本发明专利技术涉及一种射线敏感性树脂组合物、固化膜及其形成方法、液晶显示元件的阵列基板及其形成方法。本发明专利技术的目的是提供兼具低温焙烧和贮存稳定性，并且具有高射线敏感度的射线敏感性树脂组合物、以及适宜用作柔性显示器的作为表面硬度、耐溶剂性及相对介电常数优异的层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。所述射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有(A1)含羧基的结构单元及(A2)含环氧基的结构单元的共聚物；[B]醌二叠氮化合物；以及[C]由下述式(1)以及(2)表示的化合物、叔胺化合物、胺盐、鏻盐、脒盐、酰胺化合物、酮亚胺化合物、封端型异氰酸酯化合物、含有咪唑环的化合物及包合化合物构成的群组中选出的至少一种固化剂。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及射线敏感性树脂组合物、固化膜、液晶显示元件的阵列基板、固化膜的形成方法及液晶显示元件的阵列基板的形成方法。
技术介绍
近年来，电子纸等柔性显示器正在普及。作为该柔性显示器的基板，已研究了聚对苯二甲酸乙二酯等塑料基板。由于该基板在加热时伸长或收缩，存在着损害显示器功能的不良情况，因而正在研究柔性显示器的制造工艺的低温化。制造柔性显示器时所需温度最高的工艺之一是存在通过加热层间绝缘膜而进行焙烧的工序，正在寻求该焙烧工序达到低ο在目前情况下，作为形成层间绝缘膜等固化膜的材料，用于获得必需图案形状的工序数少，并且可得到高表面硬度的射线敏感性树脂组合物得到了广泛使用。作为所述射线敏感性树脂组合物，已知的是含有由不饱和羧酸和/或其酐、含环氧基的不饱和化合物等形成的共聚物的射线敏感性树脂组合物，其构成使得可以通过羧基和环氧基的反应获得作为固化膜的表面硬度(参见日本特开2001-3M822号公报)。但是，作为层间绝缘膜，为了将表面硬度提高至能够达到实际商业上需要的水平，需要超过200°C高温的焙烧工序。因此，还考虑了通过添加作为环氧类材料的固化剂使用的胺化合物，在低温下也能进行交联反应的策略，其中，添加一般的胺化合物时，可能会导致其与组合物中存在的环氧基随时间发展而进行反应，从而降低了贮存稳定性。另外，已开发了含有即使进行低温焙烧也能够进行固化的聚酰亚胺前体的柔性显示器的栅极绝缘膜用涂布液的技术(参见日本特开2009-4394号公报)。但是，该涂布液不具有通过曝光显影而形成图案的能力，因此不可能形成微细图案。而且，由于固化反应性不充分，焙烧在1小时以上的时间，另外得到的层间绝缘膜等固化膜也达不到令人满意的水平。而且，在柔性显示器的制作工艺中，存在着在层间绝缘膜的上层形成层叠物的情形。在这种情况下，要求对于形成赋予层间绝缘膜以高相对介电常数的层叠物时使用的溶剂具有耐溶剂性。基于这种情况，非常需要开发出适合于制造柔性显示器用固化膜的射线敏感性树脂组合物。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2001-3M822号公报专利文献2 日本特开2009-4394号公报
技术实现思路
本专利技术是基于以上这种情况而做出的，其目的是提供兼具低温焙烧和贮存稳定性、并且具有高的射线敏感性的射线敏感性树脂组合物、以及适宜用作柔性显示器的作为表面硬度、耐溶剂性及相对介电常数优异的层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。用于解决上述问题的专利技术为射线敏感性树脂组合物，其含有具有(Al)含有羧基的结构单元及(A2)含环氧基的结构单元的共聚物(以下， 也称为“共聚物”)；醌二叠氮化合物；以及由下述式⑴表示的化合物、下述式⑵表示的化合物、叔胺化合物、胺盐、鳞盐、脒盐、酰胺化合物、酮亚胺化合物、封端型异氰酸酯化合物、含有咪唑环的化合物及包合化合物构成的群组中选出的至少一种固化剂(以下，有时也称为“固化剂”)。权利要求1.射线敏感性树脂组合物，其含有具有(Al)含羧基的结构单元及(A2)含环氧基的结构单元的共聚物；醌二叠氮化合物；以及由下述式(1)表示的化合物、下述式( 表示的化合物、叔胺化合物、胺盐、鳞盐、脒盐、酰胺化合物、酮亚胺化合物、封端型异氰酸酯化合物、含有咪唑环的化合物及包合化合物构成的群组中选出的至少一种固化剂，2.如权利要求1所述的射线敏感性树脂组合物，其中，固化剂是由上述式⑴及式 (2)表示的化合物构成的群组中选出的至少一种物质。3.如权利要求1或2所述的射线敏感性树脂组合物，其被用于形成作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。4.由权利要求3所述的射线敏感性树脂组合物形成的作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。5.液晶显示元件的阵列基板，其具备权利要求4所述的固化膜以及取向膜，该取向膜层叠于该固化膜上，并且由液晶取向剂形成。6.如权利要求5所述的液晶显示元件的阵列基板，其中，上述液晶取向剂是含有带光取向性基团的射线敏感性聚合物的液晶取向剂、或含有不带光取向性基团的聚酰亚胺的液晶取向剂。7.固化膜的形成方法，其具有(1)在基板上涂布权利要求3所述的射线敏感性树脂组合物，形成涂膜的工序；(2)对上述涂膜的至少一部分照射射线的工序；(3)使经过上述射线照射的涂膜显影的工序；及(4)对经过上述显影的涂膜进行焙烧的工序。8.如权利要求7所述的固化膜的形成方法，其中，上述工序(4)的焙烧温度为200°C以下。9.液晶显示元件的阵列基板的形成方法，其具有权利要求7所述的工序(1) 、及 (5)在经过焙烧的涂膜上涂布液晶取向剂，并通过在200°C以下的加热而形成取向膜的工序。全文摘要本专利技术涉及一种。本专利技术的目的是提供兼具低温焙烧和贮存稳定性，并且具有高射线敏感度的射线敏感性树脂组合物、以及适宜用作柔性显示器的作为表面硬度、耐溶剂性及相对介电常数优异的层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。所述射线敏感性树脂组合物含有具有(A1)含羧基的结构单元及(A2)含环氧基的结构单元的共聚物；醌二叠氮化合物；以及由下述式(1)以及(2)表示的化合物、叔胺化合物、胺盐、鏻盐、脒盐、酰胺化合物、酮亚胺化合物、封端型异氰酸酯化合物、含有咪唑环的化合物及包合化合物构成的群组中选出的至少一种固化剂。文档编号G02F1/1333GK102455597SQ20111032084公开日2012年5月16日 申请日期2011年10月18日 优先权日2010年10月18日专利技术者儿玉诚一郎, 猪俣克巳, 米田英司, 西信弘 申请人:Jsr株式会社本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：米田英司，西信弘，儿玉诚一郎，猪俣克巳，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：
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