本发明专利技术公开了一种镀有双层NiCr吸收层的低反射率镀膜玻璃，包括玻璃基板及玻璃基板上镀有的金属和金属氧化物镀层，其特征在于，所述的玻璃基板上镀有的金属和金属氧化物镀层自玻璃基板向外依次为：SnO2/ZnO2/NiCr/Ag/NiCr/SnO2，即在玻璃基板上依次镀有氧化锡层(1)氧化锌层(2)、镍镉合金层(3)、金属银层(4)、镍镉合金层(5)、氧化锡层(6)。本发明专利技术采用双层NiCr复合吸收层的膜系，利用NiCr的高吸收率，有效地降低了玻璃的可见光反射率，提供了一种可以同时满足低遮阳系数和低反射要求的镀膜玻璃。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于镀膜玻璃的，尤其涉及一种镀有MCr高吸收材料膜层的低反射率镀膜玻璃。
技术介绍
随着中国经济的迅速发展，中国建筑规模逐步增大，但大多数建筑外窗保温隔热性能差，阻隔太阳辐射能力薄弱，密封不良。尽管窗户面积一般只占建筑外围机构表面积的 1/6-1/8，(比例还在不断上升)，但在多数建筑中，通过窗户的传热损失和冷风渗透损失约占供暖总能耗的60%。因而窗户、特别是其中的玻璃是建筑节能的关键部位。随着真空磁控溅射的发展，低辐射玻璃性能的提升减少了玻璃因热辐射而造成的传热损耗，提高了玻璃窗的保温隔热能力，配合双层中空玻璃使用，可以隔绝玻璃传导、对流、辐射三种传热途径，是一种非常具有实用价值的节能环保产品。市场上现有的低辐射玻璃普遍为高透低反，普遍遮阳系数偏高，而一些低纬度地区，如中东等地对低遮阳系数的低辐射玻璃的需求量很大，而传统的低辐射玻璃，不能同时满足低遮阳系数和中低反射的条件，如果要大幅度提高遮阳能力和节能效果，只能靠增加银层厚度来实现，这会使玻璃的反射率增加，而一般低辐射膜玻璃无法有效地调节以达到降低低反射的作用。在降低了遮阳系数的同时会形成较高的反射率。随着目前许多国家和地区为了限制光污染纷纷出台了限制玻璃可见光反射率的法规。这种结构的低辐射玻璃已经越来越达不到客户的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的是，克服现有技术的缺点和不足，提供一种可以同时满足低遮阳系数和低反射要求的镀膜玻璃。本专利技术提供的是一种采用高吸收材料MCr为吸收层的新型膜系结构玻璃及其生产工艺，本专利技术通过如下技术方案予以实现。本专利技术镀有双层MCr吸收层的低反射率镀膜玻璃，包括玻璃基板及玻璃基板上镀有的金属和金属氧化物镀层，其特征在于，所述的玻璃基板上镀有的金属和金属氧化物镀层自玻璃基板向外依次为Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02，即在玻璃基板上依次镀有氧化锡层1氧化锌层2、镍镉合金层3、银层4、镍镉合金层5、氧化锡层6。所述的玻璃基板为普通6mm钠钙硅酸盐浮法玻璃。本专利技术镀有双层MCr吸收层的低反射率镀膜玻璃的制备方法，具有如下步骤I玻璃基板清洗、干燥；II预真空过渡玻璃基板通过不同的真空腔室，使玻璃从大气状态传送到工艺所需的高真空状态；本底真空度小于5 X IO-5Hibar ；III镀氧化锡层1 通过交流电源将金属锡靶在氩氧气氛中溅射，溅射气压范围 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脉冲电源频率为15kHz 25kHz ；溅射氩氧混合气体积比例为氩氧=7 10 3 5，膜层厚度为25 30nm ；IV镀氧化锌层2:通过交流电源将金属锌在氩氧气氛中溅射，溅射气压范围 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脉冲电源频率为15kHz 25kHz ；溅射氩氧混合气体积比例为氩氧=10 7 4 5。膜层厚度为7 12nm ；V镀镍镉合金层3 通过直流电源将镍镉合金在氩气气氛中溅射，溅射气压范围为 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr，膜层厚度为 4 7nm ；VI镀银层4:通过直流电源将金属银靶在氩气气氛中溅射，溅射气压范围为 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr，膜层厚度为 10 14nm ；VII镀镍镉合金层5 通过直流电源将镍镉合金在氩气气氛中溅射，溅射气压范围为8 X l(rtibr 2 X KT4Hibr，膜层厚度为1 3nm ；VIII镀氧化锡层6 通过交流电源将金属锡靶在氩氧气氛中溅射，溅射气压范围 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脉冲电源频率为15kHz 25kHz ；溅射氩氧混合气体积比例为氩氧=3 5 3 7。膜层厚度为25 !35nm ；IX预真空过渡玻璃基板通过不同的真空腔室，使玻璃产品从高真空的工艺状态传送到大气状态；X成品包装。本专利技术的有益效果是，采用双层NiCr复合吸收层的膜系，利用NiCr的高吸收率， 有效地降低了玻璃的可见光反射率。提供了一种可以同时满足低遮阳系数和低反射要求的镀膜玻璃。附图说明图1是本专利技术双层MCr吸收层的低反射率镀膜玻璃的膜层结构示意图。附图标记如下1——氧化锡层2——氧化锌层3——镍镉层4——银层5——镍镉层6——氧化锡层具体实施例方式本专利技术包括玻璃基板及玻璃基板上镀有的金属和金属氧化物镀层，所述的玻璃基板为普通6mm钠钙硅酸盐浮法玻璃，所述的玻璃基板上镀有的金属和金属氧化物镀层自玻璃基板向外依次为Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02，即在玻璃基板上依次镀有氧化锡层1、 氧化锌层2、镍镉合金层3、银层4、镍镉合金层5、氧化锡层6。本专利技术的镀膜工艺，采用德国Applied Film A-Type系列建筑平板玻璃双端连续式镀膜机，包括5个交流旋转双靶位阴极，9个直流单靶位阴极。交流溅射供电柜对每个溅射靶材的最大输出功率为120kw。在生产时使用4个交流旋转双靶位阴极，3个直流单靶位阴极，所用玻璃基板为普通6mm钠钙硅酸盐浮法玻璃。参见图1，采用上述设备条件，各膜层镀制的工艺参数及靶材分布的具体实施例如下实施例权利要求1.一种镀有双层MCr吸收层的低反射率镀膜玻璃，包括玻璃基板及玻璃基板上镀有的金属和金属氧化物镀层，其特征在于，所述的玻璃基板上镀有的金属和金属氧化物镀层自玻璃基板向外依次为Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02，即在玻璃基板上依次镀有氧化锡层(1)氧化锌层O)、镍镉合金层(3)、银层G)、镍镉合金层(5)、氧化锡层(6)。2.根据权利要求1的镀有双层MCr吸收层的低反射率镀膜玻璃，其特征在于，所述的玻璃基板为普通6mm钠钙硅酸盐浮法玻璃。3.权利要求1的镀有双层MCr吸收层的低反射率镀膜玻璃的制备方法，具有如下步骤I玻璃基板清洗、干燥；II预真空过渡玻璃基板通过不同的真空腔室，使玻璃从大气状态传送到工艺所需的高真空状态；本底真空度小于5X 10_5mbar ；III镀氧化锡层(1)通过交流电源将金属锡靶在氩氧气氛中溅射，溅射气压范围 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脉冲电源频率为15kHz 25kHz ；溅射氩氧混合气体积比例为氩氧=7 10 3 5，膜层厚度为25 30nm;IV镀氧化锌层(2)通过交流电源将金属锌在氩氧气氛中溅射，溅射气压范围 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脉冲电源频率为15kHz 25kHz ；溅射氩氧混合气体积比例为氩氧=10 7 4 5。膜层厚度为7 12nm ；V镀镍镉合金层(3)通过直流电源将镍镉合金在氩气气氛中溅射，溅射气压范围为 8X 10_3mbr 2 X 10_4mbr，膜层厚度为 4 7nm ；VI镀银层(4)通过直流电源将金属银靶在氩气气氛中溅射，溅射气压范围为 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr，膜层厚度为 10 14nm ；VII镀镍镉合金层(5)通过直流电源将镍镉合金在氩气气氛中溅射，溅射气压范围为 8X l(T3mbr 2 X l(T4mbr，膜层厚度为 1 3nm ；VIII镀氧化锡层(6)通过交流电源将金属锡靶在氩氧气氛中溅射，溅射气压范围 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脉冲电源频率为15kHz 25kHz ；溅射氩氧本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵永进，杨贵祥，张大为，方志坚，
申请(专利权)人：天津耀皮工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：
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