【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及半导体集成电路及其制造方法,尤其涉及电路部件的布局设计。
技术介绍
现有技术中,半导体集成电路的设计大致分为前端设计和后端设计两个工序。前端设计是经过半导体集成电路的规格设计、功能设计·测试设计、逻辑合成等工序生成网表的工序。另一方面,后端设计是经过布局设计、签名验证(sign-off verification)等工序来生成在制造工序中使用的制造数据的工序。布局设计进一步分为平面布置(floor plan)和布线工序两个工序。平面布置是一边考虑定时和布线性一边决定半导体集成电路内的硬件宏(hard macro)、用户宏(user macro)和RAM等各种模块的配置位置的工序。布线工序是一边考虑布线限制(例如,部件间的连接关系及通过哪个层进行连接等的限制)一边决定由平面布置所决定的模块和模块之间、或模块和端子之间的布线路线的工序。经过两个工序,简单来说,实现与半导体集成电路所需的功能相应的部件配置,并决定其部件间的布线。现有技术中,较为理想的是,在该布局设计的阶段,预先决定外部端子位置,在平面布置中,将具有与外部端子间的外部端子I/F(Inter Face)电路的模块配置在外部端子附近。或者,较为理想的是,决定外部端子位置,以使得由平面布置确定的具有与外部端子间的外部端子I/F电路的模块能够与外部端子之间的距离尽可能短。通过使外部端子和外部端子I/F电路(或具有外部端子I/F ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.05.31 JP 2010-125275;2011.05.27 JP 2011-119201.一种集成电路制造方法,包括:
布局设计步骤,制作用于集成电路的制造的掩模图案;以及
制作步骤,使用所述掩模图案,在半导体材料上制作所述集成电路;
该集成电路制造方法的特征在于,所述布局设计步骤包括:
第1步骤,决定功能模块的配置;
第2步骤,决定用于连接所述集成电路和外部设备的多个外部IO端子
的配置;
第3步骤,根据所述第2步骤中决定的各外部IO端子的配置,决定与
所述外部IO端子的某个连接的至少一个IO模块的配置;以及
第4步骤,决定在所述功能模块和所述IO模块之间连接的总线的配置、
以及与该总线的布线长度相应的级数的、进行在所述总线上流过的信号的
定时调整的定时调整电路的配置。
2.根据权利要求1所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述第1步骤中决定配置的功能模块包含数据传送控制电路。
3.根据权利要求1所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述第3步骤中决定配置的所述IO模块包含数据传送控制电路。
4.根据权利要求1所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述第3步骤将接近所述外部IO端子的位置决定为所述IO模块的配
置位置。
5.根据权利要求1所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述定时调整电路是对输入的信号、将在所述总线上流过包含该信号
的多个信号从而产生的该多个信号间的相位偏差修正并输出的电路;
所述第4步骤基于根据所述布线长度而在所述信号上产生的延迟量,
决定插入所述定时调整电路的级数及所述定时调整电路的配置位置。
6.一种集成电路制造方法,包括:
布局设计步骤,制作用于集成电路的制造的掩模图案;以及
制作步骤,使用所述掩模图案,在半导体材料上制作所述集成电路;
该集成电路制造方法的特征在于,所述布局设计步骤包括:
第1步骤,决定功能模块的配置;
第2步骤,决定用于连接所述集成电路和外部设备的多个外部IO端子
的配置;
第3步骤,根据所述第2步骤中决定的各外部IO端子的配置,决定与
所述外部IO端子的某个连接的至少一个IO模块的配置;以及
第4步骤,决定在所述功能模块和所述IO模块之间连接的共用总线的
配置、以及与该共用总线的布线长度相应的级数的、进行在所述共用总线
上流过的信号的定时调整的定时调整电路的配置。
7.根据权利要求6所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述第1步骤中决定配置的功能模块包含数据传送控制电路。
8.根据权利要求7所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述第4步骤中决定配置的共用总线以将所述功能模块和所述IO模块
菊花链连接的方式决定配置。
9.根据权利要求6所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述第3步骤中决定配置的所述IO模块包含数据传送控制电路。
10.根据权利要求9所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述第4步骤中决定配置的共用总线以将所述功能模块和所述IO模块
菊花链连接的方式决定配置。
11.根据权利要求6所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述第3步骤将接近所述外部IO端子的位置决定为所述IO模块的配
置位置。
12.根据权利要求6所述的集成电路制造方法,其特征在于:
所述定时调整电路是对输入的信号、将在所述共用总线上流过包含该
信号的多个信号从而产生的该多个信号间的相位偏差修正并输出的电路;
所述第4步骤基于根据所述布线长度而在所述信号上产生的延迟量,
决定插入所述定时调整电路的级数及所述定时调整电路的配置位置。
13.一种集成电路制造方法,包括:
布局设计步骤,制作用于集成电路的制造的掩模图案;以及
制作步骤,使用所述掩模图案,在半导体材料上制作所述集成电路;
该集成电路制造方法的特征在于,所述布局设计步骤包括:
第1步骤,决定功能模块的配置;
第2步骤,决定共用总线与定时调整电路的配置,该定时调整电路进
行在所述共用总线上流过的信号的定时调整;
第3步骤,决定用于连接所述集成电路和外部设备的多个外部IO端子
的配置;
第4步骤,根据所述第2步骤中决定的各外部IO端子的配置,决定与
所述外部IO端子的某个连接的至少一...
【专利技术属性】
技术研发人员:岩桥大辅,东岛胜义,清原督三,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:发明
国别省市:
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