用于研磨金属产物的研磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供的用于研磨金属产物的研磨装置，用于研磨一连续铸造的钢板、钢条、或钢块，所述研磨装置至少有二个研磨机组，各研磨机组有一保持件以将一研磨单元保持住，其中一研磨单元至少有一受驱动的研磨盘，研磨盘的旋转轴互相平行延伸。利用本实用新型专利技术的用于研磨金属产物的研磨装置，可使得此研磨装置的驱动功率提高时，研磨功率(研磨速率)直接成比例提高，特别是可使研磨功率分配到研磨盘，使各研磨盘有一自己的接触驱动器。特别是可使研磨功率分配到研磨盘，使各研磨盘有一自己的接触区域。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种通过研磨或抛光来回收材料的装置，特别是涉及一种用于研磨金属产物的研磨装置。
技术介绍
连续铸造产物——特别是钢板——大多在连续铸造后，利用研磨作表面处理，以便在该产物加工时达成充分质量。在研磨连续铸造的钢板时，该钢板一般作往复运动，在一研磨装置(研磨机组)下方沿纵方向来回运动。在每次往复运动终了时，研磨装置完成分段式的横推进运动，直到整个钢板表面研磨过为止，在研磨时钢板在一研磨枱上以其长的宽度侧支持成横卧状。欧洲专利EP 0053274A1中提到一种此类习知的研磨钢板的装置。在钢板的所谓的HP研磨(高压研磨)的场合，基于经济理由，在此，如果马达的驱动功率提高(例如当研磨盘宽度加倍时从315千瓦上升到630千瓦)，可将研磨盘宽度加大使研磨功率提高；但研磨盘的宽度受研磨盘的制造程序、及研磨盘的结合剂强度限制； 实际上，使用的研磨盘宽度没有超过150mm的。因此习知技术系一研磨心轴上使用数个(特别是二个)研磨盘，相邻而设。然而在此，其缺点如下当研磨时，研磨盘与研磨物之间的接触区域在研磨盘的宽度范围移动， 而且受钢板往复运动影响，接触区域从研磨盘外缘周期性地来回移动到研磨盘中央。因此， 将接触区域加宽以及将驱动功率提高不一定能如所愿地提高研磨功率，而可能只造成研磨盘的停转时间增加。至今并没有人认为在驱动功率加倍时，在一驱动心轴上使用双倍研磨盘也可造成研磨速率加倍。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于研磨金属产物的研磨装置，上述那种驱动功率的提高直接使本技术的用于研磨金属产物的研磨装置的研磨速率提高，在金属产物如钢板、钢条(Knilppel，英billet)及钢块研磨时，研磨程序的经济性得到很大改善。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，用于研磨一连续铸造的钢板、钢条、 或钢块，所述研磨装置至少有二个研磨机组，各研磨机组有一保持件以将一研磨单元保持住，其中一研磨单元至少有一受驱动的研磨盘，所述研磨盘的旋转轴互相平行延伸。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，各保持件支承成可绕一轴旋转，所述轴平行于所述研磨盘的旋转轴且距所述旋转轴有一段距离。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，包括调整装置，用于调整所述研磨盘的旋转轴与保持件的旋转轴之间的距离。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，所述用于调整距离的调整装置包含一偏心轴。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，各保持件包含一直线导引件，用以将所述研磨盘垂直于其旋转轴移动。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，所述研磨机组分别包含一负荷装置，以将所述研磨盘的一定压迫力施加到所述金属产物，所述负荷装置包含一研磨压力缸活塞系统。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，所述研磨机组可共同绕一轴旋转，所述轴垂直设置且垂直于所述研磨盘的旋转轴，所述旋转轴位于所述研磨盘的接触区域中，所述旋转轴位于在所述二研磨机组的研磨盘之间。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，所述研磨机组的研磨盘设成互相直接相邻。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，所述研磨机组的研磨盘有不同的颗粒度及/或构造。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，其中，所述研磨盘受驱动马达直接驱动，而没有设在其间的联动装置或其它组件。利用本技术的用于研磨金属产物的研磨装置，可使得此研磨装置的驱动功率提高时，研磨功率(研磨速率)直接成比例提高，特别是可使研磨功率分配到研磨盘，使各研磨盘有一自己的接触驱动器。特别是可使研磨功率分配到研磨盘，使各研磨盘有一自己的接触区域。附图说明图1是本技术的研磨装置的一研磨机组的示意图的主视图；图2是图1所示的研磨机组的仰视图；图3是一个具有二个研磨机组的研磨装置的示意图的俯视图；图4是图3的研磨装置的研磨盘的接触区域的放大示图。具体实施方式一种用于研磨金属产物的研磨装置1，用于研磨一连续铸造的钢板、钢条、或钢块， 研磨装置1至少有二个研磨机组3、4，其中各研磨机组3、4有一保持件5、6以将一研磨单元7、8保持住，其中一研磨单元至少有一受驱动的研磨盘9、10，研磨盘9、10的旋转轴A、B 互相平行延伸。各保持件5、6支承成可绕一轴CD旋转，轴平行于研磨盘9、10的旋转轴A、 B且距旋转轴有一段距离a、b。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1，包括调整装置13，用于调整研磨盘9、10的旋转轴A、B与保持件5、6的旋转轴C、D之间的距离a、b。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1，用于调整距离ab的调整装置13包含一偏心轴。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1，各保持件5、6包含一直线导引件， 用以将研磨盘9、10垂直于其旋转轴A、B移动。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1，研磨机组3、4分别包含一负荷装置14，以将研磨盘9、10的一定压迫力F施加到金属产物2，负荷装置14包含一研磨压力缸活塞系统。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1，研磨机组3、4可共同绕一轴E旋转，轴垂直设置且垂直于研磨盘9、10的旋转轴A、B，旋转轴E位于研磨盘9、10的接触区域中，旋转轴E位于在二研磨机组3、4的研磨盘9、10之间。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1，研磨机组3、4的研磨盘9、10设成互相直接相邻。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1，研磨机组3、4的研磨盘9、10有不同的颗粒度及/或构造。本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1，研磨盘9、10受驱动马达11、12直接驱动。图1及图2中显示一研磨机组3、4，它是图3所示的本技术的用于研磨金属产物的研磨装置1的构件。如图1、图2、图3所示，研磨机组34有一保持件5、6，它们做成摆动托架 (Pendelkonsole)形式，具有对立重铊19。保持件5、6可绕一旋转轴C、D旋转。旋转轴C、 D可以为保持件5、6提供支承。研磨机组3、4有一研磨单元7、8，且有一受支承的研磨盘9、 10，该研磨盘被一驱动马达11、12直接驱动。研磨盘绕一旋转轴A、B转动。为了将所要的压迫力F施到要研磨的金属产物2，故设有一负荷装置14 (只作简示)。负荷装置14可以设计成活塞-缸系统形式。图中亦显示距离改变装置13，利用它可将旋转轴C、D与旋转轴A、B之间的距离改变。此处，旋转轴A、B可相对于旋转轴C、D沿水平方向H利用一偏心轮调整或调移。所要研磨的物品(即金属产物2)在研磨盘9、10下方以振动方式来回移动，这点利用产物2的运动方向G表示。图3中显示整个研磨装置1，其中又显示运动方向G，金属产物2在一研磨行程时沿此方向，图中可看出，二个保持件5、6 (即二个摆动托架)互相平行，且其一端分别设有一个包括一研磨盘9、10的研磨单元7、8，利用偏心轴13 (只作简单图示)可将研磨盘9、10的位置沿水平方向改变；换言之，保持件5、6的旋转轴C或D到研磨盘C或D的旋转轴A或B 之间的距离a或b可略微改变。利用偏心轮13造成之沿水平方向H的移动用el或e2表示。如果该二保持件5、6的偏心轴沿水平的方向H看系沿相反方向调整，则在研磨盘910 上造成沿水平方向H的一距离，它等于el及e2的总和。此外，整研磨装置1可绕一轴E旋转，该旋转轴沿本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：君特·席勒，
申请(专利权)人：SMS逻辑系统股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：