一种去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔制造技术

本实用新型专利技术涉及一种去除光纤用四氯化锗中ＣＨ杂质和ＨＣｌ杂质的精馏塔，主要用于解决去除四氯化锗中ＣＨ杂质和ＨＣｌ杂质的问题，属专用设备领域。其结构主要由塔釜、塔管和塔头组成。塔头设置有螺旋冷却水管，冷却水进口，冷却水出口，在塔头顶部设有尾气出口，该尾气出口上有与摆头出料口相联的管道，并且其下部通入塔头的底端，摆头出料口的底部有管道通入塔管的上部，在塔釜设置有进料口，气体补给口，温度监测口，废料排放口。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种去除四氯化锗中含氢杂质的^i^M领域本技术涉及一种在生产光纤用四氯化锗产品中，去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，特别是去除CH和HC1杂质的精馏塔。属专用设备领域。背景絲目前常规的精馏塔可较好地去除金属杂质，如Fe、 Co、 Cr、 Mn、 Cu 等，但无法有效地去除含氢杂质(如CH、 HC1)。单独采用氯化氢气体或无水氯气来 提纯四氯化锗，只能去除砷和其他类似的杂质，而不能有效地去除含氢杂质；虽然 可通过高温装置在80(TC以上的高温下处理四氯化锗，使其中的氢原子被氯气氯化 为氯化氢，最终实现对含氢杂质的去除，但该工艺对设备的要求非常高，且操作复 杂。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种去除四氯化锗中含氢杂质的精馏 塔，它能够在低于10(TC的驢下，高效、便捷地去除四氯化锗中含氢杂质(CH和 HC1)，以满足生产光纤用四氯化锗的需要。本技术去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔的技术方案是此精馏塔主要由底部的塔釜(1)、顶部的塔头(3)以及连接塔釜(1)和塔头 (3)的塔管(2)组成。在塔釜(1)顶部留有进料口 (4)、气体补给口 (5)以及温度监测口 (6)，在 塔釜(1)中部有紫外线，器(7)，在塔釜(1)底部有加热管(8)及废料排放 口 (9)，塔管(2)没有塔板，为一根空管。塔头(3)设置螺旋状水管(16)、冷却水进口 (10)和冷却水出口 (11)，塔 头(3)最高处有一尾气出口 (12)，塔头(3)右下部M液体收集管(14)，液体 收集管(14)与尾气出口 (12)由尾气余液回流管(13) ，且在液体收集管(14) 下部接有摆头出料口 (15)，摆头出料口 (15)的左下部有一回流管(17)通入塔 管(2)的上侧部。紫外线发射器(7)安装在塔釜(1)的中轴线上。齡去除精馏塔为透明体，全部采用石英材料制作。本技术的有益效果在于可以直观方便地观察整个杂质去除过程，并在低 于10(TC温度下进行，结构简单，易操作，安全可靠，杂质去除效報高。附图说明下面结合本技术的附图，进一步详细说明其具体实施方式。图1为本技术去除四氯化锗中CH和HC1杂质的精馏塔示意图。 图中所示l-塔釜，2-塔管，3-塔头，4-进料口， 5-气体补给口， 6-温度监测 口， 7-紫外线发射器，8-加热管，9-废料排放口， 10-冷却水进口， 11-冷却水出口， 12-尾气出口， 13-尾气余液回流管，14-液体收集管，15-摆头出料口， 16-螺旋状 水管，17-回流管具体实施例实施例精馏塔由底部的塔釜l、上部的塔头3和连通塔釜1和塔头3的中部塔管2构成，在塔釜1内设置有加热管8和紫外线发射器7。在塔釜1顶部留有进 料口 4和气体补给口 5，在塔釜1侧部开有Mit监测口 6，在塔釜1底部开有废料 排放口 9。塔头3设置螺旋状水管16、冷却水进口 10和冷却水出口 11，塔头3最高处有 一尾气出口 12， 塔头3右下部接有液体收集管14，液体收集管14与尾气出口 12 由尾气余液回流管13超虽，且在液体收集管14下部接有摆头出料口 15，摆头出料 口 15的左下部有一回流管17通入塔管2的上侧部。旨精馏塔，明的，全部采用石英材料制作。使用时，将需要提纯的四氯化锗通舰料口 4加入到塔釜1中，经过加热管8 进行加温后使四氯化锗沸腾挥发，挥发出来的四氯化锗通过塔管(2)上升到达本 精馏塔顶端的塔头(3)，经螺旋状水管(16)冷凝，冷凝后的四氯化锗经尾气余液 回流管(13)流入液体收集管(14)内，并通过控制摆头出料口 (15)收集或通过 回流管(17)回流到塔釜l中。本专利技术除杂质工艺过程可以在此精馏塔中不断重复循环，直至四氯化锗中杂质含量达到光纤用四氯化锗标准，从摆头出料口 15进行正式出料并进行收集合格产品。冷却水从螺旋状水管(16)的冷却进口 10进入循环后从冷却水出口 ll排出。 温度监测口 6 Xti荅釜1中运行纟鹏的实时监测并及时调整加热管，使加热温度达到工艺所需的要求。在加热过程中，根据工艺需要，可以从塔釜1气体补给口5通入保护气体，避免本专利技术装置在用于去除含氢杂质过程中四氯化锗被二次污染。 除杂质过程中，需打开紫外线皿器7对四氯化ltit行光照。 本精馏塔塔釜1中提纯后的余液通过废料排放口 9排出本精馏塔。 本技术用于光纤用四氯化锗生产中去除杂质CH和HC1，以满足光纤用四氯化锗产品的纯度要求。权利要求1、一种去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，其特征是此精馏塔主要由底部的塔釜(1)、顶部的塔头(3)以及连接塔釜(1)和塔头(3)的塔管(2)组成。2、 根据权利要求1所述的去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，其特征是在塔 釜(1)顶部留有进料口 (4)、气体补给口 (5)以及温度监测口 (6),在塔釜(1) 中部有紫外线发射器(7)，在塔釜(1)底部有加热管(8)及废料排放口 (9)。3、 根据权利要求1所述的去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，其特征是塔管(2) 没有塔板，为一根空管。4、 根据权利要求1所述的去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，其特征是塔头(3) 设置螺旋状水管(16)、冷却7jC进口 (10)和冷却水出口 (11)，塔头(3)最 高处有一尾气出口 (12)，塔头(3)右下部接有液体收集管(14)，液体收集管(14) 与尾气出口 (12)由尾气余液回流管(13)连通，且在液体收集管(14)下部接有 摆头出料口 (15)，摆头出料口 (15)的左下部有一回流管(17)通入塔管(2)的 上侧部。5、 根据权利要求1和2所述的去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，其特征是紫外线刻寸器(7)安装在塔釜(1)的中轴线上。6、 根据权利要求1所述的去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，其特征是旨去除精馏塔为透明体，全部采用石英材料制作。专利摘要本技术涉及一种去除光纤用四氯化锗中CH杂质和HCl杂质的精馏塔，主要用于解决去除四氯化锗中CH杂质和HCl杂质的问题，属专用设备领域。其结构主要由塔釜、塔管和塔头组成。塔头设置有螺旋冷却水管，冷却水进口，冷却水出口，在塔头顶部设有尾气出口，该尾气出口上有与摆头出料口相联的管道，并且其下部通入塔头的底端，摆头出料口的底部有管道通入塔管的上部，在塔釜设置有进料口，气体补给口，温度监测口，废料排放口。文档编号B01D3/14GK201208516SQ20082008116公开日2009年3月18日 申请日期2008年5月7日 优先权日2008年5月7日专利技术者斌 何, 冯玉庭, 周廷熙, 张文金, 张院萍, 彭明清, 勇 晏, 李雪寅, 杨光玉, 王少龙, 王瑞山, 赵永波, 文 钟, 阎建英 申请人:云南驰宏锌锗股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，其特征是此精馏塔主要由底部的塔釜（１）、顶部的塔头（３）以及连接塔釜（１）和塔头（３）的塔管（２）组成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周廷熙，王少龙，钟文，晏勇，彭明清，阎建英，王瑞山，冯玉庭，张文金，张院萍，杨光玉，何斌，李雪寅，赵永波，
申请(专利权)人：云南驰宏锌锗股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：53[中国|云南]