光化浮雕微缩图像转移到颜料表面的方法技术

本发明专利技术提供一种将光化浮雕微缩图像转移到颜料表面的方法,其包括以下步骤：提供基底材料；将光致抗蚀剂稀释，均匀的涂刷在基底材料表面；将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分裸露，其余部分遮挡，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；显影和定影，得到光化微缩浮雕图像；沉积颜料薄膜层；颜料薄膜层剥离。在显微镜下观察采用本发明专利技术的方法得到的防伪颜料，可以看到颜料的边界形状和颜料两个表面的图文信息，在二线防伪功能上，可以更直接有效的控制该颜料所保护的产品的真伪、产品的流向渠道。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及防伪材料领域，具体而言，本专利技术涉及一种。
技术介绍
专利号为99809384. X的《用于生产颜料的载有标记的无机薄片》公开了一种载有标记的颜料片的制造方法，但是该方法是通过粉碎的方式获得颜料片，颜料片没有统一的外形，颜料片上的图文信息很大几率的不能完整地在一个颜料片中展示。专利号为200810084421. 1的《表面处理薄片》，公开了一种载有标记的颜料片的制造方法，其在99809384. X的基础上有了很大的改进，该方法可以制备有几何外形的颜料片，而且图文信息完整地展示在一个颜料片上；其缺陷是颜料片必须是规整的几何外形，不能制备任意边框外型的颜料片，另外，制备过程中，颜料片与颜料片之间隔也会清晰的形成不同尺寸的矩形颜料片，这些矩形颜料片上没有记载需要的标记，作为颜料杂质夹杂在载有标记的颜料片中。专利号为201010528271. 6的《制造多边形薄片的衬底和方法》一定程度上解决了颜料中杂质的问题，其局限在于不能生产任意外型尺寸的颜料片。
技术实现思路
为了解决
技术介绍
中提到的问题，本专利技术提供一种应用于防伪技术的，使用该方法制备的颜料可量产并且可配置在油墨中用以印刷。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的第一种方法一种把，其特征在于，该方法包括 提供基底材料；将光致抗蚀剂稀释，均勻的涂刷在基底材料表面；将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分裸露，其余部分遮挡，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；显影和定影，得到光化微缩浮雕图像； 沉积颜料薄膜层； 颜料薄膜层剥离。 在所述的第一种方法中对光致抗蚀剂涂层曝光的方式采用掩膜曝光、遮挡曝光或全息曝光。沉积颜料薄膜层的方法采用气相沉积法、液相沉积法或凝胶法；沉积而成的颜料薄膜结构是单层结构、三层结构或多层结构；单层结构的颜料薄膜的材质是单层金属单质、 合金材料或磁性合金材料；三层结构的颜料薄膜包括顺序叠层的介质干涉层、反射层、介质干涉层，三层结构中的反射层为磁性材料层或添加有磁性材料的反射层；多层结构的颜料薄膜包括至少一个反射层，至少一个介质干涉层及至少一个吸收层，在至少一个反射层或至少一个吸收层中添加有磁性材料。颜料薄膜层剥离步骤中，是对光致抗蚀剂进行剥离或对光致抗蚀剂和基底材料整体剥离。所述图像部分包括多个独立的图像，每一图像的径向尺寸为1-100微米，优选 5-30微米。第二种方法第二种把，其特征在于，该方法包括以下步骤提供金属基板；在金属基板表面均勻涂刷稀释的光致抗蚀剂；将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分裸露，其余部分遮挡，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；显影和定影，得到表面由光致抗蚀剂部分遮盖的金属基板；对所述金属基板表面首次电镀薄膜；在所述金属基板表面二次涂刷稀释的光致抗蚀剂；在所述二次涂覆的光致抗蚀剂涂层表面选取图像边框的位置，并对准该边框位置曝光；显影禾口定影；对金属基板表面二次电镀薄膜；对光致抗蚀剂进行剥离，得到有光化浮雕微缩图像的母版；在柔性基材上涂印标记记录层，用所述母版在标记记录层上模压，将母版的图像信息转移到标记记录层上；在带有图像信息的标记记录层上沉积颜料薄膜层； 颜料薄膜层剥离。在所述的第二种方法中所述首次电镀薄膜的厚度为0. 1-5微米，优选0. 8-2微米；二次电镀薄膜的厚度是 0. 1-10微米，优选1.6-2微米。所述图像部分包括多个独立的图像，每一图像的径向尺寸在3-50微米范围内。所述母版可以由通过浇铸成模和表面金属化的方法对原始母版进行复制后得到的新母版替代，该方法目前广泛应用于全息防伪膜制备技术，复制母板的方法可以减少制备模压板的陈本，制备出的颜料片重复性会很好。第三种方法在金属基板表面均勻涂刷稀释的光致抗蚀剂；将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分遮挡，非图像部分裸露，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；显影禾口定影；对所述金属基板表面电镀薄膜；对光致抗蚀剂进行剥离，得到有光化浮雕微缩图像的母版；用所述母版在标记记录层上模压，将母版的图像信息转移到标记记录层上；在带有图像信息的标记记录层上沉积颜料薄膜层； 颜料薄膜层剥离。第二种方法和第三种方法中对光致抗蚀剂涂层进行曝光的方式采用掩膜曝光、遮挡曝光或全息曝光。沉积颜料薄膜层的方法采用气相沉积法、液相沉积法或凝胶法；沉积而成的颜料薄膜结构是单层结构、三层结构或多层结构；单层结构的颜料薄膜的材质是单层金属单质、 合金材料或磁性合金材料；三层结构的颜料薄膜包括顺序叠层的介质干涉层、反射层、介质干涉层，三层结构中的反射层为磁性材料层或添加有磁性材料的反射层；多层结构的颜料薄膜包括至少一个反射层，至少一个介质干涉层及至少一个吸收层，在至少一个反射层或至少一个吸收层中添加有磁性材料。颜料薄膜层剥离步骤中，是对光致抗蚀剂进行剥离或对光致抗蚀剂和标记记录层整体剥离。与现有技术相比，本专利技术具备如下优点1、对附着在基底上的光致抗蚀剂进行剥离后，带有图文信息的任意外形尺寸颜料片随之脱落，而颜料片之间的区域依然附着在基底材料上，不会形成杂质掺杂在颜料内。2、沉积颜料薄膜层时可选择多层光干涉结构，在经过曝光、显影和定影的带有图文信息的光致抗蚀剂上沉积多层光干涉结构的膜；获得具有图文信息、预期边框的带有色移效果的颜料片，该种颜料片在肉眼直接观测具有不同角度不同颜色的一线防伪特征，另外在显微镜下观察，可以看到颜料的边界形状和颜料两个表面的图文信息，在二线防伪功能上，可以更直接有效的控制该颜料所保护的产品的真伪、产品的流向渠道。3、沉积颜料薄膜层时可选择多层光干涉结构，在经过曝光、显影和定影的带有图文信息的光致抗蚀剂上沉积多层光干涉结构的膜；在多层光干涉的结构中，反射层、金属层其中一层或是几层或是全部层，选用有磁性的金属或是合金材料，那么制备出的颜料具备色移性、加密性和磁性多重安全防伪的功能；该种颜料在涂印过程中若采用了颜料磁场定向的装置，可以实现更好效果的光学防伪图样。附图说明图1是本专利技术实施例二的第一次曝光、显影和定影后的金属基板表面示意图； 图2是本专利技术实施例二的首次电镀薄膜后的金属基板表面示意图； 图3是本专利技术实施例二的第二次曝光、显影和定影后的金属基板表面示意图； 图4是本专利技术实施例二的母版截面结构示意图。具体实施例方式实施例一本实施例之把，包括以下步骤 提供基底材料；将光致抗蚀剂稀释，均勻的涂刷在基底材料表面；将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分裸露，其余部分遮挡，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；显影和定 影，得到光化微缩浮雕图像； 沉积颜料薄膜层； 颜料薄膜层剥离。所制成的光化浮雕微缩图像即所述的图像部分的每一个图像的径向尺寸为1-100 微米，优选5-30微米。实施例二 本实施例之把，包括以下步骤 在金属基板表面均勻涂刷稀释的光致抗蚀剂；将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分裸露，非图像部分遮挡，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；显影和定影，得到如图1所示的表面由光致抗蚀剂部分遮盖的金属基板图像部分10 的光致抗蚀剂涂层被剥离，裸露出金属基板的表面，而非图像部分20仍然被光致抗蚀剂涂层覆盖；对所述金属基板表面首次电镀薄膜如图2所示，图像部分10被首次电镀薄膜层覆盖， 非图像部分20仍然被光致抗蚀剂涂层覆盖；在所述金属基板表面二次涂刷稀释的光致抗蚀剂在图像部分10和非图像部分20的表面均二次涂刷稀释的光致抗蚀剂；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：甄健，
申请(专利权)人：甄健，
类型：发明
国别省市：