箝制基板的方法及箝夹准备单元技术

本发明专利技术涉及一种将基板(22)箝制于基板支撑结构(23)的表面上的方法。首先，将液体施加于该基板支撑结构的表面上。该表面设有多个接触组件。所施加的液体使得接触组件被液体层所完全覆盖。接着，提供所述基板并将所述基板放置于所述液体层上。最后，从所述基板下移除液体，使得所述基板搁置于多个接触组件上且被所述基板与所述基板支撑结构的表面之间的液体的毛细层所施加的毛细箝制力所箝制。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于将基板箝制于基板支撑结构的表面上的方法，一种被设置成将基板箝制于基板支撑结构上的箝夹准备单元，以及一种包括所述箝夹准备单元的光刻系统。
技术介绍
将诸如晶圆的基板箝制到诸如晶圆台的基板支撑结构的表面上在半导体产业中特别是在光刻(lithography)系统中早为已知。在这样的光刻系统中，通过入射的光子或诸如离子和/或电子等带电粒子，而使被箝制的基板产生图案。箝制步骤能确保基板表面的目标部位产生高度精确的图案。优选地，不仅在曝光期间要使用箝制步骤进行位置控制， 而且在输送基板期间也要利用箝制步骤，例如将基板插入光刻系统的曝光室内和/或从该处移除。可通过吸走基板与基板支撑结构之间的空气，亦即在两者之间产生真空，而达到箝制效果。然而，假如在真空环境下需要上述位置控制，这样的箝制机构并不会产生作用。 因此，就产生出许多不同的解决方案以便在真空环境内箝制基板，例如通过电子机械式箝制的方式而箝制基板。应该明白，这样的方案并不适用于与例如电子和/或离子等带电粒子构成的的一条或多条光束一起使用。本案申请人所申请之国际专利申请案第W02009/011574号公开了一种光刻系统， 其具有利用一层静止液体(以下称之为毛细层)箝制基板的基板支撑结构。毛细层的厚度能够使基板表面与基板支撑结构的表面之间产生一压力降。如W02009/011574所述，此液体一边黏着于基板表面而另一边黏着于基板支撑结构，如此一来使液体表面产生圆周方向的延伸，且在此二表面之间以凹面方式延伸。即使施力将基板从基板支撑结构的表面移除， 如此形成的凹面状液体表面也趋于维持其本身形状。在一些特殊的情形下，W02009/011574中所述的基板箝制机构并未以最佳方式进行操作，其原因例如是由于在毛细层中存在有空隙的缘故。而且，由于蒸发过程的缘故，毛细层所存在的时间受到限制。因此，箝制机构仅适用于一部份欲产生图案的装置。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种基板支撑结构，用以通过毛细层而将基板箝制于该基板支撑结构的表面上；此外，本专利技术还提供一种箝制基板于基板支撑结构的表面上的方法，该方法具有改进的性能。通过提供箝制基板于基板支撑结构的表面上的方法，可以达成上述目的，该方法包括以下步骤将液体施加于所述基板支撑结构的表面上，所述表面设有多个接触组件，使得所述液体形成覆盖所述接触组件的层；提供所述基板并将所述基板设置于所述液体层上；从所述基板底下移除所述液体的一部份，使得所述基板搁置于所述多个接触组件上并由所述基板与所述基板支撑结构的所述表面之间的所述液体的毛细层所施加的毛细箝制力所箝制。根据本专利技术的另一方面，提供一种箝夹准备单元用以箝制一基板，该箝夹准备单元包括基板支撑结构，其一表面设有多个接触组件；液体分配单元，用于施加液体于该基板支撑结构的表面上，使得所述接触组件被液体层覆盖；基板输送单元，用于将该基板放置于该液体层上；以及液体移除系统，用于从所述基板下方移除一部份的液体，使得所述基板搁置于所述多个接触组件上且被所述基板与该基板支撑结构的表面之间的液体的毛细层所施加的毛细箝制力箝制。根据本专利技术的另一方面，提供一种从基板支撑结构上松开基板的方法，其中该基板被所述基板与所述基板支撑结构的表面之间的液体的毛细层施加的毛细箝制力所箝制。 该方法包括以下步骤将额外的液体在所述毛细层的外圆周表面处提供至所述毛细层；以及将所述基板从所述液体抬起。根据本专利技术的另一方面，提供松开单元，其包括基板支撑结构，其表面上通过毛细层而箝制有基板；液体移除系统，其用于在所述毛细层的外圆周表面处提供额外液体至所述基板下方的所述毛细层；和基板输送单元，用于从所述液体层移除所述基板。根据本专利技术的另一方面，提供包括光刻设备光刻系统，该光刻设备包括辐射系统，用以提供具有图案的辐射光束；光学系统，用以将所述具有图案的辐射光束投射至基板的目标部位上；以及箝夹准备单元，用以将所述基板箝制至基板支撑结构的表面上。很明显地，仍可以其它不同的方式实施本专利技术的原理。附图说明将参考附图所示实施例对本专利技术的各方面进行说明，其中图1是示意性地示出两个结构之间的毛细层的剖面图；图2是示意性地示出对图1的毛细层的钳夹稳定性具有负面影响的过程的剖面图；图3A是根据本专利技术第一实施例的基板支撑结构的剖面图；图;3B是图3A的基板支撑结构之俯视图；图4示意性地示出基板剥落的概念；图5是依据本专利技术第二实施例用以支撑基板的基板支撑结构的剖面图；图6A至6C是图5的基板支撑结构的俯视图，进一步示意性地示出再次箝制 (reclamping)的概念；图7A至7J示意性地示出执行依据本专利技术实施例中将基板箝制于基板支撑结构表面上的方法；图8A示意性地示出依据本专利技术第三实施例的基板支撑结构的俯视图；图8B示意性地示出由图8A的基板支撑结构和基板的组合所形成的钳夹的剖面图；图9示意性地示出基板输送及曝光设备，其可与多个实施例的基板支撑结构一起使用；图10示意性地示出另一个基板输送及曝光设备，其可与多个实施例的基板支撑结构共同使用；图IlA至IlD示意性地示出示例性钳夹准备单元的操作，其可与图9或图10的基6板输送及曝光设备共同使用。在这些附图中，至少功能上对应的结构部件以相同的附图标记加以标示。 具体实施例方式以下，仅参考附图以示例的方式对本专利技术的实施例进行说明。图1示意性地示出了诸如水的毛细液体的毛细液体层1，其介于诸如晶圆的第一基板2和第二基板3之间，该第二基板如类似晶圆台的基板支撑结构。第一基板2及第二基板3分别具有大致平坦的表面5与6。第一基板2及第二基板3的相向表面5与6之间的标称距离被定为高度h。毛细液体层1具有外液体表面8，该外液体表面8由于液体黏着于第一基板2和第二基板3的缘故而大致为凹面状。假如第一基板2和第二基板3受到来自大致垂直于相向表面5与6的方向上的力时，凹面状的液体表面8倾向维持其本身形状。外液体表面8的凹陷取决于毛细层1与第一基板2的表面5之间的接触角，及取决于毛细层1与第二基板3的表面6之间的接触角。 各接触角取决于毛细层1中所使用的液体以及两个基板2、3的材质特性。关于将具有大致平坦相向表面的两个结构保持在一起的毛细层的其它相关详细内容可参考国际专利申请第W02009/011574号，在此结合其内容作为参考。图2示意性地示出对利用图1的毛细液体层1所执行的箝制操作稳定性有负面影响的处理的剖面图。在下文中，“钳夹”一词指利用毛细层1而将基板2箝制在基板支撑结构3上的配置。假如在液体中具有预先存在的气泡时，将钳夹引进到真空环境内会使这些气泡在毛细层内膨胀扩大。假如周围的压力减小，如从Ibar减小至10_6mbar时，则初始的小气泡的尺寸将会增大几个等级。从图2可看出，具有气泡11尺寸的气泡可严重影响箝制强度， 至少局部影响箝制强度，且可能对钳夹的稳定度产生负面影响。可使钳夹不稳定的另一项机制为自然形成的空隙(void)，这些空隙例如是由于毛细液体层中的气穴或溶解的气体沉淀所引起的。这样的空隙的示例如图2中以附图标记13 所标示。假如钳夹被置于真空环境下，则气穴现象所形成的空隙将会以与上述预先存在的气泡类似的方式增大。所产生的空隙对钳夹的稳定性具有负面影响。除因为存在气泡和/或空隙而降低钳夹的稳本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：HJ德琼，MJJ维兰德，
申请(专利权)人：迈普尔平版印刷IP有限公司，
类型：发明
国别省市：