坦度，使研削工序中的加工余量(研削量)大。但是，如果研削工序中的加工余量大，则在板状玻璃材料的表面形成深的裂缝，所以为了不残留深的裂缝，在作为后工序的研磨工序中加工余量(研磨量)必然大。但是，如果使在使用游离磨粒以及树脂抛光机的研磨工序中加工余量大，则板状玻璃材料的主表面的外周边缘部附近被削成圆滑，将产生边缘部的“下垂问题”。即，由于板状玻璃材料的外周边缘部附近被削成圆滑，所以将该板状玻璃材料作为玻璃基板使用制造磁盘时，外周边缘部附近的磁性层和磁头之间的距离比玻璃基板的其它的部分中的磁头的上浮距离变大。另外，由于外周边缘部附近呈圆滑的形状，所以，产生表面凹凸。其结果，在外周边缘部附近的磁性层，磁头的记录以及读取动作不正确，这就是“下垂问题”。另外，由于研磨工序的加工余量大，所以因研磨工序花费时间长等，在实用上并不王电相因此，本专利技术的目的在于，提供高效地制造抑制了主表面的表面凹凸的磁盘用玻璃基板的方法以及磁盘用玻璃基板。本专利技术的一个方式是一种具有一对主表面的磁盘用玻璃基板的制造方法，具有如下工序通过将熔融玻璃加压成形而成形板状玻璃材料的工序,所述板状玻璃材料其主表面具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度，并且，具有应通过研削磨粒研削的表面形状；使用固定磨粒研削所述板状玻璃材料的工序；使用游离磨粒研磨所述板状玻璃材料的工序，所述板状玻璃材料具有使用所述固定磨粒研削了的所述主表面的表面凹凸。本专利技术的一个方式是具有一对主表面的磁盘用玻璃基板的制造方法，具有如下工序通过将熔融玻璃加压成形而成形板状玻璃材料的工序,所述板状玻璃材料具有,主表面具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度、且所述主表面的粗糙度为0. 01 i! m以上10 i! m以下的表面凹凸、雾度为20%以上的光学特性；使用固定磨粒研削具有所述表面凹凸以及所述光学特性的所述板状玻璃材料的工序；使用游离磨粒研磨所述板状玻璃材料的工序，所述板状玻璃材料具有使用所述固定磨粒研削了的所述主表面的表面凹凸。另外，所谓所述“具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度”，意味着在加压成形了板状玻璃材料的时刻，主表面的平坦度已经满足作为磁盘用玻璃基板应有的主表面的表面精度。即指，在成形板状玻璃材料的工序，设定磁盘用玻璃基板的主表面的目标平坦度，基于该目标平坦度通过加压成形实现主表面具有目标平坦度的玻璃材料。对熔融玻璃进行加压成形而成形具有其主表面具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度、且主表面的粗糙度为0. 01 i! m以上10 i! m以下的表面凹凸、雾度为20%以上的光学特性的板状玻璃材料，由此经过使用固定磨粒的研削和使用游离磨粒的研磨能够制造磁盘用玻璃基板。由于不是如现有的那样由两个阶段进行使用游离磨粒的研削，所以能够高效地制造磁盘用玻璃基板。 加压成形所述板状玻璃材料的工序优选具有如下工序使熔融玻璃的块落下的工序；从所述块的落下路径两侧，用相对而置且被设定为略相同的温度的一对模具的面夹持所述块并加压成形，由此成形所述板状玻璃材料的工序。通过所述加压成形，能够制造如下板状玻璃材料，其主表面具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度，而且，具有主表面的粗糙度为0. Oliim以上IOiim以下的表面凹凸、及雾度为20%以上的光学特性。成形所述板状玻璃材料的工序优选的是，在用一对模具的面夹持块并加压成形之后马上打开一对模具本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.12.29 JP 2009-2992461.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该基板具有一对主表面，其特征在于，具有如下工序: 通过将熔融玻璃加压成形而成形板状玻璃材料的工序，所述板状玻璃材料其主表面具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度，并且，具有应通过研削磨粒研削的表面形状； 使用固定磨粒研削所述板状玻璃材料的工序； 使用游离磨粒研磨所述板状玻璃材料的工序，所述板状玻璃材料具有使用所述固定磨粒研削的所述主表面的表面凹凸。2.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该基板具有一对主表面，其特征在于，具有如下工序 通过将熔融玻璃加压成形而成形板状玻璃材料的工序，所述板状玻璃材料具有，主表面具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度、且所述主表面的粗糙度为0. Ol y m以上10 y m以下的表面凹凸、及雾度为20%以上的光学特性； 使用固定磨粒研削具有所述表面凹凸以及所述光学特性的所述板状玻璃材料的工序; 使用游离磨粒研磨所述板状玻璃材料的工序，所述板状玻璃材料具有使用所述固定磨粒研削的所述主表面的表面凹凸。3.如权利要求I或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述板状玻璃材料被成形为相对于所述磁盘用玻璃基板的目标厚度厚10 ii m 150 ii m,通过所述研...

【专利技术属性】
技术研发人员：江田伸二，矶野英树，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：