荧蒽化合物及使用它的有机电致发光元件制造技术

本发明专利技术提供一种以下式(1)表示的荧蒽化合物。式中，Z7及Z12是芳基或杂芳基，Ar0是单键、芳基或杂芳基，R1～R4及R6～R9各自独立，是氢原子、烷基、环烷基、芳基或杂芳基等，l是1～4的整数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及荧蒽化合物及含有含该荧蒽化合物的有机电致发光材料的溶液、以及使用它的有机电致发光元件。更具体来说，涉及可以制作具有高发光效率且长寿命的有机电致发光元件的荧蒽化合物。
技术介绍
有机电致发光(EL)元件是利用了如下原理的自发光元件，即，通过施加电场，利用从阳极注入的空穴和从阴极注入的电子的复合能量使荧光性物质发光。此种有机EL元件具有由阳极和阴极构成的一对电极、和设于该电极之间的有机发光介质。有机发光介质由具有各种功能的层的层叠体构成，例如为将阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层及电子注入层依次层叠而得的层叠体。作为发光层的发光材料，开发出以各色(例如红色、绿色及蓝色)发光的材料。例如，荧蒽化合物作为蓝色发光材料公开于专利文献1及专利文献2中。但是，专利文献1及专利文献2中公开的荧蒽化合物存在有在发光效率及寿命的方面不够充分的问题。专利文献1 日本特开平10-189247号公报专利文献2 日本特开2005-068087号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种能够制作发光效率高并且寿命长的有机EL元件的荧蒽化合物。根据本专利技术，提供以下的荧蒽化合物等。1. 一种荧蒽化合物，其以下式⑴表示权利要求1.一种荧蒽化合物，其特征在于，以下式(1)表示2.根据权利要求1所述的荧蒽化合物，其以下式( 表示3.根据权利要求1所述的荧蒽化合物，其以下式C3)表示4.根据权利要求1所述的荧蒽化合物，其以下式(4)表示5.根据权利要求1所述的荧蒽化合物，其以下式( 表示 ΓΛ2 r%36.根据权利要求1所述的荧蒽化合物，其以下式(6)表示7.根据权利要求6所述的荧蒽化合物，其中，Ar2是单键、取代或未取代的成环原子数5 50的杂芳基、或者以下式表示的连结基中 的任意ー种，在Ar2为单键的情况下，R”R3、R4> R6> R7> R8及も的至少ー个是烷基、环烷基、取代或未 取代的芳基、取代或未取代的杂芳基、或者取代甲硅烷基，8.根据权利要求1 7中任一项所述的荧蒽化合物，其中，Z7及rLvi各自独立，是苯基、萘基、芴基、9，9’- 二甲基芴基、二乙基芴基、二丙基芴基、二异丙基芴基、二丁基芴基、二苯基芴基、或者菲基。9.一种有机电致发光元件，其在一对电极间夹持有由至少包括发光层的1层或多层构成的有机化合物层，其特征在于，所述有机化合物层的至少1层包含至少1种权利要求1 8中任一项所述的荧蒽化合物。10.根据权利要求9所述的有机电致发光元件，其中， 所述发光层含有所述荧蒽化合物。11.根据权利要求10所述的有机电致发光元件，其中， 所述发光层中的所述荧蒽化合物的含量是0. 01 20质量％。12.根据权利要求10或11所述的有机电致发光元件，其中，所述发光层还含有以具有蒽中心骨架的下式Oa)表示的化合物13.根据权利要求12所述的有机电致发光元件，其中，A1和A2是彼此不同的取代基。14.根据权利要求12所述的有机电致发光元件，其中，A1及A2的至少1个是具有取代或未取代的成环原子数10 30的缩合环基的取代基。15.根据权利要求14所述的有机电致发光元件，其中，取代或未取代的成环原子数10 30的缩合环基是取代或未取代的萘环。16.根据权利要求10或11所述的有机电致发光元件，其中，所述发光层还含有以具有芘中心骨架的下式Ob)表示的化合物17.根据权利要求10或11所述的有机电致发光元件，其中， 所述发光层还含有以具有三苯基胺骨架的下式Oc)表示的化合物18.根据权利要求10或11所述的有机电致发光元件，其中，所述发光层还含有以下式Od)表示的化合物19. 一种含有有机电致发光材料的溶液，其特征在于，含有作为有机电致发光材料的权利要求1 8中任一项所述的荧蒽化合物及溶媒。20.根据权利要求19所述的含有有机电致发光材料的溶液，其中， 所述有机电致发光材料包含主相材料及掺杂材料， 所述掺杂材料是权利要求1 8中任一项所述的荧蒽化合物， 所述主相材料是选自权利要求12的以式Oa)表示的化合物、权利要求16的以式Qb) 表示的化合物、权利要求17的以式Oc)表示的化合物、以及权利要求18的以式(2d)表示的化合物中的至少1种化合物。全文摘要本专利技术提供一种以下式(1)表示的荧蒽化合物。式中，Z7及Z12是芳基或杂芳基，Ar0是单键、芳基或杂芳基，R1～R4及R6～R9各自独立，是氢原子、烷基、环烷基、芳基或杂芳基等，l是1～4的整数。文档编号C07D307/91GK102574828SQ20108004645公开日2012年7月11日 申请日期2010年10月26日 优先权日2009年10月26日专利技术者水木由美子, 舟桥正和 申请人:出光兴产株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：水木由美子，舟桥正和，
申请(专利权)人：出光兴产株式会社，
类型：发明
国别省市：