【技术实现步骤摘要】
本技术涉及太阳能硅片切割
，特别涉及一种用于清洗硅片表面杂质的太阳能硅片超声波清洗槽。
技术介绍
太阳能电池作为可再生的环保能源已经越来越受到人们的关注，世界太阳能电池近几年的年销售增长率超过40%，与其相关的生产设备也得到迅猛的发展。硅片清洗在硅片生产中起至关重要的作用，清洗的好坏直接影响硅片质量，半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。现有清洗硅片一般采用人工清洗，清洗效率低，效果差。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种太阳能硅片超声波清洗槽，以解决现有技术中硅片清洗效率低，效果差的问题。为了实现上述目的，本技术的技术方案如下太阳能硅片超声波清洗槽，其特征在于，包括上端敞口的清洗槽体，所述清洗槽体的侧边设置有若干超声波振子，所述超声波振子均通过导线与控制电源连接。本技术的一个优选实施例中，所述超声波振子的轴线与清洗槽体的侧边垂直。本技术的一个优选实施例中，所述超声波振子位于同一水平线上。本技术可以有效的清理硅片表面的杂质，具有清洗效率高，清洗效果好的优点ο本技术的特点可参阅本案图式及以下较好实施方式的详细说明而获得清楚地了解。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例进一步阐述本技术。如图1所示，太阳能硅片超声波清洗槽，包括上端敞口的清洗槽体100，清洗槽体的侧边设置有若干超声波振子200，超声波振子位于同一水平线上，...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王图强，
申请(专利权)人：上海信富电子科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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