一种等离子体表面改性装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种等离子体表面改性装置，尤其涉及一种用于提高透明导电膜玻璃表面湿润性的装置，包括第一封头、第二封头、导电膜玻璃预放区和导电膜玻璃取样区，离子辉光放电区，离子辉光放电区底部的内表面上设一能在装置的轴向作水平移动的导电膜玻璃支架；离子辉光放电区的顶部粘结电极组件固定架；电极组件固定架上的粘结多对由屏蔽金属层、绝缘材料层和放电电极依次粘结而成电极组件。本实用新型专利技术解决了透明导电膜玻璃连续性工业化处理等问题，同时也与透明导电膜玻璃生产工艺相兼容，能够减少中间环节，提高生产效率。?（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种等离子体表面改性装置，尤其涉及ー种用于提高透明导电膜玻璃表面湿润性的装置。
技术介绍
透明导电膜玻璃具有较好的光电性能，广泛应用于用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置、触摸式开关和建筑玻璃等领域。但透明导电膜玻璃较低的表面湿润性限制了其在相关产业中的进ー步应用，如对于具有三明治结构的有机电致发光器件 OLED来说，电极的表面湿润性直接影响了载流子注入的势垒，从而很大程度上决定了器件的发光亮度和效率。钟志有在氧等离子体处理改善ITO电极表面湿润性中提出了采用氧等离子体处理对有机发光器件ITO电极进行表面改性，研究了氧等离子体处理对ITO电极表面湿润性的影响，该技术属于小面积处理，处理效率低，且设备无法实现エ业化生产。
技术实现思路
本技术的目的在于针对透明导电膜玻璃表面湿润性等问题，提供一种等离子体表面改性装置，提高透明导电膜玻璃的表面湿润性，与其它方法或装置相比具有能同时进行各类透明导电膜玻璃大面积表面改性处理，且与透明导电膜玻璃生产エ艺相兼容。本技术是通过以下技术方案实现的一种等离子体表面改性装置，包括第一封头、第二封头、导电膜玻璃预放区和导电膜玻璃取样区，离子辉光放电区；所述离子辉光放电区底部的内表面上设一能在所述装置的轴向作水平移动的导电膜玻璃支架；在所述离子辉光放电区的顶部粘结电极组件固定架；所述电极组件固定架上的粘结多对电极组件， 所述电极组件由屏蔽金属层、绝缘材料层和放电电极依次粘结而成，沿等离子体表面改性装置轴向竖立平行排列；所述导电膜玻璃支架上表面设有多个与导电膜玻璃厚度一致的凹槽。所述的电极组件固定架上设有3对电极组件；导电膜玻璃支架上表面设有3个与导电膜玻璃厚度一致的凹槽。所述的离子体表面改性装置为真一直径为1000mm,长度为4500mm,壁厚为IOmm的真空容器。所述的电极组件之间的距离为40臟，放电电极尺寸均为500mmX500mm。本技术涉及的是ー种等离子体表面改性装置，能够很方便地进行透明导电膜玻璃的大面积表面的等离子体改性，结构简单、操作方便、稳定性好、处理结果重复性好、能同时进行各类透明导电膜玻璃的表面改性。本装置解决了透明导电膜玻璃连续性ェ业化处理等问题，同时也与透明导电膜玻璃生产ェ艺相兼容，能够减少中间环节，提高生产效率。附图说明以下结合附图对本技术的实施例作进ー步的详细描述。图I是本技术的整体结构示意图。图中1.第一封头；2.导电膜玻璃预防区；3离子辉光放电区.；4.导电膜玻璃取样区；I’ 第二封头；图2是本技术的离子辉光放电区的结构示意图。图中5.电极组件固定架；6.电极组件；7.导电膜玻璃；8.导电膜玻璃支架；9.凹槽图3是本技术的电极组件结构示意图。图中6-1.屏蔽金属层；6_2.绝缘材料层；6_3.放电电极具体实施方式以下结合附图对本技术的实施例作详细说明本实施例在以本技术技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本技术的保护范围不限于下述的实施例。如图I至图3所示一种等离子体表面改性装置，包括第一封头I和第二封头I’、 导电膜玻璃预放区2、导电膜玻璃取样区4和离子辉光放电区3 ;在所述离子辉光放电区3 的底部的内表面上设一能在所述装置的轴向作水平移动的导电膜玻璃支架8 ;在离子辉光放电区3顶部粘结电极组件固定架5 ;所述电极组件固定架5上的粘结多对电极组件6，所述电极组件6由屏蔽金属层6-1、绝缘材料层6-2和放电电极6-3依次粘结而成，沿所述装置的轴向竖立平行排列；所述导电膜玻璃支架8上表面设有多个与导电膜玻璃7厚度一致的凹槽9，凹槽9位于电极组件6两两形成的间隙的正下方。为了提高处理效率保证处理质量，电极组件固定架5上设有3对电极组件6 ;导电膜玻璃支架8的上表面设有3个与导电膜玻璃7厚度一致的凹槽9。将3块导电膜玻璃作为ー组共3组的导电膜玻璃7插在导电膜玻璃预放区2位置上的导电膜玻璃支架8上的凹槽9内，真空容器通过抽气系统达到极限真空后，第一组导电膜玻璃7进入离子辉光放电区3，通入工作气体，达到工作气压时，调节射频电源的功率可实现等离子体对导电膜玻璃 7的表面改性。处理完成后，第一组导电膜玻璃7进入导电膜玻璃取样区4，第二组导电膜玻璃7进入离子辉光放电区3，如此反复，以实现连续化生产，由于连续放电，出于安全考虑放电电极6-3需冷却，三组导电膜玻璃处理完成后停止放电，分别打开导电膜玻璃取样区4 和的导电膜玻璃预放区2的封头I’和封头1，取出处理好的导电膜玻璃7，重新放置导电膜玻璃7。聚四氟こ烯作为介电材料，聚四氟こ烯在较宽频率范围内的介电常数和介电损耗都很低，而且击穿电压、体积电阻率和耐电弧性都较高。因此电极组件6中的绝缘材料层 6-2优选聚四氟こ烯。等离子体表面改性真空容器为一直径为1000mm，长度为4500mm，壁厚为IOmm的真空容器。 电极组件6之间的距离为40mm，放电电极6_3尺寸和被处理导电膜玻璃相适应,根据导电膜玻璃的尺寸制造放电电极6-3尺寸。权利要求1.一种等离子体表面改性装置，包括第一封头(I)、第二封头(I’)、导电膜玻璃预放区(2)、导电膜玻璃取样区(4)和离子辉光放电区(3)，其特征在于在所述的离子辉光放电区(3)底部的内表面上设一能在所述装置的轴向作水平移动的导电膜玻璃支架(8);在所述离子辉光放电区(3)的顶部粘结电极组件固定架(5);所述电极组件固定架(5)上的粘结多对电极组件(6)，所述电极组件(6)由屏蔽金属层(6-1)、绝缘材料层(6-2)和放电电极(6-3) 依次粘结而成，沿所述装置的轴向竖立平行排列；所述导电膜玻璃支架(5)上表面设有多个与导电膜玻璃(7)厚度一致的凹槽(9)。2.根据权利要求I所述的等离子体表面改性装置，其特征在于电极组件固定架(5)上设有3对电极组件(6);导电膜玻璃支架(8)上表面设有3个与导电膜玻璃(7)厚度一致的凹槽(9)。3.根据权利要求I或2所述的等离子体表面改性装置，其特征在于所述电极组件(6) 的屏蔽金属层(6-1)由聚四氟こ烯制成。4.根据权利要求I或2所述的等离子体表面改性装置，其特征在于所述等离子体表面改性装置为真一直径为1000mm,长度为4500mm,壁厚为IOmm的真空容器。5.根据权利要求I或2所述的等离子体表面改性装置，其特征在于电极组件(6)之间的距离为40mm，放电电极(6-3)的尺寸与导电膜玻璃尺寸相适应。专利摘要本技术涉及一种等离子体表面改性装置，尤其涉及一种用于提高透明导电膜玻璃表面湿润性的装置，包括第一封头、第二封头、导电膜玻璃预放区和导电膜玻璃取样区，离子辉光放电区，离子辉光放电区底部的内表面上设一能在装置的轴向作水平移动的导电膜玻璃支架；离子辉光放电区的顶部粘结电极组件固定架；电极组件固定架上的粘结多对由屏蔽金属层、绝缘材料层和放电电极依次粘结而成电极组件。本技术解决了透明导电膜玻璃连续性工业化处理等问题，同时也与透明导电膜玻璃生产工艺相兼容，能够减少中间环节，提高生产效率。文档编号H01J37/32GK202339899SQ20112041095公开日2012年7月18日 申请日期2011年10月25日 优先权日2011年1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张波，朱葛俊，虞文武，陆建军，陈晓勇，沈俊，姜清，
申请(专利权)人：常州机电职业技术学院，
类型：实用新型
国别省市：