本发明专利技术公开一种测量触摸屏上导电膜的方法,包括步骤:a)预设不同面电阻值所对应膜厚度值;b)利用阵列排列探针于导电膜上采集n个电阻值;c)摒弃边缘区域之控针的的电阻值;d)在非边缘区的电阻值中任选至少三个相邻探针的电阻值,计算出所选之电阻值形成的面电阻值,依该方法重复对前述非边缘区的其它电阻值进行选择计算,获得m个面电阻值;e)比较上述m个面电阻值,若各个面电阻值差值在阙值范围内,则视为导电膜的厚度为均匀,否则为不均匀;f)将上述m个面电阻值进行优化计算,获得面电阻值平均值并依前述步骤a)的预设找出对应的膜厚度值,完成导电膜厚度的测量。其测量方法简单、方便、时间短、效率高且成本低。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及触摸屏制作领域技木,尤其是指一种触摸屏制程中測量触摸屏上导电膜之均勻度和厚度的方法。
技术介绍
在触摸屏制程中,在玻璃上涂覆导电膜后,若不进行良率测试,则只有至触摸屏成品阶段测试才进行良率测试,一旦出现不良品,则需要销毁整个触摸屏,极为浪费。再者,目前市面上导电膜电阻的測量主要采用光学的方法量测薄膜厚度,而这种设备成本较高,量测时间较长。
技术实现思路
本专利技术主要目的是提供一种,以解决前述现有技术测量方法所存在的成本高和时间长的问题。为实现上述目的,本专利技术采用如下之技术方案 一种,包括如下步骤a)预设不同面电阻值所对应的膜厚度值;b)利用阵列排列的探针于导电膜上采集η个电阻值,各电阻值分别为相邻两探针之间的电阻值,形成电阻值集合;c)摒弃边缘区域之控针的的电阻值;d)在非边缘区的电阻值中任选至少三个相邻探针的电阻值,计算出该所选之电阻值形成的面电阻值,依该方法重复对前述非边缘区的其它电阻值进行选择计算,获得m个面电阻值;e)比较上述m个面电阻值,若各个面电阻值的差值在阙值范围内,则视为导电膜的厚度为均勻,否则为不均勻;f)将上述m个面电阻值进行优化计算,获得面电阻值的平均值并依前述步骤a)的预设找出对应的膜厚度值,完成导电膜厚度的測量。优选的,于前述步骤d)中,所选择的电阻值为正方形的四个相邻探针的电阻值。本专利技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知,其采用量测面电阻值的方法来判定薄膜的均勻度与厚度,此种测量方法简单、方便、 时间短、效率高;并且,采用本专利技术的測量方法完全可以在玻璃涂覆导电膜后即进行不良率测试,若出现不良品,则只需在玻璃上洗去导电膜即可,大大降低了生产成本。为更清楚地阐述本专利技术的结构特征和功效,下面结合附图与具体实施例来对本专利技术进行详细说明。附图说明图1是本专利技术之实施例中电阻值集合的排布示意图。具体实施例方式请參照图1所示,详细说明本专利技术的測量触摸屏上导电膜的方法,其包括如下步骤a)预设不同面电阻值所对应的膜厚度值,例如面电阻值ml所对应的膜厚度值为hl,面电阻值m2所对应的膜厚度值为h2等;b)利用阵列排列的探针于导电膜上采集η个电阻值,各电阻值分别为相邻两探针之间的电阻值,形成电阻值集合K,如图1中的电阻值al、a2……,电阻值bl.M……,……电阻值H、f2……;c)摒弃边缘区域之控针的的电阻值,如图1中的电阻值al、a2……等;d)在非边缘区的电阻值中任选至少三个相邻探针的电阻值(其中以正方形的四个面电阻值为最佳),计算出所选之电阻值所形成的面电阻值R,并依该方法重复对前述非边缘区的所有电阻值进行选择计算,获得m个面电阻值R1、R2……;e)比较上述m个面电阻值R1、R2……,若各个面电阻值的差值在阙值范围内,则视为导电膜的厚度为均勻,否则为不均勻;其中阙值范围大小可以依需要而设置;f)将上述m个面电阻值R1、R2……进行优化计算,获得面电阻值的平均值并依前述步骤a)的预设找出对应的膜厚度值h,完成导电膜厚度的測量。综合而言,本专利技术重点在于采用量测面电阻值的方法来判定薄膜的均勻度与厚度,其測量方法简单、方便、时间短、效率高;并且,采用本专利技术的測量方法完全可以在玻璃涂覆导电膜后即进行不良率测试,若出现不良品,则只需在玻璃上洗去导电膜即可,大大降低了生产成本。以上所述,仅是本专利技术的较佳实施例而已,并非对本专利技术的技术范围作任何限制, 故凡是依据本专利技术的技术实质对以上实施例所作的任何細微修改、等同变化与修饰,均仍属于本专利技术技术方案的范围内。权利要求1.一种,其特征在于包括如下步骤a)预设不同面电阻值所对应的膜厚度值;b)利用阵列排列的探针于导电膜上采集η个电阻值,各电阻值分别为相邻两探针之间的电阻值,形成电阻值集合;c)摒弃边缘区域之控针的的电阻值;d)在非边缘区的电阻值中任选至少三个相邻探针的电阻值,计算出该所选之电阻值形成的面电阻值,依该方法重复对前述非边缘区的其它电阻值进行选择计算,获得m个面电阻值;e)比较上述m个面电阻值,若各个面电阻值的差值在阙值范围内,则视为导电膜的厚度为均勻,否则为不均勻;f)将上述m个面电阻值进行优化计算,获得面电阻值的平均值并依前述步骤a)的预设找出对应的膜厚度值,完成导电膜厚度的測量。2.根据权利要求1所述的,其特征在于于前述步骤d) 中,所选择的电阻值为正方形的四个相邻探针的电阻值。全文摘要本专利技术公开一种,包括步骤a)预设不同面电阻值所对应膜厚度值;b)利用阵列排列探针于导电膜上采集n个电阻值;c)摒弃边缘区域之控针的的电阻值;d)在非边缘区的电阻值中任选至少三个相邻探针的电阻值,计算出所选之电阻值形成的面电阻值,依该方法重复对前述非边缘区的其它电阻值进行选择计算,获得m个面电阻值;e)比较上述m个面电阻值,若各个面电阻值差值在阙值范围内,则视为导电膜的厚度为均匀,否则为不均匀;f)将上述m个面电阻值进行优化计算,获得面电阻值平均值并依前述步骤a)的预设找出对应的膜厚度值,完成导电膜厚度的测量。其测量方法简单、方便、时间短、效率高且成本低。文档编号G01B7/06GK102564288SQ20111042225公开日2012年7月11日 申请日期2011年12月16日 优先权日2011年12月16日专利技术者杨世光 申请人:东莞中逸电子有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:杨世光,
申请(专利权)人:东莞中逸电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
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