一种激光光刻辅助电化学沉积制备微织构方法及其装置，属于制备表面结构化镀层的方法及其装置。方法为采用脉冲激光光刻技术对预先旋涂了光刻胶的金属材料表面进行光刻，然后浸入显影液中除去曝光的光刻胶，继而采用电化学沉积技术对材料表面进行复合镀层的可控电沉积，最后再清除未被曝光的光刻胶，在金属材料表面得到带有规则微观织构的表面复合镀层，实现表面摩擦学性能的最大化；装置为脉冲激光光刻系统装置和电化学沉积装置，所述的激光光刻系统由脉冲激光模块、光路传输模块和三维移动模块依次顺序连接；优点：结构可控。复合镀层的结构、成分可控。应用范围广。结合激光光刻加工技术与电化学沉积技术，实现材料表面减摩抗磨性能的最大化。
【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨海峰，刘磊，郝敬斌，朱华，
申请(专利权)人：中国矿业大学，
类型：发明
国别省市：
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