多发光单元半导体激光器空间光谱测试装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种多发光单元半导体激光器空间光谱测试装置，能够采集多发光单元半导体激光器空间光谱信息。其原理是：在半导体激光器出光面前方设置透镜系统用于将半导体激光器多个发光单元在空间上进行放大，透镜系统前方设置光谱测量系统用于采集经透镜系统放大后的每一个发光单元的信息，将发光单元的波长信息按空间位置依次进行排布，形成空间光谱或者波长信息图。光谱测量系统可以是光谱测量装置也可以是光接收器和光谱测量装置的组合。本实用新型专利技术可以精确的扫描每一个发光单元，采集每一个发光单元的波长信息，从而在空间尺度上反映每一个单独发光点的波长，进而反映半导体激光器的热与热应力效应，且不对半导体激光器造成损伤。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于半导体激光器测试系统，尤其涉及一种多发光单元半导体激光器空间光谱测试装置。
技术介绍
高功率半导体激光器，包括单芯片、阵列和叠阵型激光器，在抽运固体激光器系统方面的用途不断增加，可用于工业、军事、医疗和直接的材料处理如焊接、切割和表面处理。 随着激光器功率、效率、可靠性、制造力的提高，高功率半导体激光器涌现出了许多新的用途。通常认为，高功率半导体激光器的三个主要性能参数是功率、效率和可靠性。半导体激光器工作中会产生很大的热量，为了良好散热，常将芯片焊接到具有高导热率的金属热沉上。由于激光器管芯和热沉的热膨胀系数不一致，温度变化将导致热应力的产生和，若热应力过大甚至会造成结合层开裂、管芯断裂等问题，严重影响了器件的可靠性和寿命，热和热应力的问题已成为制约半导体激光器发展的关键问题。因此，有必要对半导体激光器进行热应力分析，研究减小激光器的热应力方法。激光器阵列的光谱展宽是每个独立的发光单元发射波长不均勻的结果。激光器 /巴条展宽后的光谱可能有双峰或者多峰，有些可能在光谱的一边或两边有“肩膀”或“尾巴”。每个发光单元的发射波长受晶片均勻性和与封装有关的热和热应力效应影响，其中后者是主要因素。半导体激光器的每一个发光单元的发射波长可能会受晶片的不均勻性、与封装有关的热和热应力效应的影响。所以空间光谱可以反映半导体激光器的热应力效应。然而， 巴条内单个发光单元之间的距离非常近，材料生长和晶片处理通常是非常均勻的，与封装引起的热和热应力效应相比，巴条内各发光单元之间材料生长和晶片处理的不均勻性引起的波长变化可以忽略。
技术实现思路
本技术目的是提供一种多发光单元半导体激光器空间光谱测试装置，能够采集多发光单元半导体激光器空间光谱信息。本技术的技术解决方案是本技术的原理是在半导体激光器出光面前方设置透镜系统用于将半导体激光器多个发光单元在空间上进行放大，透镜系统前方设置光谱测量系统用于采集经透镜系统放大后的每一个发光单元的信息，将发光单元的波长信息按空间位置依次进行排布，形成空间光谱或者波长信息图。光谱测量系统可以是光谱测量装置也可以是光接收器和光谱测量装置的组合。具体可以有以下几种实现方式。(1)半导体激光器移动被测半导体激光器出光面前方设置有透镜系统，透镜系统前方设置有光谱测量系统，所述的透镜系统可以一次放大一个发光单元，也可以一次放大多个发光单元；控制被测半导体激光器移动使被测半导体激光器的每一个发光单元依次通过透镜系统放大后用光谱测量系统采集经透镜系统放大后的每一个发光单元的波长信息，将每一个发光单元的波长信息按空间位置依次进行排布，形成空间光谱或波长信息图。(2)半导体激光器不动，光谱测量系统移动透镜系统置于被测半导体激光器出光面前方，光谱测量系统置于透镜系统前方， 被测半导体激光器所有发光单元通过透镜系统成像；控制光谱测量系统移动，使光谱测量系统依次采集经透镜系统放大后的每一个发光单元的波长信息，将每一个发光单元的波长信息按空间进行排布，形成空间光谱或波长信息图。(3)半导体激光器和透镜系统一起移动，光谱测量系统不动被测半导体激光器出光面前方设置有透镜系统，透镜系统前方设置有光谱测量系统，被测半导体激光器所有发光单元通过透镜系统放大成像，控制被测激光器和透镜系统一起移动，使光谱测量系统依次采集经透镜系统放大后的每一个发光单元的波长信息，将每一个发光单元的波长信息按空间位置依次进行排布，形成空间光谱或波长信息图。(4)半导体激光器不动，透镜系统和光谱系统一起移动被测半导体激光器出光面前方设置有透镜系统，透镜系统前方设置有光谱测量系统，控制透镜系统和光谱测量系统一起移动，使被测半导体激光器的每一个发光单元通过透镜系统放大后用光谱测量系统采集经透镜系统放大成像后的每一个发光单元的波长信息，将每一个发光单元的波长信息按空间位置依次进行排布，形成空间光谱或波长信息图。(5)当然，光谱测量系统也可以有多个光接收器，在位置上分别对应各个发光单兀。相应的，可以有以下几种半导体激光器空间光谱测试装置。第一种半导体激光器空间光谱测试装置，包括第一平移台、被测半导体激光器、透镜系统、光谱测量系统及计算机；所述被测半导体激光器固定在第一平移台上，所述第一平移台可进行移动；所述透镜系统位于被测激光器发光面前方，用于依次将被测半导体激光器的发光单元放大成像；所述光谱测量系统位于透镜系统前方，用于采集经透镜系统放大后每一个发光单元的波长信息；所述计算机连接在光谱测量装置输出端上，用于将光谱测量系统采集到的每一个发光单元的波长信息输出，并根据每个发光单元的波长信息，将每一个发光单元按空间位置依次进行排布，形成空间光谱或者将每一个发光单元的波长信息绘图。第二种半导体激光器空间光谱测试装置，包括第二平移台、被测激光器、透镜系统、光谱测量装置及计算机；所述透镜系统位于被测激光器发光面前方，用于将被测半导体激光器的发光单元成像；所述光谱测量装置固定在第二平移台上，用于依次采集经透镜系统成像后的每一个发光单元的波长信息；所述第二平移台可进行移动；所述计算机连接在光谱测量系统输出端上，用于将光谱测量系统采集到的每一个发光单元的波长信息输出，并根据每个发光单元的波长信息，将每一个发光单元按空间位置依次进行排布，形成空间光谱或者将每一个发光单元的波长信息绘图。第三种半导体激光器空间光谱测试装置，包括第三平移台、被测激光器、透镜系统、光谱测量系统及计算机；被测半导体激光器出光面前方设置有透镜系统，透镜系统前方设置有光谱测量系统，被测半导体激光器和透镜系统固定在第三平移台上，被测半导体激光器所有发光单元通过透镜系统放大，第三平移台可进行移动以控制被测激光器和透镜系统的位置，使光谱测量系统依次采集经透镜系统放大后的每一个发光单元的波长信息；所述计算机连接在光谱测量装置输出端上，用于将光谱测量装置采集到的每一个发光单元的波长信息输出，并根据每个发光单元的波长信息，将每一个发光单元按空间进行排布，形成空间光谱或者将每一个发光单元的波长信息绘图；所述的光谱测量系统是光谱测量装置或光接收器和光谱测量装置的组合，所述的光接收器是积分球、光导管或光纤跳线。第四种半导体激光器空间光谱测量装置，包括第四平移台、被测半导体激光器、透镜系统、光谱测量系统及计算机被测半导体激光器出光面前方设置有透镜系统，透镜系统前方设置有光谱测量系统，透镜系统和光谱测量系统固定在第四平台上，第四平移台可进行移动以控制透镜系统和光谱测量装置的移动，使被测半导体激光器的每一个发光单元通过透镜系统放大后用光谱测量系统采集经透镜系统放大后的每一个发光单元的波长信息；所述计算机连接在光谱测量装置输出端上，用于将光谱测量装置采集到的每一个发光单元的波长信息输出，并根据每个发光单元的波长信息，将每一个发光单元按空间进行排布，形成空间光谱或者将每一个发光单元的波长信息绘图；所述的光谱测量系统是光谱测量装置或光接收器和光谱测量装置的组合，所述的光接收器是积分球、光导管或光纤跳线。本技术具有的优点1、本技术可以精确的扫描每一个发光单元，采集每一个发光单元的波长信息，同时表征每一个发光单元的光谱特性，从而在空间尺度上反映每一个单独发光点的波长，进而反映半导体激光器本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兴胜，吴迪，
申请(专利权)人：西安炬光科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：