一种遮阳型双银可钢低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和镀制在所述玻璃基板上的膜系，所述膜系包括的膜层自玻璃基板向外依次有：第一电介质层、第一保护层、第一功能层、第二保护层、包括由ZnSnO3层和ZnO层构成的中间电介质组合层、第二功能层、第三保护层以及包括由ZnSnO3层和Si3N4层构成的顶层电介质组合层。本发明专利技术的玻璃镀膜产品可钢化，钢前钢后数据漂移小，所述膜系的各膜层之间粘附力强，镀膜产品机械性能好，抗氧化能力强，且具有遮阳、低辐射等特性。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃深加工中的镀膜
，尤其涉及一种遮阳型双银可钢低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
随着现代建筑工业及汽车等行业对装饰安装材料需求的不断提升，作为常用材料之一的玻璃，人们对其品质的要求也越来越高。玻璃是建筑物和汽车不可缺少的组成部分， 承担着许多重要的功能，包括美化建筑物和汽车的外观、采光及给室内带来开阔的视野。普通玻璃阳光透过率很高，但对红外线等反射率却很低，大部分太阳光透过玻璃进入室内，从而会加热物体，而这些室内的能量又会以辐射形式通过玻璃散失掉。据统计，建筑物中通过门窗散失的热量约占整个建筑采暖或制冷能耗的50%，而通过玻璃流失的热量就占整个窗户的80%左右。现有技术是通过在玻璃上镀低辐射膜或者使用低辐射贴膜，镀膜玻璃的隔热性大大改善，如目前市场上普遍采用的单银低辐射玻璃就是能将太阳光中的红外线排除在外， 同时又可以将室内物体二次辐射热反射回去的特种玻璃，这种低辐射镀膜玻璃越来越受到人们的欢迎。但是，现有单银低辐射玻璃在使用过程中，其在性能、遮阳系数、可见光透光率和U值(传热系数)等方面的表现都比较普通，无法达到市场对高性能产品的要求。同时， 现有低辐射镀膜产品钢前钢后数据漂移大，抗氧化能力差，也会造成产品良率下降。
技术实现思路
本专利技术的技术目的是解决现有技术中的问题，提供一种光学性能更好的低辐射镀膜玻璃。本专利技术的技术方案是一种遮阳型双银可钢低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和镀制在所述玻璃基板上的膜系，其特征在于，所述膜系包括的膜层自玻璃基板向外依次有第一电介质层、第一保护层、第一功能层、第二保护层、中间电介质组合层、第二功能层、第三保护层及顶层电介质组合层；所述第一电介质层包括第一 Si3N4层；所述第一保护层、第二保护层、第三保护层为NiCr、NiCrOx> NiCrNx或Nb2O5层中的一种或者几种构成的组合层；所述第一功能层、第二功能层为Ag层；所述中间电介质组合层包括纵向叠置的第一 ZnSnO3层和ZnO层，所述ZnO层位于所述第一 ZnSnO3层与第二功能层之间；所述顶层电介质组合层包括纵向叠置的第二 ZnSnO3层和第二 Si3N4层，所述第二 ZnSnO3层位于所述第二 Si3N4层和第三保护层之间。作为优选的技术方案所述第一 Si3N4层的膜层厚度范围为20-40nm，优选厚度值为21. Inm ；所述第一保护层的NiCr、NiCrOx、NiCrNx或Nb2O5层的膜层厚度范围为O. 5-3. 5nm, 优选的厚度值为O. 9nm ；所述第一功能层Ag层的厚度范围9-15nm,优选厚度值为14. 3nm ；所述第二保护层的NiCr、NiCrOx> NiCrNx或Nb2O5层的厚度范围为2_3. 5nm,优选厚度值为2. Inm ；所述中间电介质组合层的第一 ZnSnO3层膜层厚度范围为60_85nm,优选厚度值为 63nm ；所述中间电介质组合层的ZnO层膜层厚度范围为4. 5-10. 5nm,优选厚度值为 IOnm ；所述第二功能层Ag层的膜层厚度范围为15-18nm，优选厚度值为15. 6nm ；所述第三保护层的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5层的膜层厚度范围为O. 5_3nm， 优选厚度值为O. 6nm ；所述顶层电介质组合层的第二 ZnSnO3层膜层厚度范围为10-15. 5nm,优选厚度值为 12. 5nm ；所述顶层电介质组合层的第二 Si3N4层膜层厚度范围为16-20. 5nm，优选厚度值为 17. 9nm。本专利技术的有益效果本专利技术的镀膜玻璃产品可钢化，且钢前钢后数据漂移小，所述膜系的各膜层之间粘附力强，镀膜产品机械性能好，抗氧化能力强，且具有遮阳、低辐射等特性。附图说明图图图图图图图图图图I是本专利技术镀膜玻璃的结构示意2为具体实施例一镀膜玻璃钢前的膜面反射光谱曲线图； 3为具体实施例一镀膜玻璃钢前的玻璃面反射光谱曲线图 4为具体实施例一镀膜玻璃钢前的可见光透射图谱；5为具体实施例二镀膜玻璃钢后的膜面反射光谱曲线图； 6为具体实施例二镀膜玻璃钢后的玻璃面反射光谱曲线图 7为具体实施例二镀膜玻璃钢后的可见光透射图谱；8为具体实施例三镀膜玻璃钢后的膜面反射光谱曲线图； 9为具体实施例三镀膜玻璃钢后的玻璃面反射光谱曲线图 10为具体实施例三镀膜玻璃钢后的可见光透射图谱。具体实施例方式为了阐明本专利技术的技术方案及技术目的，下面结合附图及具体实施方式对本专利技术做进一步的介绍。如图I所示，一种遮阳型双银可钢低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板I和镀制在所述玻璃基板I上的膜系，所述膜系包括的膜层自玻璃基板I(纵向)向外依次为第一电介质层2、第一保护层3、第一功能层4、第二保护层5,中间电介质组合层6、 第二功能层7、第三保护层8及顶层电介质组合层9 ；所述第一电介质层2包括第一 Si3N4层；所述第一保护层3、第二保护层5、第三保护层8为NiCr (镍铬合金)、NiCrOx、 NiCrNx或Nb2O5层中的一种构成的单层或者几种构成的组合层；所述第一功能层4、第二功能层7均为Ag层；所述中间电介质组合层6包括纵向叠置的第一 ZnSnO3层和ZnO层,所述ZnO层位于所述第一 ZnSnO3层和第二功能层之间，即所述第一 ZnSnO3层相较所述ZnO层更临近于第二保护层5 ；所述顶层电介质组合层9包括纵向叠置的第二 ZnSnO3层和第二 Si3N4层，所述第二 ZnSnO3层位于所述第二 Si3N4层和第三保护层之间。所述第一 Si3N4层的膜层厚度范围为20_40nm ；所述第一保护层3的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5层的膜层厚度范围为O.5-3. 5nm ；所述第一功能层4的Ag层厚度范围8_15nm ；所述第二保护层5的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5层的厚度范围为2-3. 5nm ；所述中间电介质组合层6的第一 ZnSnO3层膜层厚度范围为60_85nm ；所述中间电介质组合层6的ZnO层膜层厚度范围为4. 5-10. 5nm ；所述第二功能层7的Ag层的膜层厚度范围为15_18nm ；所述第三保护层8的NiCr、NiCrOx、NiCrNx或Nb2O5层的膜层厚度范围为O. 5_3nm ；所述顶层电介质组合层9的第二 ZnSnO3层膜层厚度范围为10-15. 5nm ；所述顶层电介质组合层9的第二 Si3N4层膜层厚度范围为16-20. 5nm。具体实施例一所述膜系在本实施例中的具体材料结构为玻璃基板/513队/附0/^8/附0/21^1103/2110/^8/附0/21151103/513队。上述结构中第一电介质层2的第一 Si3N4层的膜层厚度为21. Inm ；第一保护层3的NiCr层的膜层厚度为O. 9nm ；第一功能层4的Ag层的膜层厚度为14. 3nm ；第二保护层5的NiCr层的膜层厚度为2. Inm ； 中间电介质组合层6的第一 ZnSnO3层膜层厚度为63nm ；中间电介质组合层6层的ZnO层膜层厚度为IOnm ；第二功能层7的Ag层膜层厚度为15. 6nm ；第三保护层8的NiCr层的膜层厚度为O. 6nm ；顶层电介质组合层9的第二 ZnSnO3层膜层厚度为12. 5nm ；顶层电本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林嘉宏，
申请(专利权)人：林嘉宏，
类型：发明
国别省市：
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