盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置，包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台（1）、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，和控制所述可旋转工位平台（1）、头部外周表面浸釉装置、头部内孔注釉装置配合作业的电气控制柜（4）。本实用新型专利技术通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在一旋转平台工位上，藉助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程，实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面和内孔布釉的工艺方式，上釉工艺过程效率高、劳动强度低，满足了高效的批量化布釉生产作业要求。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及上釉装置
，特别涉及ー种盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置。
技术介绍
现有的盘形悬式瓷绝缘子瓷件由头部和与其连接的伞部组成为一体。所述的瓷件通常经过瓷泥制备、瓷泥坯件制备、瓷泥坯件布釉、高温烧结等系列エ艺制造而成。其中瓷泥还件上釉的エ艺分为ニ种情况，ー种为同一还件头部与伞部内外所有表面布有同一种性质釉水层，另ー种情况为坯件头部与伞部的内表面和外表面的釉水层在有顔色或理化指标等方面存在明显性质区別。实际生产中前一种情况已经实现布釉采取整体一次浸没的エ艺方式，并在实际生产中实现了批量机械化或自动化作业，后一种情况由于坯件头部一般为近似“ n ”形平底管形状，“ n ”形上部呈封闭状使液状釉水无法通过，导致后ー种情况的坯件头部内外表面布釉过程的难度和复杂性。实际生产中后一种情况的坯件伞部内外所有表面布釉可以依靠现有机械化或自动化装置来完成，而坯件头部内外表面布釉需要通过人工涂刷先完成“ n”形内侧所有表面的布釉，“ n ”形倒置后再涂刷完成“ n ”形外侧所有表面的布釉，上釉エ艺过程效率低、劳动强度大，且因釉层均匀性难以保证影响高温烧结后的瓷件质量的合格率低，不利于批量生产的连续生产作业。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于在盘形悬式瓷绝缘子的坯件头部与伞部的内表面和外表面的釉水层在有顔色或理化指标等方面存在明显性质区别的情况下，提供一种通过电气控制的自动化机械布釉装置。为解决上述技术问题，本技术的第一方面技术方案为盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置，其特征在于，包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转エ位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，和控制所述可旋转エ位平台、头部外周表面浸釉装置、头部内孔注釉装置配合作业的电气控制柜。优选地，所述可旋转エ位平台由“U”形叉エ位、转轴、承座这三部分依次构成，所述“U”形叉エ位连接在所述的转轴上，且所述转轴由承座支撑，所述的可旋转エ位平台还包括ー驱动转轴旋转的转轴驱动装置。优选地，所述“U”形叉エ位包括复数个水平方向均匀分布的エ位单元；所述转轴 驱动装置驱动转轴转动后带动所有“U”形叉エ位作整体水平旋转动作。优选地，所述头部外周表面浸釉装置由浸釉缸体和缸体升降装置构成，且设于某一“U”形叉エ位下方；所述缸体升降装置设有托住缸体并带动缸体升降的缸体托架，所述缸体升起后可浸没所述瓷泥坯件头部外周，缸体下降后可使所述瓷泥坯件完成头部浸釉后顺利向下ーエ位旋转。优选地，所述头部内孔注釉装置由注釉罐、罐体支架、注吸釉泵、釉浆输送管、气动升缩泵构成；所述注釉罐的罐体和注吸釉泵固定在罐体支架上，气动升缩泵固定干支架前方并位于某一“U”形叉エ位上方，气动升缩泵所作升缩动作将釉浆输送管送入或退出某一瓷泥坯件头部内孔来完成注入并及时吸出釉水的过程。优选地，瓷泥坯件倒置安放在“ U”形叉エ位的エ位单元上，即瓷泥坯件的伞部在上方、头部在下方。优选地，所述“U”形叉エ位包括4-8个水平方向均匀分布的エ位单元。一种电气控制的自动化机械布釉方法，其包括如下步骤①.将所述瓷泥坯件倒置放置在可旋转エ位平台的エ位单元上，至少其中ー瓷泥坯件下方对应着头部外周表面浸釉装置的浸釉缸；②.缸体升降装置升起使瓷泥坯件的头部外周全部浸入缸体，缸体升降装置降下缸体后缸体远离瓷泥坯件的头部，即完成对头部外周表面的上釉，③.旋转エ位平台启动进行旋转，所述至少ー个瓷泥坯件进入头部内孔注釉罐下部，气动升缩泵将釉浆输送管推入头部内孔底部后通过注吸釉泵将罐体内的釉水注入头部内孔限定位置，釉水注入停止后的数秒时间内注吸釉泵进ー步将所注釉水由头部内孔抽回罐体后气动升缩泵将釉浆输送管缩离瓷泥坯件即完成头部内孔的上釉；④.旋转エ位平台启动进行旋转，继续进行后续瓷泥坯件的外周表面上釉及头部内孔的上釉。优选地，所述的步骤③和步骤④先后顺序可以调换。所述头部上釉エ艺装置包括4个技术要点所述“U”形叉エ位由多个构成，并沿转轴呈360°阵列布置在同一平面；所述头部在布釉过程中“ n ”形始終倒置安放；所述伞部在布釉过程中始終放置在“u”形叉エ位；所述头部外周表面浸釉缸的缸体位于“u”形叉エ位下方，缸体升起后可浸没所述头部外周，缸体下降后可使所述瓷泥坯件顺利旋转至下ーエ位处；所述头部内孔注釉罐设有釉水注入和釉水吸出的双重功能。相比于现有技术中的解决方案，本技术优点(I)本技术通过将瓷泥坯件“ n ”形头部的倒置安放在一旋转平台エ位上，藉助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程，实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面和内孔布釉的エ艺方式，上釉エ艺过程效率高、劳动强度低，满足了高效的批量化布釉生产作业要求。(2)本技术采取坯件外周表面直接浸没和不通透坯件内孔表面注浸没的布釉方式，保证了所布坯件表面釉层的均匀性，避免了釉层不均匀对瓷件质量造成的影响；( 3 )本技术在不通透坯件内孔表面实施自动注浸没布釉后另设有自动吸釉功能，避免多余的釉水任意流挂或堆积现象，提高了釉层外观质量。以下结合附图及实施例对本技术作进ー步描述图I本技术装置结构示意图。图2本技术装置结构俯视示意图。其中I旋转エ位平台；11 “U”形叉エ位；111エ位单元；12转轴；13转轴驱动装置；14承座； 2浸釉缸；21缸体；22缸体升降装置；23缸体托架；3头部内孔注釉罐；31罐体；32罐体支架；33注吸釉泵；34、釉浆输送管；35气动升缩泵；4电气控制柜；5瓷泥坯件；51头部；52伞部。具体实施方式以下结合具体实施例对上述方案做进ー步说明。应理解，这些实施例是用于说明本技术而不限于限制本技术的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进ー步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。实施例如图I 2所示，ー种盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置，包括其上放置倒置瓷泥坯件5的可旋转エ位平台I、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，和控制所述可旋转エ位平台I、头部外周表面浸釉装置、头部内孔注釉装置配合作业的电气控制柜4。所述可旋转エ位平台I由“U”形叉エ位11、转轴12、承座14这三部分依次构成，所述“U”形叉エ位11连接在所述的转轴12上，且所述转轴由承座14支撑,所述的可旋转エ位平台I还包括ー驱动转轴12旋转的转轴驱动装置13，且所设转轴驱动装置13安装于承座14边侧。所述“U”形叉エ位11包括复数个水平方向均匀分布的エ位单元111 ;所述转轴驱动装置13驱动转轴12转动后带动“U”形叉エ位11作整体水平旋转动作。所述头部外周表面浸釉装置由浸釉缸体2和缸体升降装置22构成，且设于某一“U”形叉エ位11下方；所述缸体升降装置22设有托住缸体21并带动缸体21升降的缸体托架23，所述缸体21升起后可浸没所述瓷泥坯件头部外周，缸体21下降后可使所述瓷泥坯件完成头部浸釉后顺利向下ーエ位旋转。所述头部内孔注釉装置由注釉罐3、罐体支架32、注吸釉泵33、釉浆输送管34、气动升缩泵35构成；所述注釉罐3的罐体31和注吸釉泵33固定在罐体支架32上，气动升缩泵35固定干支架前方并位于某一“U”形叉本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周永新，瞿海生，叶敏，郭小东，方剑雄，陆建平，戴裕军，沈剑强，吕海侠，黄红，
申请(专利权)人：苏州电瓷厂有限公司，
类型：实用新型
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