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原位中子衍射用对顶砧高压装置制造方法及图纸

技术编号:7462777 阅读:289 留言:0更新日期:2012-06-25 18:36
本发明专利技术公开了一种原位中子衍射用对顶砧高压装置,主要包括框架、位于框架内由压头和腔体座构成的内压腔、位于内压腔内分别设置在压头和腔体座上砧面相对的压砧、位于两压砧之间的封垫和加载系统,两压砧和位于它们之间的封垫构成样品高压密封腔,内压腔设计有中子束入射光通道和衍射光窗口,所述加载系统设计有两级加载子系统,一级加载子系统为成对对称设置的螺纹副机械加载系统,二级加载子系统由设置在框架上的油缸和作用于内压腔的活塞构成,高压装置通过其框架悬挂在与中子堆源平台相配套的悬挂装置下方。本发明专利技术具有压砧兼容性好,能在实验台上对实验样品加载施压,加载压力能长时间保持,实验人员可远离实验台进行实验操作,安全性高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及原位中子衍射实验技术,更具体地说是涉及一种原位中子衍射用对顶砧高压装置,用于超高压力下材料结构和物理性能的测量。
技术介绍
在高压
中,对顶砧型高压装置是一种可产生超高压的仪器,其主要构成包括内压腔,安装在内压腔内的一对砧面相对的压砧、位于两压砧之间的封垫和设置内压腔上的加载机构,上下压砧和封垫构成放置被测样品的高压腔,在高压腔内的样品周围充入传压介质。传压介质可以是固体、液体或气体,其中气体传压介质具有完全的静水压传递特性,化学性能稳定和能够经受高温加热等优点,是一种最理想的传压介质。但使用气体传压介质对实验技术和设备的要求也最高。对顶砧型高压装置工作时,外力F以相对方向作用于压砧,由于封垫与上下压砧之间产生强大摩擦力,从而在样品腔中产生高压。为防止高压下压砧材料流动和失效,压砧必须用高硬度材质制造,目前常用的压砧,根据压砧的材质来分,有碳化钨压砧、金刚石压砧和碳化硅压砧等。现有技术的对顶砧高压装置,其压砧与内压腔为配套设计,压砧不能更换,不同材料样品的衍射实验使用由不同材质压砧构成的对顶砧高压装置。采用对顶砧高压装置进行实验,根据实验样品体积和材质的不同,高压腔内的样品需要施加不同的压力,需要施加的实验压力从IOGI^a到lOOGI^a不等。对于样品实验压力要求比较小的实验,施加于高压强内样品的压力通常是由对顶砧高压装置附带的机械加载机构提供,作用于高压腔内样品的压力得以施加后,将对顶砧高压装置置于实验台上,如安装在χ-线衍射仪、同步辐射χ-线衍射源束线上进行实验。对于样品需要提供实验压力比较大的实验,现有技术的压力施加方法,是将对顶砧高压装置置于油压机上,由油压机对高压腔内的样品加载施压,施压加载后用机械机构锁定,然后将对顶砧高压装置从油压机上移走,送到实验地安装在实验台上进行实验。这种施压加载方式,液压加载系统与对顶砧高压装置是分离的,不能在实验台上对样品进行压力加载,由于对顶砧高压装置的刚度很大, 对顶砧高压装置从油压机移走送到实验地安装在实验台上的过程中存在震动,机械锁定机构通常只能锁住油压机施加压力的一部份,即施加在实验样品上的压力只是油压机加载压力的一部分,损失的压力使顶砧高压装置受力的部件松弛,从而引起样品周围封垫与压砧间的密封性下降,导致高压腔中气体传压介质泄漏,进而导致实验失败。
技术实现思路
针对现有技术的原位中子衍射用对顶砧高压装置存在的不足,本专利技术的目的是提供一种全新结构的原位中子衍射用对顶砧高压装置,以解决现有技术原位中子衍射用对顶砧高压装置存在的一台对顶砧高压装置一般只能用于一种材质的压砧,不能在实验台上对实验样品实时液压加载施压,难以保证样品以预加载压力进行实验,易导致实验失败的等问题。本专利技术所要解决的上述技术问题,可通过具有下述技术方案的原位中子衍射用对顶砧高压装置来完成。本专利技术提供的原位中子衍射用对顶砧高压装置,主要包括框架、位于框架内由压头和腔体座构成的内压腔、位于内压腔内分别设置在压头和腔体座上砧面相对的压砧、位于两压砧之间的封垫和加载系统,两压砧和位于它们之间的封垫构成样品高压密封腔,内压腔设计有中子束入射光通道和衍射光出射窗口,所述加载系统设计有两级加载子系统, 其中一级加载子系统为成对对称设置的螺纹副机械加载系统,由与腔体座或压头上的螺纹孔配合构成加载螺纹副的加载螺栓和弹性垫构成,二级加载子系统为液压加载系统,由设置在框架上的油缸和作用于腔体座或压头的活塞构成,对顶砧高压装置通过其框架悬挂在与中子堆源平台相配套的悬挂装置下方,悬挂装置设计有悬挂位置调整机构。为了更好地实现本专利技术的目的,解决所要解决的技术问题,本专利技术还可进一步采取以下技术措施。下述技术措施可以单独采取,也可组合采取,甚至一并采取。本专利技术进一步的技术方案,所述压头由端头和塞柱构成,所述腔体座设计与压头塞柱柱面构成柱面导向副的圆柱筒,压头与腔体座通过柱面导向副装配在一起,砧面相对的两压砧分别通过对中调节构件安装在压头塞柱端面凹腔内和腔体座凹腔内。压头与腔体座通过柱面导向副装配在一起,能保证对顶压砧加压时不会发生偏斜,具有更好的对中性, 有利于压力的加载。两压砧分别通过对中调节构件安装在压头塞柱端面凹腔内和腔体座凹腔内,能够使装置更好地兼容多种类型压砧,根据试验对压力大小的要求不同,可以选用硬度、强度和韧性等不同的材料制作对顶压砧,如可选单晶碳化硅、蓝宝石、碳化钨、纳米金刚石超硬复合材料中的一种。为了在对顶压砧加压时不使封垫向外缘挤流,可将压砧的砧面设计为平面或凹面。为了使对顶压砧从实验完成后的内压腔中顺利地取出,在安置压姑的压头和压腔座的凹腔底部设置有压砧退出孔。本专利技术进一步的技术方案,所述压头为组合结构,端头和塞柱通过止口结构和螺纹副联接成一体。当然压头也可为整体式结构。压头设计成组合结构,具有更好的加工性, 利于压头加工,降低加工制作成本。本专利技术进一步的技术方案,在二级液压加载系统的构成部件油腔内置入压力补偿气囊或可压缩性软体物,以增加液压系统的弹性,使压砧施加在样品上的实验压力得以长时间的保持,提高装置压力加载系统的压力稳定性。本专利技术进一步的技术方案,在压砧外设置加强环,加强环与对顶压砧之间为过盈配合,对压砧产生一个预压力,提高压砧的强度,使压砧进一步适应不同的实验。压砧当然也可不设置加强环。本专利技术进一步的技术方案,中子束入射光通道为位于内压腔中央的圆孔或/和腔体座壁面上的缝孔,衍射光出射窗口位于内压腔壁面上。衍射光出射窗口开度设计,在保证腔体座有足够强度的条件下尽量大一些,窗口轴向开度一般不小于50°,径向开度一般不小于120°。本专利技术进一步的技术方案,成对对称设置的螺纹副机械加载系统,成对两加载螺纹副的螺纹方向相反,构成螺纹副机械加载系统的弹性垫为蝶形弹性垫。本专利技术进一步的技术方案,悬挂装置挂位调整机构为三移一转四维挂位调整机构。三移一转四维挂位调整机构具体可设计为上下移动机构由下端设计有悬挂结构的螺杆、与其相配合的螺母和螺杆螺母锁紧机构构成,通过止推轴承可转动地设置在承挂台上, 承挂台通过其导向安装孔安装在构成左右移动机构的两导向轴上,两导向轴的两端安置在该移动机构的移动架上,承挂台由安装在移动架上的驱动螺杆带动左右移动,左右移动机构的移动架通过导向安装孔安装在构成前后移动机构的两导向轴上,该移动机构的两导向轴两端安装在支架上,左右移动机构的移动支架由安装在前后移动机构支架上的驱动螺杆带动前后移动。采用本专利技术提供的原位中子衍射用对顶砧高压装置对样品进行加压实验操作过程如下两对顶压砧分别通过对中安装构件安装在构成内压腔的压头柱塞端面的凹腔中和腔体座的凹腔中,将实验样品放置在由两对顶压砧砧面和位于两压砧之间的封垫构成的高压密封腔内,用双手操作内压腔上成对对称设置的螺纹副机械加载系统,对高压密封腔内的样品施加一级加载,然后将对顶砧高压装置通过其框架悬挂在与中子堆源平台相配套的悬挂装置下方,用高压油管将液压加载系统的液压油缸与远离实验台的油压机连通,启动油压机向液压加载系统注油加载,对高压密封腔内的样品施加二级加载。对高压密封腔内的样品施加一级加载,也可在对顶砧高压装置悬挂在悬挂装置上之后进行。本专利技术提供的原位中子衍射用对顶砧高压装置,具有以下方面十分突出的技术本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陆裕平贺端威惠博陈波孙光爱陈喜平
申请(专利权)人:四川大学
类型:发明
国别省市:

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