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双级日光温室制造技术

技术编号:7615171 阅读:180 留言:0更新日期:2012-07-27 00:55
双级日光温室。现有的温室只有一层结构,实用性差、实用性差、效率低、保温效果不佳、能耗高、土地利用系数低。一种双级温室,其组成包括:前墙板(1)、后保温墙板(2),所述的前墙板连接竖向透明墙板(3),所述的竖向透明墙板连接斜向透明墙板(4),所述的斜向透明墙板与所述的后保温墙板之间装有衍架(5),所述的衍架连接保温棚(6),所述的保温棚连接积光室(7),所述的后保温墙板内连接悬梁(8),所述的悬梁上面连接上支撑梁(9),所述的悬梁下面连接下支撑梁(10),所述的前墙板与所述的后保温墙板之间连接保温侧墙板(15)。本实用新型专利技术用于日光温室。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种新型日光温室领域,具体涉及一种双级日光温室
技术介绍
现有的温室只有一层结构,实用性差、实用性差、效率低、保温效果不佳、能耗高、 土地利用系数低。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种吸收阳光的能力强、保温效果好的、利用率高的温室。上述的目的通过以下的技术方案实现一种双级日光温室,其组成包括前墙板、后保温墙板和保温侧墙板,所述的前墙板连接竖向透明墙板,所述的竖向透明墙板连接斜向透明墙板,所述的斜向透明墙板与所述的后保温墙板之间装有衍架,所述的衍架连接保温棚,所述的保温棚连接积光室,所述的后保温墙板内连接悬梁,所述的悬梁上面连接上支撑梁,所述的悬梁下面连接下支撑梁, 所述的前墙板与所述的后保温墙板之间连接保温侧墙板。所述的双级日光温室,所述的悬梁上面装有地板,所述的悬梁将温室分为上层温室和下层温室,在所述的上层温室的后保温墙板上装有透气窗,在所述的下层温室的后保温墙板上装有透气窗。所述的双级日光温室,所述的积光室内装有集光器。有益效果I.本技术高效节能,可比传统日光温室节能30—40%o2.本技术的温度分布合理,便于植物生长。上层温室温度高,便于植物催芽育苗,下层温室温度比上层低,便于炼苗和植物生长。3.本技术的下层温室设直立面,可增大温室空间,也便于操作。4.本技术温室斜面最佳水平倾斜角为33 38度,便于太阳光射入。5、由于温室为双级,充分利用空间以扩大温室的栽培面积,而且本产品的二层温室设有前伸悬梁,扩大了温室有效种植面积,土地利用系数比传统温室高50%以上。附图说明附图I为本产品的结构示意图。具体实施方式实施例I :一种双级日光温室,其组成包括前墙板I、后保温墙板2和保温侧墙板所述的前墙板I连接竖向透明墙板3,所述的竖向透明墙板3连接斜向透明墙板4,所述的斜向透明墙板4与所述的后保温墙板2之间装有衍架5,所述的衍架5连接保温棚6,所述的保温棚 6连接积光室7,所述的后保温墙板2内连接悬梁8,所述的悬梁8上面连接上支撑梁9,所述的悬梁8下面连接下支撑梁10,所述的前墙板与所述的后保温墙板之间连接保温侧墙板 15。实施例2 实施例I所述的双级日光温室,所述的悬梁上面装有地板,所述的悬梁8将温室分为上层温室11和下层温室12,在所述的上层温室11的后保温墙板上装有透气窗13,在所述的下层温室12的后保温墙板上装有透气窗。实施例3 实施例I所述的双级日光温室,所述的积光室内装有集光器14。权利要求1.一种双级日光温室,其组成包括前墙板、后保温墙板和保温侧墙板,其特征是所述的前墙板连接竖向透明墙板,所述的竖向透明墙板连接斜向透明墙板,所述的斜向透明墙板与所述的后保温墙板之间装有衍架,所述的衍架连接保温棚,所述的保温棚连接积光室,所述的后保温墙板内连接悬梁,所述的悬梁上面连接上支撑梁,所述的悬梁下面连接下支撑梁,所述的前墙板与所述的后保温墙板之间连接保温侧墙板。2.根据权利要求I所述的双级日光温室,其特征是所述的悬梁上面装有地板,所述的悬梁将温室分为上层温室和下层温室,在所述的上层温室的后保温墙板上装有透气窗, 在所述的下层温室的后保温墙板上装有透气窗。3.根据权利要求I所述的双级日光温室,其特征是所述的积光室内装有集光器。专利摘要双级日光温室。现有的温室只有一层结构,实用性差、实用性差、效率低、保温效果不佳、能耗高、土地利用系数低。一种双级温室,其组成包括前墙板(1)、后保温墙板(2),所述的前墙板连接竖向透明墙板(3),所述的竖向透明墙板连接斜向透明墙板(4),所述的斜向透明墙板与所述的后保温墙板之间装有衍架(5),所述的衍架连接保温棚(6),所述的保温棚连接积光室(7),所述的后保温墙板内连接悬梁(8),所述的悬梁上面连接上支撑梁(9),所述的悬梁下面连接下支撑梁(10),所述的前墙板与所述的后保温墙板之间连接保温侧墙板(15)。本技术用于日光温室。文档编号A01G9/14GK202340529SQ20112047509公开日2012年7月25日 申请日期2011年11月25日 优先权日2011年11月25日专利技术者严德久, 盖全华, 董巍 申请人:盖全华本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:盖全华严德久董巍
申请(专利权)人:盖全华
类型:实用新型
国别省市:

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