本发明专利技术公开了一种研磨机，包括研磨机构、与所述研磨机构相连的传动机构，所述传动机构下面连有驱动机构，所述研磨机构包括上抛光片和下抛光片，所述上抛光片下面套有上研磨盘，所述下抛光片上面套有下研磨盘，所述上研磨盘和下研磨盘上均刻有印痕，所述上研磨盘和下研磨盘上的印痕均组成方格，所述传动机构包括支撑所述下抛光片的支撑杆和安装在所述支撑杆周围且与所述驱动机构相连的运行装置。本发明专利技术研磨机使用寿命长、工作效率高、抛光精确度高。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及研磨机机械领域，具体涉及一种研磨机。
技术介绍
传统研磨机的种类很多，我们主要介绍用于研磨玻璃、陶瓷等的大型自动数控研磨机，该研磨机一般上面是研磨机构，下面设有传动机构，传统研磨机用的是摆线针轮，功率小、稳定性差。研磨机的支撑中轴轴套外面设的是自润滑轴承，自润滑轴承刚性差、不耐用。传动机构外面箱体是采用封闭式的，不易观测传动机构的工作状况，也不便于传动机构的拆卸和装载。研磨机的研磨盘容易损坏。
技术实现思路
专利技术目的本专利技术为了解决现有技术的不足，提供了一种稳定性好、研磨精确度高、使用寿命长的研磨机。技术方案一种研磨机，包括研磨机构、与所述研磨机构相连的传动机构，所述传动机构下面连有驱动机构，所述研磨机构包括上抛光片和下抛光片，所述上抛光片下面套有上研磨盘，所述下抛光片上面套有下研磨盘，所述上研磨盘和下研磨盘上均刻有印痕，上研磨盘的印痕为5-10mm深，下研磨盘的印痕为4-10mm深，所述上研磨盘和下研磨盘上的印痕均组成方格，所述上研磨盘上的方格大小为10X10mm-20X20mm，所述下研磨盘上的方格大小为15 X 15mm-30 X 30mm，所述传动机构包括支撑所述下抛光片的支撑杆和安装在所述支撑杆周围且与所述驱动机构相连的运行装置。作为优化，所述驱动机构与所述传动机构之间连有减速器。作为优化，所述驱动机构和传动机构外面设有箱体。作为优化，所述支撑轴轴套外面设有滚针轴承。作为优化，所述箱体的侧面设有门，所述门以所述箱体的侧面底边为下边框，所述箱体的侧面与所述箱体之间设有拆分连接装置。作为优化，所述抛光机的驱动机构与PLC集中控制箱相连，所述PLC集中控制箱设有PCL集中控制系统。作为优化，所述上抛光片上面设有气缸。作为优化，所述PLC集中控制箱内装有比例阀与所述PCL集中控制系统相连，所述比例阀还与所述气缸相连。作为优化，所述上抛光片分成两层分别为上层抛光片和下层抛光片，所述上层抛光片和下层抛光片中间对应设有若干相相匹配的通孔，所述通孔内装有固定装置，所述上层抛光片上还设有以所述上层抛光片的中心为对称点对称定位销。作为优化，所述支撑轴轴套下方设有一组向心轴承，支撑轴轴套上方设有两组轴承，分别为套在支撑轴轴套上方的双列滚珠轴承和套在所述双列滚珠轴承下方的平面轴承。本专利技术研磨机工作的时候上抛光片带动上研磨盘的旋转速度为每分钟小于60 圈，对应下抛光片带动下研磨盘的旋转速度为每分钟小于50圈，上研磨盘比下研磨盘的旋转速度大于10圈每分钟。研磨盘的厚度可以根据需要制作，一般在35mm-45mm之间。有益效果本专利技术研磨机使用寿命长、工作效率高、抛光精确度高。在与驱动装置相连的传动装置上装有减速机，使得该传动机构功率大、稳定性好、更加耐用，通过在研磨盘上课印痕的方法来研磨，可以增加研磨盘的厚度，使研磨盘不易损坏。附图说明图1为本专利技术研磨机主视图2为本专利技术研磨机的上研磨盘结构示意图； 图3为本专利技术研磨机的下研磨盘结构示意图； 图4为本专利技术研磨机大箱体一个侧面结构示意图； 图5为本专利技术研磨盘的支撑轴局部放大结构示意图； 图6为本专利技术研磨盘的上抛光片结构示意图。具体实施例方式如图所示，一种研磨机，包括研磨机构1、与所述研磨机构1相连的传动机构2，所述传动机构2下面连有驱动机构3，所述研磨机构1包括上抛光片和下抛光片4，所述上抛光片下面套有上研磨盘5，所述下抛光片4上面套有下研磨盘6，所述上研磨盘5和下研磨盘6上均刻有印痕7，上研磨盘5的印痕为5-10mm深，下研磨盘6的印痕为4-10mm 深，所述上研磨盘5和下研磨盘6上的印痕均组成方格，所述上研磨盘5上的方格大小为 10 X 10mm-20 X 20mm,所述下研磨盘6上的方格大小为15 X 15mm-30 X 30mm,所述传动机构2 包括支撑所述下抛光片4的支撑杆8和安装在所述支撑杆8周围且与所述驱动机构3相连的运行装置，所述驱动机构3与所述传动机构2之间连有减速器9，所述驱动机构3和传动机构2外面设有箱体10，所述支撑轴8轴套外面设有滚针轴承，所述箱体10的侧面设有门 11，所述门11以所述箱体10的侧面底边为下边框，所述箱体10的侧面与所述箱体10之间设有拆分连接装置12，所述抛光机的驱动机构3与PLC集中控制箱相连，所述PLC集中控制箱设有PCL集中控制系统，所述上抛光片上面设有气缸，所述PLC集中控制箱内装有比例阀与所述PCL集中控制系统相连，所述比例阀还与所述气缸相连，所述上抛光片分成两层分别为上层抛光片13和下层抛光片14，所述上层抛光片13和下层抛光片14中间对应设有若干相相匹配的通孔15，所述通孔15内装有固定装置，所述上层抛光片13上还设有以所述上层抛光片13的中心为对称点对称定位销16，所述支撑轴8轴套下方设有一组向心轴承 17，支撑轴8轴套上方设有两组轴承，分别为套在支撑轴轴套上方的双列滚珠轴承18和套在所述双列滚珠轴承18下方的平面轴承19。权利要求1.一种研磨机，其特征在于包括研磨机构(1)、与所述研磨机构(1)相连的传动机构 (2)，所述传动机构(2)下面连有驱动机构(3)，所述研磨机构(1)包括上抛光片和下抛光片 (4)，所述上抛光片下面套有上研磨盘(5)，所述下抛光片(4)上面套有下研磨盘(6)，所述上研磨盘(5)和下研磨盘(6)上军刻有印痕(7)，上研磨盘(5)的印痕为5-10mm深，下研磨盘(5)的印痕为4-10mm深，所述上研磨盘(5)和下研磨盘(6)上的印痕均组成方格(6)， 所述上研磨盘(5 )上的方格大小为10 X 10mm-20 X 20mm,所述下研磨盘(6 )上的方格大小为 15X15mm-30X30mm,所述传动机构(2)包括支撑所述下抛光片(4)的支撑杆(8)和安装在所述支撑杆(8 )周围且与所述驱动机构(3 )相连的运行装置。2.根据权利要求1所述研磨机，其特征在于所述驱动机构(3)与所述传动机构(2)之间连有减速器(9)。3.根据权利要求1所述研磨机，其特征在于所述驱动机构(3)和传动机构(2)外面设有箱体(10)。4.根据权利要求1所述研磨机，其特征在于所述支撑轴(8)轴套外面设有滚针轴承。5.根据权利要求3所述研磨机，其特征在于所述箱体(10)的侧面设有门(11)，所述门(11)以所述箱体(10)的侧面底边为下边框，所述箱体(10)的侧面与所述箱体(10)之间设有拆分连接装置(12)。6.根据权利要求1所述研磨机，其特征在于所述抛光机的驱动机构(3)与PLC集中控制箱相连，所述PLC集中控制箱设有PCL集中控制系统。7.根据权利要求1所述研磨机，其特征在于所述上抛光片上面设有气缸。8.根据权利要求6或7所述的一种大型抛光机，其特征在于所述PLC集中控制箱内装有比例阀与所述PCL集中控制系统相连，所述比例阀还与所述气缸相连。9.根据权利要求1所述研磨机，其特征在于所述上抛光片分成两层分别为上层抛光片(13)和下层抛光片(14)，所述上层抛光片(13)和下层抛光片(14)中间对应设有若干相相匹配的通孔(15)，所述通孔(15)内装有固定装置，所述上层抛光片(13)上还设有以所述上层抛光片(13)的中心为对称点对称定位销(16)。10.根据权利要求1所述研磨机，其特征在于所述支撑轴本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡杰，曹锡明，黄云飞，
申请(专利权)人：南通瑞尔实业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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