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一种非接触式电化学抛光系统装置制造方法及图纸

技术编号:7710697 阅读:318 留言:0更新日期:2012-08-25 08:10
一种非接触式电化学抛光系统装置,包括一机架及一抛光系统装置,其中,所述抛光系统装置包括:一放料装置;一低压等离子抛光装置,连接到所述放料装置;一高压等离子抛光装置,连接到所述低压等离子抛光装置;一超声清洁及风干防锈装置,连接到所述高压等离子抛光装置;一收料装置,连接到所述超声清洁及风干防锈装置;所述非接触式电化学抛光系统装置还包括:一PLC控制器及外部电源及一预热水箱。本实用新型专利技术具有自动化程度高,有利于提高生产效率,抛光效果好,安全可靠等优点。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种电化学抛光系统装置,尤其涉及ー种非接触式电化学抛光系统装置
技术介绍
机械加工后的エ件,如针布用的齿条,还有其它成卷的线材等,加工后都存在加工表面残留的微观不平度,这些不平度不仅影响エ件的外观,还会影响产品的性能,所以去除加工表面残留的不平度成为エ件光整加工的关键エ序。为了提高产品性能和市场竞争力,人们很重视和研究抛光技术,设计制造了各种抛光设备及装置。电解抛光是以被抛エ件为阳极,不溶性金属为阴极,两极同时浸入到电解槽中,通 以直流电而产生有选择性的阳极溶解,从而达到エ件表面光亮度増大的效果。电解抛光的原理电解抛光原理现在世界各界人士争论很多,被大家公认的主要为黏膜理论。该理论主要为エ件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成ー层磷酸盐膜吸附在エ件表面,这种黏膜在凸起处较薄,凹处较厚,因凸起处电流密度高而溶解快,随黏膜流动,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被整平的过程。电解抛光的优点有(I)内外色泽一致,光泽持久,机械抛光无法抛到的凹处也可整平。(2)生产效率高,成本低廉。(3)增加工件表面抗腐蚀性。但是就现有技术的电化学抛光装置来看,其基本是以手工或是电解法,手工抛光费エ时,劳动强度大,效率低还难以保证产品质量。电解法成本高,对环境污染极大,后续处理困难。
技术实现思路
鉴于现有技术中的电化学抛光装置所存在的不足。本技术的目的在于提供一种具有自动化程度高,有利于提高生产效率,抛光效果好,安全可靠等优点的非接触式电化学抛光系统装置。为实现本技术的上述目的,本技术提供了ー种非接触式电化学抛光系统装置,包括一机架及一抛光系统装置,其中,所述抛光系统装置包括一放料装置,所述放料机构由铝合金机架和马达构成;一低压等离子抛光装置,所述低压等离子抛光装置连接到所述放料装置;一高压等离子抛光装置,所述高压等离子抛光装置连接到所述低压等离子抛光装置;一超声清洁及风干防锈装置,所述超声清洁及风干防锈装置连接到所述高压等离子抛光装置;ー收料装置,由收料装置机架和马达构成,所述收料装置连接到所述超声清洁及风干防锈装置;所述非接触式电化学抛光系统装置还包括一 PLC控制器及外部电源及一预热水箱;所述外部高压电源及PLC控制器连接到所述抛光系统装置并用于控制所述抛光系统装置并提供高压电源;所述预热水箱连接到所述抛光系统装置并用于为所述抛光系统装置提供水源。根据本技术的上述构思,所述放料装置、低压等离子抛光装置、高压等离子抛光装置、超声清洁及风干防锈装置、收料装置顺序连接。根据本技术的上述构思,所述低压等离子抛光装置包括顺序连接一第一低压松膜装置、一水淋装置、一第二低压松膜装置。根据本技术的上述构思,所述高压等离子抛光装置包括顺序连接一第一水喷淋装置、一第一高压阳极装置、一第二水喷淋装置、一高压阴极装置及ー排气装置。根据本技术的上述构思,所述高压等离子抛光装置为3个,所述3个高压等离子抛光装置顺序连接。根据本技术的上述构思,所述超声清洁及风干防锈装置包括顺序连接的一第ー风干防锈装置水喷淋装置、一超声波清洁装置、一第二风干防锈装置水喷淋装置、ー纯水 清洁装置及ー风干防锈装置。所述风干防锈装置由冷冻干燥机、风刀、防锈槽、防锈液储液槽、循环泵组成。根据本技术的上述构思,所述PLC控制器及外部电源包括顺序连接的一 PLC控制器、一变频器、ー低压电源及高压电源。根据本技术的上述构思,所述高压电源为3个,且并列设置。根据本技术的上述构思,所述低压松膜装置包括自上而下设置于所述机架上的一上储液箱、一抛光槽、一下储液箱以及一通过水管分别连接所述上储液箱及下储液箱的一水泵。本技术的优点和有益效果在于利用阳极金属电化学溶解反应的原理,エ件经过抛光槽就会产生阳极溶解反应,就能去除エ件加工表面残留的微观不平度,以降低エ件表面粗糙度,进而提高工件的亮度。抛光效果好,易于实践自动化。具有自动化程度高,有利于提高生产效率,抛光效果好,安全可靠等优点。附图说明图I是本技术的ー种非接触式电化学抛光系统装置的立体结构示意图;图2是本技术的ー种非接触式电化学抛光系统装置的低压松膜装置的立体结构示意图。具体实施方式为了进一步说明本技术的原理和结构,现结合附图对本技术的优选实施例进行详细说明,然而所述实施例仅为提供说明与解释之用,不能用来限制本技术的专利保护范围。如图I、图2所示的为本技术的ー种非接触式电化学抛光系统装置,包括一机架I及一抛光系统装置2,其中,所述抛光系统装置2包括一放料装置(图未示);ー低压等离子抛光装置21,所述低压等离子抛光装置21连接到所述放料装置(图未示);ー高压等离子抛光装置22,所述高压等离子抛光装置22连接到所述低压等离子抛光装置21 ; —超声清洁及风干防锈装置23,所述超声清洁及风干防锈装置23连接到所述高压等离子抛光装置22 ;—收料装置24,所述收料装置24连接到所述超声清洁及风干防锈装置23 ;所述非接触式电化学抛光系统装置还包括一 PLC控制器及外部电源3及一预热水箱4 ;所述外部高压电源及PLC控制器3连接到所述抛光系统装置2并用于控制所述抛光系统装置2并提供高压电源;所述预热水箱4连接到所述抛光系统装置2并用于为所述抛光系统装置2提供水源。根据本技术的上述构思,所述放料装置(图未示)、低压等离子抛光装置21、高压等离子抛光装置22、超声清洁及风干防锈装置23、收料装置24顺序连接。根据本技术的上述构思,所述低压等离子抛光装置21包括顺序连接一第一低压松膜装置211、一水淋装置212、一第二低压松膜装置213。根据本技术的上述构思,所述高压等离子抛光装置22包括顺序连接一第一水喷淋装置221、一第一高压阳极装置222、一第二水喷淋装置223、一高压阴极装置224及一排气装置225。根据本技术的上述构思,所述高压等离子抛光装置22为3个,所述3个高压等离子抛光装置22顺序连接。 根据本技术的上述构思,所述超声清洁及风干防锈装置23包括顺序连接的一第一风干防锈装置水喷淋装置231、一超声波清洁装置232、一第二风干防锈装置水喷淋装置233、ー纯水清洁装置234及ー风干防锈装置235。根据本技术的上述构思,所述PLC控制器及外部电源3包括顺序连接的一 PLC控制器31、一变频器32、一低压电源33及高压电源34。根据本技术的上述构思,所述高压电源34为3个,且并列设置。根据本技术的上述构思,所述低压松膜装置211包括自上而下设置于所述机架上的一上储液箱2111、一抛光槽2112、一下储液箱2113以及一通过水管2114分别连接所述上储液箱2111及下储液箱2113的一水泵2115。本技术的优点和有益效果在于利用阳极金属电化学溶解反应的原理,エ件经过抛光槽就会产生阳极溶解反应,就能去除エ件加工表面残留的微观不平度,以降低エ件表面粗糙度,进而提高工件的亮度。抛光效果好,易于实践自动化。具有自动化程度高,有利于提高生产效率,抛光效果好,安全可靠等优点。上述内容仅为本技术的较佳实施例及例举的变型方式,并不用来限制本技术,凡是在本技术的精神和原则之内,所作的任何无须创造性思维的修改与改进,均应包含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.ー种非接触式电化学抛光系统装置,包括一机架及一抛光系统装置,其特征在于 所述抛光系统装置包括 一放料装置; 一低压等离子抛光装置,所述低压等离子抛光装置连接到所述放料装置; 一高压等离子抛光装置,所述高压等离子抛光装置连接到所述低压等离子抛光装置;一超声清洁及风干防锈装置,所述超声清洁及风干防锈装置连接到所述高压等离子抛光装置; ー收料装置,所述收料装置连接到所述超声清洁及风干防锈装置; 所述非接触式电化学抛光系统装置还包括一 PLC控制器及外部电源及一预热水箱;所述外部高压电源及PLC控制器连接到所述抛光系统装置并用于控制所述抛光系统装置并提供电源; 所述预热水箱连接到所述抛光系统装置并用于为所述抛光系统装置提供水源。2.如权利要求I所述的ー种非接触式电化学抛光系统装置,其特征在于 所述放料装置、低压等离子抛光装置、高压等离子抛光装置、超声清洁及风干防锈装置、收料装置顺序连接。3.如权利要求I所述的ー种非接触式电化学抛光系统装置,其特征在于 所述低压等离子抛光装置包括顺序连接一第一低压松膜装置、一水淋装置、一第二低压松膜装置。4.如权利要求I...

【专利技术属性】
技术研发人员:李庆
申请(专利权)人:李庆
类型:实用新型
国别省市:

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