用于处理基质的方法和装置制造方法及图纸

在用于处理基质的一种方法和一种装置中，通过以生产溶液喷洒从基质除去防蚀层。基质首先在主洗提模块中并且然后在次级洗提模块中被喷洒以生产溶液，其收集在模块下方的容器中。每个模块设置有容器。生产溶液在主洗提模块中被收集到两个容器中并且在此首先被直接引入到第二容器中，第二容器通过壁(其在明显低于生产溶液的表面水平的区域中是可渗透液体的)与第一容器很大程度上分开。从第一容器中生产溶液被无泡沫地提取并且被重新引回到过程循环中用于润湿基质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于处理基质(Substrat)的方法，尤其用于光电模块的制造，以及一种适合用于执行该方法的装置。
技术介绍
在光电技术以及特别是电路板技术中，借助于生产溶液(Prozessloesimg)从相应的基质除去防蚀层(Resist-Schicht)。在此，部分地应用了生产溶液，其起泡沫或者与抗蚀剂或其它的材料(它在清洁时与这些材料相接触)相结合导致了泡沫形成。这样的抗蚀剂为蜡状的所谓的热熔体或者热墨或聚合物或者颜料，其可借助于印刷机或照相平板印刷术以及丝网印刷来涂覆。所提到的泡沫形成可导致过程中断或设备故障，甚至可能使得生产溶液完全不再能使用。在生产溶液复循环(Umpumpen)或喷洒到基质上时以及必要时还在从处理腔到箱或容器中的回路中也可产生泡沫。即所谓的除泡剂被用作用于减少泡沫的添加剂。然而出于成本以及环保原因其越来越被否定，这是因为不仅废水的TOC负载而且CSB值升高，并且因此废水的引入值 (Einleitwert)被超出。这即意味着，带有有机的物质的水的负载太高。
技术实现思路
本专利技术目的在于提出一种开头提到的方法以及一种适合于执行其的装置，利用其可避免现有技术的问题并且尤其生产溶液中的泡沫形成在从基质除去防蚀层时可保持尽可能小。该目的通过带有权利要求1的特征的一种方法以及带有权利要求7的特征的一种装置来实现。本专利技术的有利的以及优选的设计方案为其它权利要求的内容并且接下来详细地来阐述。下面列举的特征中的一些被提到仅用于本方法或者仅用于本装置。但是，其应能够不依赖于此不仅适用于本方法而且适用于本装置。权利要求的说法通过明确的参考说明书的内容来完成。根据本专利技术设置成，基质首先在主洗提模块(Haupt-Mrippmodul)中并且然后在次级洗提模块(Nach-Strippmodul)中利用生产溶液来润湿，其中，可能也能够放弃次级洗提模块。生产溶液收集在模块下面的容器中或至少在主洗提模块下面的容器中。在此，对于次级洗提模块设置有至少一个容器，其中对于主洗提模块设置有至少两个容器。生产熔液被从主洗提模块中首先直接地引入第二容器中，尤其利用至少一个简单弯曲的或弯折的管。该第二容器与主洗提模块的第一容器通过在它们之间的壁来分开，而该壁在明显低于处于其中的生产溶液的表面水平的区域中通过凹口、孔洞、空隙等是可渗透液体的。尤其地，液体渗透性尽可能远地在下部设置在容器中。在此，两个容器可通过壁应用到大的容器中来形成，即通过它的分隔。那么，所提到的凹口等设置在壁的下部区域中，或者壁不完全插入直至底部。生产溶液被从第一容器中提取，尤其借助于泵被泵出，并且被重新引回到过程循环(Verfahrenskreislauf)中用于基质的润湿。即因此设置成，在主洗提模块中生产溶液收集在第二容器中并且在此在其表面处产生有泡沫或存在的泡沫上升至表面。通过与第一容器的传导液体的连接，其同样填充以生产溶液，但是尽可能没有泡沫。因此，基本上无泡沫的生产溶液可在那里被抽取用于基质的重新喷洒或润湿。为了在主洗提模块中收集生产溶液，可能也在次级洗提模块中，可相应地设置有一种池等作为带有的最深的点的收集池，管或其它的管线从其出来引导到所提到的容器中。这种回流管恰好可通过所提到的弯曲或通常它的造型来减少泡沫形成或尽可能再溶解泡沫。在本专利技术的另一设计方案中可设置成，泡沫在第二容器中在处于其中的溶液的表面处被在容器的侧壁上移动，即可以说被移除到单独的、布置在其旁边的泡沫池中。其可以以不同的方式来实现，例如利用机械的滑块，通过吹以压缩空气或通过喷洒、尤其喷洒以生产溶液本身。特别是喷洒被视为有利的，因为在此不仅泡沫可以说被机械地移动，而且至少部分地被溶解或破坏。在该泡沫池中，那么可同样再次存在生产溶液，其中泡沫在表面处， 其中，生产溶液再次被抽取并且有利地被引回到第一容器中，特别有利地再次通过泵。替代地，支路可设置到废水排出管或废水处理部处。为了能够更好地控制泡沫离开第二容器到泡沫池中的运动，即当泡沫在第二容器的侧壁上被移动时，这里可设置有一种高度可调节的坝或一种隔板条(Schottleiste)。其相应地可在高度上这样调节，使得其处于生产溶液的液面的高度上或在其上方一小段。由此实现了，仅仅泡沫在侧面上被推动并且尽可能没有生产溶液。在本专利技术的有利的设计方案中，在泡沫池中也可通过尤其再次喷洒以生产溶液来破除或去除泡沫。在泡沫到泡沫池的运动方向上可设置有多个彼此串联的喷嘴装置或喷洒装置，以便可以说多倍地破除泡沫以及使泡沫良好地移动。各个装置那么不再需要利用太大的压力来运行，这对于生产溶液中的运动以及转化再次是有利的。前面提到的回流管有利地可这样构造，使得其在生产溶液的表面之下在第二容器中结束。由此可在引入第二容器中时减少泡沫形成。次级洗提模块可类似于主洗提模块那样来构建，即例如大致同样长或也具有用于在其中使用的生产溶液的第一和第二容器。有利地，次级洗提模块更短地并且更简单地来构建并且仅具有唯一的容器。在次级洗提模块中所使用的生产溶液再次被收集在其中，有利地类似于在主洗提模块中那样，并且然后被引入容器中。为此，可再次设置有之前所说明的回流管。在带有仅仅一个容器的次级洗提模块的简化的构造中可能将生产溶液从那里再次引回到主洗提模块的容器中的一个中用于那里重新的使用。对此，可再次设置有可渗透液体的壁或者带有凹口等的壁。替代地，可设置有从次级洗提模块中的容器出来的叶栅 (Kaskade)，其同样在尽可能地避免泡沫形成的情况下运送生产溶液。不仅在主洗提模块中而且在次级洗提模块中可供应有用于来自唯一的容器(即主洗提模块的第一容器)的生产溶液的喷洒装置等。那么，避免泡沫形成可完全集中于该容器中的生产溶液。这些和其它的特征除了来自于权利要求也来自于说明书和附图，其中，各个特征相应地能够单独地或者多个以子组合的形式在本专利技术的实施形式中并且在其它领域来实现并且示出有利的以及本身能够保护的实施方案，这里针对其要求保护。该申请划分成各个段落以及中间标题不在其普遍性上限制在其下做出的陈述。附图说明本专利技术的实施例在附图中示意性地示出并且接下来详细地来阐述。在附图中图1显示了根据本专利技术的用于处理基质的设备的示意性的侧视图示，图2在带有功能图的放大图中显示了来自图1的主洗提模块和次级洗提模块，图3显示了在基质的通过方向上对根据图2的主洗提模块的视图，图4显示了对对应于图3的图示的俯视图以及图5显示了在一替代的主洗提模块中代替喷洒管用于基质的浸渗池(Tauchkid) 的视图。具体实施例方式在图1中示出了根据本专利技术的用于处理基质13的设备11，其中，基质13对于用于光电模块的太阳能电池是有利的。设备11以已知的方式具有移入模块15，侵蚀模块 (Aetzmodul) 17联接到其处。在那里，基质13上的结构通过侵蚀被打开，如也已知的那样， 因此不必对此详细研究。在侵蚀模块17之后有同样已知的冲洗模块19。那么联接有主洗提模块21，如之前大体阐述过的那样，次级洗提模块23再跟随其后。然后再跟随有第二冲洗模块25、干燥模块27和移出模块四。因此在通过方向上从左向右以本身已知的方式处理基质13。主洗提模块21在基质13或其通行道(Durchlaufbahn)上具有上部的喷洒管31a 本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·卡普勒，J·拉姆普雷希特，
申请(专利权)人：吉布尔·施密德有限责任公司，
类型：发明
国别省市：