一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪制造技术

技术编号:7604070 阅读:750 留言:0更新日期:2012-07-22 07:12
本发明专利技术属于光谱测量技术领域,公开了一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪。它包括光学结构、二维探测器和数据采集系统,所述的光学结构包括前置望远镜、入射狭缝和菲涅尔双面镜;所述菲涅尔双面镜包括平面反射镜M1和平面反射镜M2。本发明专利技术的成像光谱仪,在结构上,从入射狭缝到二维探测器之间仅有一个光学元件(菲涅尔双面镜),这使得仪器结构大为简化;另外,由于本发明专利技术在光路结构中采用菲涅尔双面镜,菲涅尔双面镜表面反射率高,入射光能损失低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光谱测量
,更具体地说,涉及一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪
技术介绍
干涉成像光谱仪是上世纪八十年代末发展起来的新型遥感器,较之色散型成像光谱仪,它具有光通量大、通道多及信噪比高等特点,适于对可见和红外弱辐射的探测。时间调制型干涉成像光谱仪存在动镜扫描机构,不适应快速变化光谱的测量,而空间调制型干涉成像光谱仪因实时性好、性能稳定、抗震动能力强等特点,受到高度重视。从分光光路看,空间调制型干涉成像光谱仪主要有迈克尔逊型、双折射型及三角共路(Sagnac)型。具体讨论如下。空间调制干涉型计算层析成像光谱仪,专利号CN200510130308. 9,申请日2005-12-09,属于空间调制迈克尔逊型干涉成像光谱仪。其主要组成结构为前置望远系统、旋转投影器、干涉光学系统、二维焦平面探测器和数据采集处理系统。其不足之处在于,前置光学成像系统到探测器之间,有一个分束器、两块平面镜及一个透镜;其入射能量有近二分之一在第二次经过分束器BS时从左边出射而未能进入到探测器。静态双折射偏振干涉成像光谱仪,专利号CN200710017517. 1,申请日 2007-03-16,属于双折射型干涉成像光谱仪,由沿入射光方向同轴依次设置的前置望远系统、偏振干涉仪、成像镜组、面阵探测器以及与面阵探测器输出端联接的计算机信号处理系统组成。其不足之处在于,从入射狭缝到探测器之间,有2个偏光镜,2个格兰泰勒偏光棱镜;其入射能量有近二分之一未能通过起偏器,格兰泰勒偏光棱镜后的ο光与e光在经过检偏器时能量再次受到损失。红外静止型高光通量傅立叶变换成像光谱仪,专利号 CN200510110243. 1,申请日2005-11_10,属于三角共路型干涉成像光谱仪,它采用三角式光路的像面干涉仪来实现系统的分光,采用面阵探测器件和对地面的推扫完成对地物的成像光谱探测。其不足在于,从入射狭缝到探测器之间,有一块Sagnac棱镜、两个透镜;其入射能量在进入探测器前,有三次需经过Sagnac棱镜的分束面,其中第二次、第三次有近一半的光能损失。采用菲涅尔双面镜的全反射式傅立叶变换成像光谱仪,专利号 CN200510055609.X,申请日2005-03_21,提出了一种新的类型菲涅尔双面镜型。该系统由光学结构、焦平面探测器及信号采集处理系统组成。光学结构包括反射式前置望远镜、狭缝、反射式准直镜、菲涅尔双面反射镜及反射式柱面镜等部分。其从入射狭缝到探测器之间,有一个反射式准直镜、一个菲涅尔双面镜和一个反射式柱面镜,其不足在于,结构比较复杂。上述讨论表明这些空间调制型干涉成像光谱仪包括菲涅尔双面镜型成像光谱仪均存在光路结构较复杂的问题,这一方面增加了光学设计的难度和遥感器的重量,也不同3程度地增加了光能的损耗。
技术实现思路
I.本专利技术要解决的问题针对现有技术中空间调制型干涉成像光谱仪包括菲涅尔双面镜型成像光谱仪光路结构复杂的问题,本专利技术提供了一种光路结构简化,且从入射狭缝到探测器之间只有一块菲涅尔(Fresnel)双面镜干涉成像的光谱仪。2.技术方案本专利技术的目的是通过如下途径实现的一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪,它包括光学结构、二维探测器和数据采集系统,所述的光学结构包括前置望远镜、入射狭缝和菲涅尔双面镜;所述菲涅尔双面镜包括平面反射镜Ml和平面反射镜M2。在前置望远镜至二维探测器的光路上,依次排列安装有前置望远镜、入射狭缝、菲涅尔双面镜和二维探测器;所述入射狭缝位于前置望远镜的焦平面上;垂直于入射狭缝方向的从入射狭缝出射的光束全部落在菲涅尔双面镜上,菲涅尔双面镜的两个平面反射镜的交接线位于垂直于入射狭缝方向的从入射狭缝出射的光束的正中间。二维探测器与入射狭缝的方向平行、并与两路反射光相干区域内零光程差所在平面垂直,且所述二维探测器只对两路反射光相干区域内零光程差所在平面的上方或下方的干涉图进行检测;所述二维探测器与数据采集系统连接。优选地,入射狭缝处S点经菲涅尔双面镜所成的虚像为SI点和S2点,所述二维探测器所在位置与SI点和S2点连线的中垂线垂直。优选地,所述平面反射镜Ml和平面反射镜M2之间的夹角Θ的范围为0.1° <0^5° 。前置望远镜将远距离线状目标成像于入射狭缝上,从入射狭缝出射的光,经菲涅尔双面镜反射后,形成入射狭缝的两个虚像S1、S2,两路反射光在相遇处的相干区域内发生干涉,在垂直入射狭缝的方向上,产生狭缝上对应物点的干涉图,干涉图上下对称,干涉图上方(或下方)的数据由二维探测器检测,通过数据采集系统进行数据处理,获得狭缝上对应像元的光谱和像;一维狭缝的像非由成像透镜产生,而是由经二维探测器检测的干涉图数据,通过数据处理技术获得;二维探测器仅对干涉图上方(或下方)数据进行测量,干涉图下方(或上方)的数据利用干涉图数据上下对称的原理获得。3.有益效果相比于现有技术,本专利技术的优点在于(1)本专利技术的成像光谱仪,在结构上,从入射狭缝到二维探测器之间仅有一个光学元件 (菲涅尔双面镜),这使得仪器结构大为简化;(2)本专利技术的成像光谱仪在光路结构中采用菲涅尔双面镜,菲涅尔双面镜表面反射率高,入射光能损失低;(3)不同于现有技术,本专利技术的成像光谱仪,一维狭缝的像非由成像透镜产生,这省去了成像透镜,减小了干涉成像光谱仪的重量;本专利技术仅对干涉图上方(或下方)数据进行测量,干涉图下方(或上方)的数据利用干涉图数据的上下对称的原理获得,提高了探测器的利用率,探测器可测量的相干区有效数据的长度增加近一倍,仪器的线型函数得到调整,干涉条纹测量的空间分辨率得到提高。附图说明图I为本专利技术的结构示意图2为本专利技术的原理示意图。图中1-前置望远镜;2_入射狭缝;3_菲涅尔双面镜;4_ 二维探测器;5_数据采集系统。具体实施例方式下面结合附图和具体的实施例对本专利技术做进一步介绍。如图I所示,一种菲涅尔双面镜干涉成像光谱仪,它包括光学结构、二维探测器4 和数据采集系统5,所述的光学结构包括前置望远镜I、入射狭缝2和菲涅尔双面镜3。所述菲涅尔双面镜3包括平面反射镜Ml和平面反射镜M2。在前置望远镜I至二维探测器4的光路上,依次排列安装有前置望远镜I、入射狭缝2、菲涅尔双面镜3和二维探测器4 ;所述入射狭缝2位于前置望远镜I的焦平面上;垂直于入射狭缝2方向的从入射狭缝2出射的光束全部落在菲涅尔双面镜3上,菲涅尔双面镜 3的两个平面反射镜的交接线位于垂直于入射狭缝2方向的从入射狭缝2出射的光束的正中间;二维探测器4与入射狭缝2的方向平行、并与两路反射光相干区域内零光程差所在平面垂直,且所述二维探测器4只对两路反射光相干区域内零光程差所在平面的上方或下方的干涉图进行检测;所述二维探测器4与数据采集系统5连接。入射狭缝2处S点在菲涅尔双面镜3内所成的虚像为SI点和S2点,所述二维探测器4所在位置与SI点和S2点连线的中垂线垂直。所述平面反射镜Ml和平面反射镜M2 的夹角Θ的范围为O. 1° < Θ ≤ 5° 。图2为本专利技术的原理示意图。图2中的O为平面反射镜Ml与M2的交点位置,S为入射狭缝2的位置,SI和S2为S点经平面反射镜Ml与M2所成的虚像,F点为相干区域内、 靠近入射狭缝2 —侧、可分辨干涉条纹所对应的最大光程差所在的双曲线轨迹与二维探测器4光敏本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵光兴赵远
申请(专利权)人:安徽工业大学
类型:发明
国别省市:

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