本发明专利技术公开了一种正型光敏树脂组合物,包括:(A)碱溶性树脂;(B)包括由化学式6表示的化合物的溶解控制剂;(C)光敏重氮醌化合物;(D)硅烷化合物;和(E)溶剂,以及使用该正型光敏树脂组合物制备的光敏树脂膜和该光敏树脂膜的半导体器件。本发明专利技术的正型光敏树脂组合物具有优异的膜残留率、敏感度和分辨率。[化学式6]
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及正型光敏树脂组合物,利用其制备的光敏树脂薄膜以及包括该光敏树脂薄膜的半导体器件。
技术介绍
用于半导体器件的常规的表面保护层和层间绝缘层包括具有优异耐热性、电性能、机械性能等的聚酰亚胺树脂作为碱可溶性树脂。近来,聚酰亚胺树脂已被用作易于涂覆的光敏聚酰亚胺前体组合物。将光敏聚酰亚胺前体组合物涂布在半导体器件上,借助于紫外(UV)线进行图案化、显影、以及热酰亚胺化,由此可以容易地获得表面保护层、层间绝缘层等。光敏聚酰亚胺前体组合物能够用作其中曝光部分通过显影被溶解的正型,以及其中曝光部分被固化和保留的负型。优选使用正型,因为它能够通过无毒的碱性水溶液加以显影。正型光敏聚酰亚胺前体组合物包括聚酰胺酸(polyamic acid)的聚酰亚胺前体、重氮萘醌的光敏材料等。然而,正型光敏聚酰亚胺前体组合物存在由于聚酰胺酸的羧酸过多地溶于碱而不能获得期望图案的问题。为解决此问题,一种聚苯并噁唑前体与重氮萘醌化合物混合的材料已引起人们的关注,但当实际使用聚苯并噁唑前体组合物时,未曝光部分的膜损失会显著增加,所以在显影处理以后难以获得所期望的图案。为了改善此问题,如果增加聚苯并噁唑前体的分子量,会减少未曝光部分的膜损失量,但会产生显影残留物(渣滓),以致于分辨率降低并且在曝光部分上的显影持续时间会增加。为了解决上述问题,已经报道了通过将某种酚类化合物加入聚苯并噁唑前体组合物中来抑制显影过程中未曝光部分中的膜损失。然而,抑制未曝光部分的膜损失的效果是不够的,所以需要对增加抑制膜损失的效果进行研究,同时又防止产生显影残留物(渣滓)。此外,需要对溶解-抑制剂进行研究,因为用于调节溶解性的酚类化合物在固化期间在高温下被分解,经历副反应等,并且结果会严重损害固化膜的机械性能。此外,当这种聚酰亚胺前体组合物或聚苯并噁唑前体组合物被制备成热固化膜时,该热固化膜应通过持久地保留在半导体器件中并起到表面保护层的作用而特别地具有优异的机械性能,如拉伸强度、伸长率、杨氏模量等。然而,通常使用的聚酰亚胺前体或聚苯并噁唑前体倾向于具有不适当的机械性能,并且尤其是伸长率,并且还具有较差的耐热性。为了解决该问题,已报道了可向其中加入各种添加剂或可以使用在热固化期间可交联的前体化合物。然而,尽管这些研究能够改善机械性能,尤其是伸长率,但却不能实现光学特性如敏感度、分辨率等。因此,需要不会使这些光学特性变差而获得优异机械性能的方法进行研究
技术实现思路
一种实施方式提供了一种具有优异的膜残留率、敏感度和分辨率的正型光敏树脂组合物。另一种实施方式提供了一种利用该正型光敏树脂组合物制造的光敏树脂膜。进一步的实施方式提供了一种包括该光敏树脂膜的半导体器件。根据一种实施方式,提供了一种正型光敏树脂组合物,包括(A)碱溶性树脂;(B)包括由以下化学式6表示的化合物的溶解控制剂;(C)光敏重氮醌化合物;(D)硅烷化合物;和(E)溶剂。权利要求1. 一种正型光敏树脂组合物,包括(A)碱溶性树脂;(B)包括由以下化学式6表示的化合物的溶解控制剂;(C)光敏重氮醌化合物;(D)硅烷化合物;和(E)溶剂;2.根据权利要求1所述的正型光敏树脂组合物,其中,由上述化学式6表示的化合物包括由以下化学式6a至化学式6f表示的化合物、或它们的组合3.根据权利要求1所述的正型光敏树脂组合物,其中,由上述化学式6表示的化合物包括由以下化学式40至45表示的化合物、或它们的组合4.根据权利要求1所述的正型光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性树脂是聚苯并噁唑前体。5.根据权利要求4所述的正型光敏树脂组合物,其中,所述聚苯并噁唑前体(A)选自第一聚苯并噁唑前体,其包括由以下化学式1表示的重复单元、由以下化学式2表示的重复单元、或它们的组合,并且在所述第一聚苯并噁唑前体的至少一个末端处包括可热聚合的官能团;第二聚苯并噁唑前体,其包括由以下化学式4表示的重复单元、由以下化学式5表示的重复单元、或它们的组合;以及所述第一聚苯并噁唑前体和所述第二聚苯并噁唑前体的组合6.根据权利要求1所述的正型光敏树脂组合物,其中,碱溶性树脂具有3,000g/mol至50,000g/mol的重均分子量(Mw)。7.根据权利要求1所述的正型光敏树脂组合物,其中,基于100重量份的碱可溶性树脂(A),所述正型光敏树脂组合物包含.0. 1重量份至30重量份的溶解控制剂(B);.5重量份至100重量份的光敏重氮醌化合物(C);.0. 1重量份至30重量份的硅烷化合物(D);以及.50重量份至900重量份的溶剂(E)。8.根据权利要求1所述的正型光敏树脂组合物制备的光敏树脂膜。9.包括根据权利要求8所述的光敏树脂膜的半导体器件。全文摘要本专利技术公开了一种正型光敏树脂组合物,包括(A)碱溶性树脂;(B)包括由化学式6表示的化合物的溶解控制剂;(C)光敏重氮醌化合物;(D)硅烷化合物;和(E)溶剂,以及使用该正型光敏树脂组合物制备的光敏树脂膜和该光敏树脂膜的半导体器件。本专利技术的正型光敏树脂组合物具有优异的膜残留率、敏感度和分辨率。文档编号G03F7/039GK102566274SQ20111034905公开日2012年7月11日 申请日期2011年11月7日 优先权日2010年12月31日专利技术者任美罗, 李种和, 田桓承, 赵显龙, 车明焕, 郑知英, 郑闵鞠 申请人:第一毛织株式会社本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:车明焕,李种和,任美罗,郑闵鞠,郑知英,赵显龙,田桓承,
申请(专利权)人:第一毛织株式会社,
类型:发明
国别省市:
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