萘主链聚合物及含有该聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法技术

提供了萘主链聚合物和含有该萘主链聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法。所述硬掩模组合物含有有机溶剂、引发剂、和由式B表示的萘主链聚合物，这些在说明书中有描述。本发明专利技术的硬掩模组合物可以用于提供以很高的纵横比图案化的多层薄膜，并且可以将良好的图像转移至下层。另外，通过旋转涂覆技术可以很容易地施覆组合物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
可以将抗反射涂层(ARC)材料加入平版印刷操作过程中使用的成像层中，以将制造装置过程中成像层与目标材料层之间的反射率最小化。然而，当加入ARC材料的成像层与目标材料层具有相似的组成时，成像层会显示出很差的蚀刻选择性，使得在蚀刻目标材料层的过程中部分成像层会损耗。因此，可以包括硬掩模作为中间层，该硬掩模设置在成像层和目标材料层之间。硬掩模可以从上面的成像层接受图案，并可被用于将图案转移至下面的材料层。然而，需要显示抗反射性能的硬掩模材料。于2006年12月30日提交至韩国知识产权局的、专利技术名称为“High Etch Resistant Hardmask Composition Having Antireflective Properties with High Carton Content and Method for Forming Patterned Material Layer Using the Same (具有高抗发射性和高碳含量的高抗蚀刻硬掩模组合物和使用该组合物形成图案化材料层的方法)”的韩国专利申请No. 10-2006-0139169的全部内容在此引入作为参考。
技术实现思路
因此，本专利技术提供，这些基本上克服了由相关的技术的限制和缺点产生的一个或多个问题。因此，实施方式的一个特征提供了萘主链聚合物。因此，实施方式的另一个特征提供了含有该聚合物的抗反射硬掩模组合物。因此，实施方式的另一个特征提供了材料层的图案化方法。通过提供由式B表示的萘主链聚合物来实现至少一个上述和其它特征及优点权利要求1.一种萘主链聚合物，该聚合物由式B表示2.根据权利要求1所述的聚合物，其中，所述萘基为取代的，使得式B由式2表示3.根据权利要求2所述的聚合物，其中R3、R4和も中的至少ー个为10个碳以下的烃基，且所述10个碳以下的烃基包括C1-Ciq 烷基、C6-Cltl芳基、或者烯丙基。4.根据权利要求1所述的聚合物，其中，R1为5.根据权利要求1所述的聚合物，其中，所述聚合物的重均分子量为1000至30000。6.ー种抗反射硬掩模组合物，该组合物含有 有机溶剂；引发剂；和由式B表示的聚合物7.根据权利要求6所述的组合物，其中，基于100重量份的所述有机溶剂，所述组合物含有1-30重量份的所述至少一种聚合物。8.根据权利要求6所述的组合物，其中，所述组合物还含有交联剂和催化剂，其中 所述组合物含有1-20重量％的所述至少一种聚合物，所述组合物含有0. 001-5重量％的所述引发剂， 所述组合物含有75-98. 8重量％的所述有机溶剂， 所述组合物含有0. 1-5重量％的所述交联剂，且所述组合物含有0. 001-0. 05重量％的所述催化剂。9.根据权利要求6所述的组合物，其中，所述组合物还含有交联剂，其中所述交联剂包括醚化的氨基树脂、N-甲氧基甲基三聚氰胺树脂、N- 丁氧基甲基三聚氰胺树脂、甲基化的脲树脂、丁基化的脲树脂、甘脲衍生物、2，6-双(羟甲基)_对甲酚化合物、或双环氧化合物中的一种或几种。10.一种材料层的图案化方法，该方法包括使用根据权利要求6所述的组合物在所述材料层上形成硬掩模层； 在所述硬掩模层上形成辐射敏感成像层；以形成图案的方式将成像层暴露到辐射下，以在所述成像层中形成辐射曝光区域的图案；选择性地除去部分所述成像层和所述硬掩模层以暴露部分所述材料层；以及蚀刻通过所述硬掩模层中的开口暴露的部分材料层。全文摘要提供了萘主链聚合物和含有该萘主链聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法。所述硬掩模组合物含有有机溶剂、引发剂、和由式B表示的萘主链聚合物，这些在说明书中有描述。本专利技术的硬掩模组合物可以用于提供以很高的纵横比图案化的多层薄膜，并且可以将良好的图像转移至下层。另外，通过旋转涂覆技术可以很容易地施覆组合物。文档编号G03F7/09GK102432841SQ20111030644公开日2012年5月2日 申请日期2007年12月31日 优先权日2006年12月30日专利技术者吴昌一, 尹敬皓, 李镇国, 邢敬熙, 金旼秀, 金钟涉, 鱼东善 申请人:第一毛织株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：尹敬皓，金钟涉，鱼东善，吴昌一，邢敬熙，金旼秀，李镇国，
申请(专利权)人：第一毛织株式会社，
类型：发明
国别省市：