本发明专利技术提出一种精密调整装置，用于调整硅片的位置。精密调整装置包括垂向调整模块。垂向调整模块自下至上依次包括调节座、夹紧螺套、运动柱和调节螺套。调节座固定于基座上，调节座具有外锥面段和贯通槽，贯通槽沿垂向设置并贯穿外锥面段。夹紧螺套与调节座旋合，夹紧螺套具有内锥面段，内锥面段与外锥面段贴合。运动柱沿垂向可移动地贯穿调节座和夹紧螺套，调节螺套设置在运动柱外部并与运动柱螺纹连接。本发明专利技术所提供的精密调整装置适于在水平向和垂向上调整硅片。在垂向调整过程中，通过螺纹结构实现垂向调节，稳定性佳，精度高。垂向调整结束后，通过锥面干涉实现夹紧移动柱，结构简洁，操作容易。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种位置调整装置，且特别涉及一种精密调整装置。
技术介绍
光刻机的物镜在装配完成后需要检测其物距，此时需要一种调整工装模拟工件台承载硅片。对于这种调整工作，需要保证其与基准台面垂直度一定的情况下能够实时沿Z 向平稳而细微的调节硅片的Z向位置。在调节的同时通过传感器检测硅片上的成像是否清晰。当清晰的成像时，则可测得物镜的物距。现有调节机构如电葫芦，液压，气压，电机等只能实现Z向运动，但不能进行微调， 更无法保证物镜与工件台的垂直度。另外，使用液压等方式也无法满足光刻机对环境的要求。技术专利C拟866930提出了一种伸缩套管锁紧机构，这种机构主要通过螺钉夹紧开槽的外套，由于通过拧紧螺钉提供的夹紧力不是很大，只适用于薄壁外套的夹紧，并且部件比较多，会增加操作困难。技术专利CN201358982提出了一种可微调定位的调整装置，该装置采用定位杆插入等间隔排列的定位孔中定位，实现内外管的定位锁紧，由于定位孔有一定的间隔，不能实现连续调节，无法达到微调目的。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提供一种精密调整装置，带锁紧功能，能够实现在满足平面度的前提下，为硅片提供ζ向微调，并能够在微调结束后，快速稳定。为了达到上述目的，本专利技术提出一种精密调整装置，用于调整硅片的位置，其特征是，精密调整装置包括垂向调整模块，从下至上依次包括调节座，固定于基座上，调节座具有外锥面段和贯通槽，贯通槽沿垂向设置并贯穿外锥面段；夹紧螺套，与调节座旋合，夹紧螺套具有内锥面段，内锥面段与外锥面段贴合；运动柱，沿垂向可移动地贯穿调节座和夹紧螺套；以及调节螺套，设置在运动柱外部并与运动柱螺纹连接。进一步说，精密调整装置还包括调平模块，所述调平模块包括上板，承载所述硅片；底座，固定连接于所述运动柱；以及多个调节元件，，连接所述上板和底座，并均勻的分布在所述上板和底座上，用以调节所述上板的水平度。进一步说，各个所述调节元件包括调节螺钉，贯穿所述上板和底座；调节螺母，套接在所述调节螺钉的末端，位于所述上板和底座的外侧；以及弹簧，套接在所述调节螺钉上，设置在所述上板和底座之间。进一步说，转动所述调节螺套，驱动所述运动柱垂向移动。进一步说，精密调整装置还包括螺丝和螺母，所述螺丝穿过所述调节座，且所述螺丝的一端位于所述运动柱的U形槽内，所述螺母设置在所述螺丝的另一端，位于所述调节座的外侧。本专利技术所提供的精密调整装置，包括调平模块和垂向调整模块，适于在水平向和垂向上调整硅片。在垂向调整过程中，通过螺纹结构实现垂向调节，稳定性佳，精度高。垂向调整结束后，通过锥面干涉实现夹紧移动柱的效果，结构简洁，操作容易。附图说明图1所示为本专利技术实施例中具有精密调整装置的光刻机的结构示意图。图2所示为本专利技术实施例中精密调整装置的立体结构示意图。图3所示为本专利技术实施例中精密调整装置的剖面结构示意图。图4所示为本专利技术的精密调整装置中垂向调节模块的分解结构示意图。具体实施例方式为了更了解本专利技术的
技术实现思路
，特举具体实施例并配合所附图式说明如下。请参看图1，图1所示为本专利技术实施例中具有精密调整装置的光刻机的结构示意图。光刻机包括物镜1、精密调整装置2、基座3、传感器4和硅片5。 精密调整装置2用于模拟现有光刻机中的工件台，承载硅片5。精密调整装置2固定于基座3上，硅片5固定于精密调整装置2上。利用精密调整装置2调整硅片5的水平位置和垂向位置。在调整过程中，传感器4感测硅片5是否成像清晰，当成像清晰时，停止调整硅片5，同时传感器4测量物镜1镜头到硅片5的距离——物距P0。精密调整装置2包括调平模块加和垂向调整模块2b。调平模块加和垂向调整模块2b的详细结构请参考图2。图2所示为本专利技术实施例中精密调整装置的立体结构示意图。精密调整装置2中的调平模块加包括上板21、底座22和多个调节元件230。上板21承载硅片5，通过调节上板21的水平度能够调节硅片5的水平度。多个调节元件230均勻的分部在上板21和底座22上，可移动地连接上板21和底座22，移动调节元件230能够调节上板21的水平度。在本实施例中，调节元件230包括调节螺钉23、调节螺母M和弹簧25。调节螺钉 23贯穿上板21和底座22，调节螺母M套接在调节螺钉23的末端，调节螺钉23和调节螺母M分别位于上板21和底座22的外侧，通过调节螺母M在调节螺钉23上的位置的改变， 能够调整上板21与底座22之间的位置关系，从而调节硅片5的水平度。弹簧25为压缩弹簧，套接在所述调节螺钉23上，设置在上板21与底座22以保持上板21与底座22之间的间隔。精密调整装置2中的垂向调整模块2b至少包括支座30和运动柱26。支座30固定在基座3 (图未示)上，运动柱沈可以相对于基座3沿垂向移动，从而调节硅片5垂向位置。垂向调整模块2b的详细结构，请同时参考图3-图4。图3所示为本专利技术实施例中精密调整装置的剖面结构示意图。图4所示为本专利技术的精密调整装置中垂向调节模块的分解结构示意图。垂向调整模块2b还包括调节螺套27、夹紧螺套28和调节座四。垂向调整模块2b的运动柱沈固定连接于底座22。运动柱沈包括小轴径段和大轴径段。大轴径段具有外螺纹，调节螺套27与运动柱沈的外螺纹旋合。当转动调节螺套 27时，运动柱沈被驱动而垂向移动。调节螺套27、夹紧螺套观和调节座四均为中空结构，运动柱沈的小轴径段贯穿调节螺套27、夹紧螺套观和调节座四。且特别是与调节座四的小孔径段为间隙配合，运动柱沈适于相对于调节座四垂向移动。夹紧螺套观与调节座四旋合，通过转动夹紧螺套观，夹紧螺套观沿垂向与调节座四相对移动。夹紧螺套28包括内锥面段观1，调节座四包括贯通槽291和外锥面段 292,内锥面段与外锥面段292贴合。当夹紧螺套观沿垂向与调节座四相对移动时， 内锥面段与外锥面段292紧贴或远离。贯通槽291沿垂向设置并贯穿调节座四的外锥面段四2的表面，当内锥面段281紧贴外锥面段四2，贯通槽291被挤压而减小自身的间隙，从而减小小孔径段的截面直径，最终将运动柱沈的小轴径段夹紧在调节座四的小孔径段中。可选择的，为了加强夹紧效果，可以设置多个贯通槽291在外锥面段292上。可选择的，运动柱沈的小轴径段具有U形槽沈1。调节座四具有螺孔四3，螺丝 32旋入螺孔四3中，螺丝32 —端位于运动柱沈的U形槽中。螺母31设置在螺丝32 的另一端，位于调节座四外侧，螺母31锁紧螺丝32并固定位置。由于螺丝32位于U形槽 261中，能够限制运动柱沈的垂向位移。当需要调整硅片5的位置时，使用者可先调节调平模块加的多个调节元件230 ； 至上板21位于水平位置后，转动调节螺套27以沿垂向移动运动柱沈；当运动柱沈到达目标位置后，转动夹紧螺套观，使得内锥面281和外锥面292紧贴，以锁紧运动柱26。本实施例所提供的精密调整装置，包括调平模块和垂向调整模块，适于在水平向和垂向上调整硅片5。在垂向调整过程中，通过螺纹结构实现垂向调节，稳定性佳，精度高。 垂向调整结束后，通过锥面干涉实现夹紧移动柱的效果，结构简洁，操作容易。虽然本专利技术已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本专利技术。本专利技术所属
中具有通常知识者，在不脱离本专利技术的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本专利技术的保护范围当视权本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：唐广繁，赵正龙，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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