旋涂系统技术方案

技术编号:769447 阅读:260 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种旋涂系统,包括一旋涂机、一第一管线、一导出装置、一第一回收管线以及一检测装置。第一管线用以导入一第一液体至旋涂机。导出装置用以导出流经旋涂机的第一液体,其中导出装置具有一切换装置。第一回收管线连接至导出装置。检测装置设置在第一管线中,并电性连接至切换装置。其中,当第一液体流经于第一管线中时,检测装置传送信号至切换装置,使得来自于旋涂机中的第一液体,可经由导出装置,流入第一回收管线中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种,特别是关于一种,可将流入旋涂系统中的不同液体,分别的流入不同储存装置中,以利于后续的回收再利用。
技术介绍
于LCD阵列微影制作工艺中,会将光阻液均匀的涂布于玻璃基板的表面,而为使光阻液可均匀的涂布于玻璃基板上,通常可通过一旋涂系统,以达到可均匀涂布的目的。请参阅图1,图1为传统旋涂系统10示意图。旋涂系统10包括一旋涂机11、一第一管线13、一第二管线14、一导出装置15、一回收管线18以及一回收槽19。旋涂机11用以带动一玻璃基板12,使玻璃基板12可进行转动,以利于后续玻璃基板12可进行旋涂制作工艺。其中,旋涂机11包括一基座111、一转轴112、一旋转平台113以及一旋涂室114。其中,基座111设置在旋涂室114中。转轴112枢接于基座111内的一电机(未显示),通过电机,使得转轴112可进行转动。而旋转平台113设置在转轴112的上方,通过转轴112,以带动旋转平台113转动,进而使设置在其上方的一玻璃基板12,可进行转动。另外,第一管线13连接于旋涂机11,且用以导入光阻液13a于转动中的玻璃基板12上。通过旋转涂布的方式,将光阻液13a均匀的涂布于玻璃基板12上。其中,在涂布过程中,大约仅有10%以下的光阻液可涂布于玻璃基板12上,而多余的光阻液(约90%以上)会在后续流入导出装置15中。导出装置15设置在旋涂机11的下方,且用以将多余液体排出于旋涂室114中。其中,导出装置15具有一流道151以及一出液口152,流道151通常设置在旋涂机11的下方,且具有斜度,以利于将液体集中,并通过出液口152,以将液体排出于旋涂室114中。另外,回收管线18的两端分别连接于出液口152以及回收槽19。其中,来自于导出装置15的液体,可经由回收管线18,以流入回收槽19中。此外,旋涂机11进行多片玻璃基板17的涂布后,第二管线14将清洗液14a导入旋涂机11中,以清洗旋涂机11(特别是旋涂机11中的旋转平台113),此清洗目的在于避免旋涂机11因沾附过多的光阻液13a,而影响后续其它玻璃基板的涂布。其中,所用以清洗旋涂机11的清洗液14a会在后续经由导出装置15以及回收管线18,流入回收槽19中。对于上述传统旋涂系统10而言,旋涂系统10将多余的光阻液以及清洗液,通过导出装置15以及回收管线18,以回收于回收槽19中。其中,此回收槽19中的混合液体会在后续通过一液体分离程序,以使混合液体中的光阻液以及清洗液,可回收再利用。然而,由于上述光阻液于混合液体中的浓度很低,因此,要将光阻液于混合液体中分离出来,必需耗费大量的成本,才得以将光阻液分离于混合液体中。有鉴于此,本专利技术提供一种旋涂系统,可分别将光阻液以及清洗液分别储存于不同回收槽,以避免因光阻液于混合液体中的浓度过低,而增加液体分离程序的成本。
技术实现思路
本专利技术的主要目的提供一种,可将流入旋涂系统中的不同液体,分别的流入不同储存装置中,以利于后续的回收再利用。本专利技术提供一种旋涂系统,包括一旋涂机、一第一管线、一导出装置、一第一回收管线以及一检测装置。第一管线用以导入一第一液体至旋涂机。导出装置用以导出流经旋涂机的第一液体,其中导出装置具有一切换装置。第一回收管线连接至导出装置。检测装置设置在第一管线中,并电性连接至切换装置。其中,当第一液体流经于第一管线中时,检测装置传送信号至切换装置,使得来自于旋涂机中的第一液体,可经由导出装置,流入第一回收管线中。本专利技术提供一种用于旋涂系统的液体回收的方法,包括下列步骤1)设置一旋涂机。2)设置一第一管线,其中第一管线用以导入一第一液体至旋涂机。3)设置一导出装置,而导出装置用以导出流经旋涂机的第一液体,其中导出装置具有一切换装置。4)连接一第一回收管线至导出装置。5)设置一检测装置于第一管线中,其中,检测装置电性连接至切换装置。6)当第一液体流经于第一管线中时,检测装置传送信号至切换装置,使得来自于旋涂机中的第一液体,可经由导出装置,流入第一回收管线中。关于本专利技术的优点与精神可以借由以下的专利技术详述及附图得到进一步的了解。附图说明借由以下详细的描述结合所附图标,将可轻易的了解上述内容及此项专利技术的诸多优点,其中图1为传统旋涂系统示意图;图2为本专利技术旋涂系统示意图;图3为本专利技术另一实施例旋涂系统示意图;图4为本专利技术线性滑轨设置在底盘下的示意图;以及图5为本专利技术另一实施例旋涂系统示意图。主要组件符号说明 具体实施方式请参阅图2,图2为本专利技术旋涂系统20示意图。旋涂系统20包括一旋涂机21、一第一管线23、一第二管线24、一导出装置25、一第一回收管线27、一第二回收管线28、一回收筒29、一回收槽285、一控制单元32以及一检测装置26。旋涂机21用以带动一玻璃基板22,使玻璃基板22可进行转动,以利于后续玻璃基板22可进行旋涂制作工艺。其中,旋涂机21包括一基座211、一转轴212、一旋转平台213以及一旋涂室214。其中,基座211设置在旋涂室214中。转轴212枢接于基座211内的一电机(未显示),通过电机,以使转轴212可进行转动。而旋转平台213设置在转轴212的上方,通过转轴212,以带动旋转平台213转动,进而使设置在其上方的一玻璃基板22,可进行转动。另外,第二管线24连接于旋涂机21,并用以导入一第二液体24a至旋涂机21。在本实施例中,上述第二液体24a为一光阻液,且用以涂布于转动中的玻璃基板22上。通过玻璃基板22转动时的离心力,可使得光阻液可均匀的分布于玻璃基板22上。而大多的光阻液因玻璃基板22转动时的离心力,会溅散于旋涂室214中,并在后续流入导出装置25中。以及,第一管线23连接于旋涂机21,并用以导入一第一液体23a至旋涂机21。在本实施例中,上述第一液体23a为一清洁液,而清洁液的主要目的在于清洗旋涂机21(特别是旋涂机21中的旋转平台213),以避免旋涂机21因沾附过多的光阻液,而影响后续其它玻璃基板的涂布。而清洗旋涂机21后的清洁液,会在后续流入导出装置25中。并且,导出装置25设置在旋涂机21的下方,用以导出流经旋涂机21的第一液体23a以及第二液体24a。以本实施例而言,导出装置25具有一流道251、一出液口252、一导出管线254以及一切换装置253。流道251通常设置在旋涂机21的下方,且具有斜度,以利于将液体(23a、24a)集中,并通过出液口252,以将液体(23a、24a)排出于旋涂室214中。导出管线254的一端连接于出液口252,另一端则连接于切换装置253。切换装置253具有第一流道口25a、第二流道口25b以及第三流道口25c。其中,第一流道口25a连接导出管线254,第二流道口25b连接第一回收管线27,而第三流道口25c连接第二回收管线28。通过切换装置253,可将来自于第一流道口25a中的液体,经由第二流道口25b,流入第一回收管线27中,或经由第三流道口25c,流入第二回收管线28中。其中,上述切换装置253可为三相阀,但不以此为限,只要切换装置253具有三个流道口(A流道口、B流道口以及C流道口),且可将来自于A流道口的液体,流入B流道口或C流道口中,均应属于本专利技术切换装置253的专利技术范畴之本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种旋涂系统,包括:一旋涂机;一第一管线,用以导入一第一液体至该旋涂机;一导出装置,用以导出流经该旋涂机的该第一液体,其中该导出装置具有一切换装置;一第一回收管线,连接至该导出装置;以及一检测装置,设 置在该第一管线中,并电性连接至该切换装置,其中,当该第一液体流经于第一管线中时,该检测装置传送信号至该切换装置,使得来自于该旋涂机中的该第一液体,可经由该导出装置,流入该第一回收管线中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈志慧颜瑞伯
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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