凸柱结构的制造方法技术

技术编号：7334096 阅读：313 留言：0更新日期：2012-05-11 11:48

本发明专利技术提供一种凸柱结构的制造方法，凸柱结构包括底部的第一柱状结构和位于其上的其他柱状结构，制造方法包括步骤：提供硅衬底；在硅衬底上形成氧化层掩模，其大小、位置与凸柱结构相对应；在硅衬底上旋涂光刻胶并作图形化；以图形化的光刻胶为掩模，干法刻蚀硅衬底，在硅衬底中形成环状的第一深槽，第一深槽内部围绕有第一柱状结构；去除光刻胶并作清洗，露出氧化层掩模；以氧化层掩模为掩模，干法刻蚀硅衬底，在硅衬底中形成第二深槽，同时在第一柱状结构上形成较之更细的第二柱状结构。本发明专利技术能够方便在较粗的柱状结构上形成较细的柱状结构，在深槽刻蚀中，较好地控制了深度、形貌、均匀性、选择比和速率。