包括UV源的水净化设备制造技术

一种水净化设备，所述水净化设备包括细长的UV源和用于待净化的水的水管，水管由UV透射材料形成，其中，水管具有入口和出口，并被布置为使得水管的一部分环绕UV源的至少一部分，从而对水管内的水进行消毒，所述水净化设备还包括反射装置，反射装置用于将UV辐射反射到水管的延伸到环绕UV源的部分之外的一个或多个部分上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及净化领域。具体地说，本专利技术涉及一种水净化设备。
技术介绍
通常需要水冷却机器和其他分配设备来分配浄化过的且适于饮用的水。通常使用紫外线(UV)系统来净化水。这些系统通过利用用于消灭细菌和其他微生物的UV辐射照射水来实施净化。虽然(例如)在家庭、办公室或エ厂环境中使用的水冷却器和类似的分配机器在将水净化到足以适于饮用的水平以及消灭存在于从水源接收的水中的微生物方面非常有效，但有时可能会引起这样的问题在实际分配点或水龙头处滋生有机生物。因此，已被处 理和净化过的水可能会在分配点处受到污染。因此，目前的UV系统的缺点是在UV消毒之后，水可能会被再次污染。由于自然的细菌繁殖或人为污染导致的在经过机器喷嘴时产生的后污染(back contamination)也是公知的问题，由于水停滞的时间相对短,导致其利于有机生物在任何储存介质中生长。
技术实现思路
本专利技术意在提供一种改进的浄化设备，具体地说，提供一种改进的水分配设备。根据本专利技术的第一方面，提供ー种净化设备，该净化设备包括细长的UV源和用于待浄化的水或另一流体的水管，水管由UV透射材料形成，其中，水管具有入口和出ロ，并被布置为使得水管的一部分环绕UV源的至少一部分，从而对水管内的水或流体进行消毒，所述净化设备还包括反射装置，反射装置用于将UV辐射反射到水管的延伸到环绕UV源的部分之外的ー个或多个部分上。利用这样的布置方式，通过反射增强了在水管的所有部分上的UV辐射。根据本专利技术的另一方面，提供一种用于可流动物质的设备，该设备包括容器，由UV透射材料形成，用于可流动物质；装置，用于以这样的布置方式容纳UV源，使得容纳在容器内的物质直接受到来自UV源的UV辐射的作用；入口和出口，到达容器，该设备还包括反射装置，该反射装置用于将来自灯的UV辐射反射到入口和/或出口的至少一部分上。在另一方面，本专利技术包括液体保持装置，该液体保持装置包括装置，用于以这样的布置方式容纳UV源，使得容纳在保持装置内的液体受到来自UV源的UV辐射的作用；入口和出口，到达液体保持装置，该液体保持装置还包括反射装置，该反射装置用于将来自灯的UV辐射反射到入口和/或出口的至少一部分上。优选地，反射装置包括帽，至少出ロ穿过帽，帽具有反射UV辐射的表面，从而将来自UV源的一部分UV辐射反射到容器/水管的ー个或多个部分上。优选地，UV反射腔安装在套管的环绕UV源的整个部分上，从而反射已经透射穿过水管的uv，uv往回穿过水管并到达腔的各个部分。在优选实施例中，设置水龙头，水龙头由UV反射材料制成，并被布置为使得UV辐射的一部分被水龙头反射到水管的出口和/或入口上，从而对出口和/或入口处的水进行消毒。对于传统的分配器，微生物可能会从出口进入分配点，或者可能会存在于水龙头本身，微生物会污染在经过UV源时已经被事先消毒过的水。通过设置被布置为将来自灯的辐射的至少一部分反射到水管的端部或者非常靠近该端部的部分的端帽和/或水龙头，就可以处理这些微生物。这可极大地提高消毒的效率和效果，并可获得质量更高的饮用水。这还防止微生物和污染物可能通过分配喷嘴/水龙头被引入的后污染。优选地，帽具有适于将UV辐射反射到水管的没有环绕UV源的部分的表面。帽可具有至少ー个内表面，所述至少ー个内表面被布置为将UV辐射反射到水管的入口和/或出ロ的至少一部分上。 帽的反射内表面可朝着水管的出ロ逐渐变细。帽的反射内表面可包括底表面、顶表面及在顶表面和底表面之间延伸的侧表面，其中，至少侧表面和/或顶表面朝着出口逐渐变细。优选地，随着反射内表面延伸远离UV源，反射内表面会聚。帽沿着ー个方向的范围可大于帽沿着另一方向的范围。帽的截面大致可呈扇形。帽的截面可具有第一弯曲端和第二弯曲端，第一弯曲端具有第一曲率半径，第二弯曲端具有较大的第二曲率半径。这些弯曲端可通过直侧部进行接合。UV源可在第二弯曲端内轴向地延伸或部分地延伸，水管的出ロ可轴向地位于第ー弯曲端内。通过这种逐渐变细/会聚/扇形的布置方式，随着与UV源的距离增加，反射的辐射优选地可朝着设置水管的出ロ的点集中，以通过反射的辐射有效地照射水管的出ロ。优选地，反射帽提供延伸到水管的外径范围之外的反射路径。水龙头可被布置为使得水龙头将UV辐射反射到出口上。水龙头可包括帽的一部分。在任何情况下，水龙头连接到帽以形成完整的折射路径是优选的。优选地，水管延伸到水龙头中，但是未到达水龙头的端部，从而水管的出ロ相对于水龙头的出口凹入。水管的延伸到水龙头中的部分可被水龙头遮护，使其免受来自UV源的直接辐射。该设备可包括具有UV反射内表面的腔，腔安装在水管的整个环绕部分上，从而将辐射往回反射到水管。腔可終止于帽中。可通过设置围绕UV源布置的卷绕式或螺旋式容器/水管来进行环绕。UV源可以是ー盏或多盏UV灯。UV源是UVC源将是最优选的。水管的入口和出ロ可布置在设备的相同端部或者设备的相对两端。根据本专利技术的另一方面，提供一种内嵌式水浄化设备，该水浄化设备包括水管，用于待净化的水，水管环绕细长的UV源并具有出ロ ；反射装置，被布置为使得UV辐射被反射装置反射到出口上。可设置水龙头，水龙头具有反射表面并被布置为将UV反射到出口上。本专利技术的实施例可确保所有类型的水浄化器均在分配点处被净化，同时减轻后污染。本专利技术尤其可适用于环境水、苏打水和冷水或者其他流体。实施例还可适用于多种其他类型的液体、流体或其他可流动物质。附图说明现在，将參照附图仅以示例的方式描述本专利技术的实施例，在附图中图I示出了 UV消毒设备的一部分；图2示出了环绕有水管的消毒设备；图3(a)和图3(b)不出了穿过消毒设备的局部截面； 图4示出了包括水龙头的可选设备；图5示出了移除了端帽的图4的设备；图6是图4和图5的实施例的一些部件的分解视图；图7是第二实施例的端部的视图；图8(a)和图8(b)是从移除了帽的第二实施例的端部的上方观看的视图；图9示出了第三实施例；图10是第三实施例的可选视图；图11是去除了帽的一部分的第三实施例的视图；图12是第三实施例的部件的分解视图；图12(a)示出了帽的一部分的透视图；图12(b)示出了帽的局部截面图，示出了 UV辐射的集中；图12(c)示出了具有斜切的前部的第三实施例的侧视图；图13示出了安装在水分配器中的第三实施例的消毒単元；图14示出了端帽；图15示出了具有位于相对两端的水入口和水出口的第四实施例；图16示出了具有包括水龙头的设备的第五实施例；图17示出了具有楔形反射端帽的第六实施例；图18示出了圈数较少的实施例；图19示出了使用反射镜的实施例；图20示出了具有可选的水管/套管的实施例；图21示出了可选的水管设计；图22和图23示出了可选的UV灯设计；图24示出了另ー实施例。具体实施例方式图I示出了用于水分配器(其通常可具有通常在办公室或其他环境中使用的被更普遍地称为水冷却器的类型)的消毒设备的一部分。这样的水分配器需要在分配水之前对水进行适当的消毒。为此，通常使用紫外线(UV)消毒。如果以正确的频率和強度使用UV，则UV可有效地消灭细菌和其他微生物。这些本身就是众所周知的，并不是本专利说明书的主題。应该注意的是，虽然流体通常将是水，但是流体可以是其他流体或饮料。图I示出了具有细长的UV灯I的形式的典本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.10.27 GB 0918824.4;2010.03.08 GB 1003794.31.ー种净化设备，所述净化设备包括细长的UV源和用于待净化的水或另一流体的水管，水管由UV透射材料形成，其中，水管具有入口和出ロ，并被布置为使得水管的一部分环绕UV源的至少一部分，从而对水管内的水或流体进行消毒，所述净化设备还包括反射装置，反射装置用于将UV辐射反射到水管的延伸到环绕UV源的部分之外的ー个或多个部分上。2.根据权利要求I所述的设备，其中，反射装置包括帽，帽具有适于将UV辐射反射到水管的没有环绕UV源的部分的表面。3.根据权利要求2所述的设备，其中，帽具有至少ー个内表面，所述至少ー个内表面被布置为将UV辐射反射到水管的入口和/或出口的至少一部分上。4.根据权利要求2或3所述的设备，其中，帽的反射内表面朝着水管的出ロ逐渐变细。5.根据权利要求2至4中任一项所述的设备，其中，反射内表面随着反射内表面延伸远离UV源而会聚。6.根据权利要求2至5中任一项所述的设备，其中，反射内表面被布置为随着反射内表面延伸远离UV源而使辐射集中。7.根据权利要求2至6中任一项所述的设备，其中，帽在ー个方向上的范围大于帽在另一方向上的范围。8.根据权利要求2至7中任一项所述的设备，其中，帽的截面大致呈扇形。9.根据权利要求2至8中任一项所述的设备，其中，帽的反射内表面包括底表面、顶表面及在顶表面和底表面之间延伸的侧表面，其中，至少顶表面和/或侧表面朝着出口逐渐变细。10.根据权利要求2至9中任一项所述的设备，其中，反射帽提供延伸到水管的外径范围之外的反射路径。11.根据权利要求2至10中任一项所述的设备，其中，设置水龙头，该水龙头具有反射表面并被布置为使得水龙头将UV辐射反射到出口上。12.根据权利要求11所述的设备，...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔纳森·本大卫，金炯淳，
申请(专利权)人：WLI贸易有限公司，
类型：发明
国别省市：