防水膜的形成方法、防水膜、喷墨头的喷嘴板技术

技术编号:7528144 阅读:232 留言:0更新日期:2012-07-12 08:16
本发明专利技术公开了一种形成防水膜的方法,包括:薄膜形成步骤,其使用在常温和大气压下为气体的原材料在基础部件上形成薄膜,该薄膜主要具有Si-O键并且具有直接与硅结合的疏水性取代基;照射步骤,其中用激发光照射在所述薄膜形成步骤中获得的所述薄膜,使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH基;和施加步骤,其中将硅烷偶联剂施加到所述照射步骤中获得的所述薄膜上。该方法能够廉价地制造防水膜,而不需要包括昂贵热蒸发器的等离子聚合装置。本发明专利技术还涉及由该方法形成的防水膜、以及形成有该防水膜的喷墨头的喷嘴板。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及形成防水膜的方法,尤其是涉及形成能够适当地设置在喷墨头的喷嘴板上的防水膜的方法。
技术介绍
在用于喷墨记录装置的喷墨头中,当油墨附着于喷嘴板表面时,从喷嘴喷射出的墨滴受到影响并且墨滴的喷射方向可能发生变化。当油墨以这种方式附着吋,难以使墨滴沉积在记录介质上的预定位置处,这引起图像质量的劣化。因此,为了通过防止油墨附着于喷嘴板表面以改善喷射性能以及改善维护特性, 已经提出了各种用于在喷嘴板表面上形成防水膜的方法。一种在喷嘴板表面上提供防水处理的方法是使用氟树脂或含氟单分子膜的方法。 然而,如果使用单分子膜,则难以形成完全覆盖喷嘴表面的膜,这是由于制造喷墨头期间粒子变得与表面附着而导致的影响。另外,含氟单分子膜具有高电负性,因此难以高密度地排列相邻的分子。换句话说,单分子膜仅能以低密度形成并且难以实现充分的防水性能。另外,喷墨头中的防水膜可由于维护(例如用橡胶刀片擦拭等)而剥落,这可能导致墨滴喷射方向的变化。因此,需要更牢固的防水膜。除了喷墨记录装置之外,在触摸面板领域,(例如)使用与喷墨头的膜基本上相同的膜作为防止因指印等引起的污损的膜。然而,在该领域中,对于总是在相同位置被触摸的目标设备(如自动售票机),存在防污膜剥落并且防污特性下降的可能性。应对于这类问题,日本专利申请公开No. 2005-246707和日本专利申请公开 No. 2010-30142描述了这样ー种技木,其涉及涂布等离子聚合物硅氧烷膜(其是通过对诸如八甲基三硅氧烷等分子进行热蒸发,并且引入到等离子体中而进行聚合),所述膜被UV 或等离子体能量等活化以产生OH基,并且向该膜施加硅烷偶联型氟材料以产生牢固的硅烷偶联键。然而,日本专利申请公开No. 2005-M6707和日本专利申请公开No. 2010-30142中所述的具有热蒸发器的等离子聚合装置确实非常昂贵,因此可能存在下述情况在制造喷墨头上的防水膜等时所涉及的成本变得太高。
技术实现思路
鉴于这些情况而提出本专利技术,其目的是提供ー种形成防水膜的方法,由该方法能够廉价地制造防水膜,而不需要包括昂贵热蒸发器的等离子聚合装置。为了实现上述目的,本专利技术的ー个方面涉及形成防水膜的方法,该方法包括薄膜形成步骤,其中使用在常温和大气压下为气体的原材料在基础部件上形成薄膜,该薄膜主要具有Si-O键并且具有直接与硅结合的疏水性取代基;照射步骤,其中用激发光照射在所述薄膜形成步骤中获得的薄膜,从而使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH 基;以及施加步骤,其中将硅烷偶联剂施加到所述照射步骤中获得的薄膜上。如果使用在常温和大气压下为气体的原材料,有利的是,通过催化性CVD(cat-CVD)或通过等离子体CVD 进行薄膜形成步骤。另外,为了实现上述目的,本专利技术的另ー个方面涉及形成防水膜的方法,该方法包括薄膜形成步骤,其中通过将薄膜施加到基础部件上随后进行煅烧而在基础部件上形成薄膜,所述薄膜主要具有Si-O键并且具有直接与硅结合的疏水性取代基;照射步骤,其中用激发光照射在所述薄膜形成步骤中获得的所述薄膜,从而使得所述疏水性取代基保留并且薄膜中存在OH基;以及施加步骤,其中将硅烷偶联剂施加到所述照射步骤中获得的所述薄膜上。通过上述的形成防水膜的方法,可以提供这样的形成防水膜的方法,由该方法能够廉价地制造防水膜,而不需要包括昂贵热蒸发器的等离子聚合装置。由于借助热蒸发器进行热蒸发的速度不稳定,因此不需要热蒸发的本专利技术的多个方面在膜形成的重复性方面也是有利的。另外,在这种防水膜中,OH基与硅烷偶联性防水材料产生牢固的键,这归因于保留有疏水性取代基的下面的硅氧烷膜,并且由于这些疏水性取代基赋予了耐油墨特性,因此与常规S^2材料相比也可以赋予耐油墨性。有利地,疏水性取代基是甲基。该基团可以是具有苯环的疏水基团,如烷基或苯基,但是如果该基团是CH3,则可以容易且廉价地实施薄膜形成步骤。另外,有利地,用于形成上述薄膜的基础部件的物质(材料)是硅、玻璃、金属、陶瓷和聚合物膜中的任一者。可以基于硅、玻璃、金属、陶瓷和聚合物膜中的任一者来形成牢固并具有良好重复性的廉价防水膜。另外,激发光可以紫外光或等离子体。当紫外光或等离子体作为激发光照射含有 Si-O键的薄膜时,产生Si-OH基。另外,上文所形成的防水膜可以适当地设置在喷墨头的喷嘴板上。由于所述防水膜不会剥落并且可以防止油墨附着于喷嘴板表面,因此可以改善喷射性能。根据本专利技术的形成防水膜的方法、防水膜以及喷墨头的喷嘴板,可以实现廉价的制造,而不需要具有昂贵热蒸发器的等离子聚合装置。附图说明以下将參照附图对本专利技术的优选实施方案以及其他目的和优点进行解释,其中在整个附图中相似的參考符号表示相同或相似的部分,其中图1是示出喷墨记录装置的全视图的总体示意图。图2A和2B是示出喷墨头的结构的例子的平面透视图;图3是沿着图2A中的线III-III的剖面图;并且图4是构成涉及本专利技术实施方案的防水膜的分子化学结构的示意图。具体实施例方式喷墨记录装置的总体组成首先,将喷嘴板和包括喷嘴板的喷墨记录装置作为防水膜的应用例子进行描述, 其中所述防水膜是由根据本专利技术实施方案的制造防水膜的方法制造的。图1是喷墨记录装置的示意图。该喷墨记录装置100是利用压カ滚筒直接成像法的喷墨记录装置,其中所述的压カ滚筒直接成像法通过从喷墨头172M、172K、172C和172Y 将多种颜色的墨滴喷射到保持在成像単元116的压カ滚筒(成像滚筒170)上的记录介质 124(为方便起见下文也称作“纸张”)上以形成期望的彩色图像。喷墨记录装置100是使用双液体反应(凝集)方法的按需(on-demand)型图像形成装置,其中通过下列步骤在记录介质IM上形成图像将处理液(此处为凝集处理液)沉积在记录介质IM上,随后喷射墨滴并且使得处理液与油墨液一起反应。如图1中所示,该喷墨记录装置100主要包括供纸单元112、处理液沉积单元114、 成像単元116、干燥単元118、定影单元120和紙输出单元122。供纸单元供纸单元112是用于将记录介质124供应到处理液沉积单元114的机构,并且记录介质124(其为裁切的平板纸)堆叠在供纸单元112中。供纸托盘150与供纸单元112 设置在一起,记录介质1 毎次一张从供纸托盘150供应到处理液沉积单元114。处理液沉积单元处理液沉积单元114是使处理液沉积到记录介质IM的记录表面上的机构。处理液包含使得由成像単元116所沉积的油墨中的着色材料(在本实施方案中为颜料)凝集的着色材料凝集剂,并且由于处理液与油墨相互接触从而促进油墨中的着色材料与溶剂分如图1中所示,处理液沉积单元114包括供纸滚筒152、处理液滚筒巧4和处理液施加装置156。处理液滚筒巧4为支持记录介质IM并输送该介质从而转动的滚筒。处理液滚筒巧4包括设置在其外圆周面上的钩形夹持装置(夹具)155,并且被设计为使得可以通过在夹持装置155的钩与处理液滚筒巧4的圆周面之间夹持记录介质IM从而保持记录介质124的前端。处理液施加装置156相对于处理液滚筒154的圆周面而设置在该滚筒的外部。处理液施加装置156包括处理液容器,其贮存处理液;网纹辊,其部分地浸没于处理液容器中的处理液内;以及橡胶辊,其通过压靠网纹辊和处本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:新川高见
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:

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