一种ＥＵＶ微光刻的照明光学系统，用于将来自辐射源的照明光束导引到物场。至少一个ＥＵＶ反射镜（１３）包括反射面（２９），为了形成该照明光束，反射面（２９）具有非平面反射镜形貌。ＥＵＶ反射镜（１３）具有布置在其前面的至少一个ＥＵＶ衰减器。面向ＥＵＶ反射镜（１３）的反射面（２９）的衰减器面具有衰减器形貌，该衰减器形貌设计为与该反射镜形貌互补而使得衰减器面的至少部分以恒定间隔距反射面（２９）布置。结果是照明光学系统，其中可以校正物场上照明参数、例如照明强度分布或者照明角度分布的不利变化，且使不利的辐射损失尽可能少。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种EUV微光刻的照明光学系统，其用于将来自辐射源的照明光束导引到物场，具有至少一个具有反射面的EUV反射镜，并且为了导引照明光束而该EUV反射镜具有非平面反射镜的形貌。本专利技术还涉及用于这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统以及具有这种照明系统的投射曝光装置。最后，本专利技术涉及一种微结构或者纳结构部件的制造方法以及利用这种方法制造的部件。
技术介绍
从US 2007/0041004 AUUS 6，445，510 Bl 以及 US 2007/0058274 Al 已知一种投射曝光装置中的照明光学系统的衰减器。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是开发上述类型的照明光学系统，从而可以校正物场上如照明强度分布或者照明角度分布等照明参数的不期望偏差，以及使不期望的辐射损失尽可能少。本专利技术通过EUV微光刻的照明光学系统来实现上述目的，该照明光学系统用于将来自辐射源的照明光束导引到物场，-具有至少一个EUV反射镜，该至少一个EUV反射镜具有反射面，为了形成该照明光束，该反射面具有非平面反射镜形貌，-具有至少一个EUV衰减器，其布置在该EUV反射镜的前面并且其面向该EUV反射镜的该反射面的衰减器面具有衰减器形貌，该衰减器形貌设计为与该反射镜形貌互补，使得衰减器面的至少部分距该反射面以恒定间隔布置。根据本专利技术，采用EUV衰减器校正了照明参数的不期望变化。衰减器形貌关于反射镜形貌的互补成型确保了 EUV衰减器能够非常接近EUV反射镜。即使照明光束以明显不同于零的入射角到达EUV反射镜，使EUV衰减器非常接近于EUV反射镜的这个可能性确保了，可被避免或最小化双通道损耗，该双通道损耗由于EUV衰减器上照明光的返回和离开光束的碰撞位置之间的偏差引起。以与EUV反射镜分离的子组件形式的EUV衰减器的优点得到保持。因此，对于EUV衰减器可以关于EUV反射镜精密地调整。此外，可以以不同设计的EUV衰减器取代特定EUV衰减器，以改变照明参数的影响。尽管间隔非常短，但是可以安全地避免EUV反射镜和EUV衰减器相互接触。EUV衰减器可用于影响物场上照明光的照明角度分布和强度分布二者。EUV衰减器的作用取决于其在照明光学系统中的位置。在为了将EUV衰减器定位在EUV反射镜前面而提供的平面内，可以根据这个平面的情况而改变物场照明的场功能和光瞳功能的参数。对于位于与照明光学系统的场平面或者光瞳平面一致的平面内的EUV衰减器，可以专门影响仅场功能的参数或者光瞳功能的参数。非平面反射镜形貌意味着关于反射镜形貌互补设计的衰减器形貌也是非平坦，就是说是不平的。非平坦反射镜形貌可由反射镜的反射面中的对应曲度或降反射镜分成独立反射镜区段(例如独立反射镜分面)而导致。EUV衰减器与EUV反射镜之间的间隔在不超过200 μ m的范围内发现特别适合。EUV衰减器可具有至少一个EUV光阑，其具有预定光阑轮廓。这确保了来自EUV衰减器的良好限定的衰减作用。在不需要衰减的点，允许照明光通过EUV衰减器或者EUV衰减器完全不衰减。替换或者附加地，EUV衰减器可具有至少一个灰度滤波器，就是说具有灰度滤波功能的部件。这通过灰度滤波器对EUV衰减分布的适当精确成型，使来自EUV衰减器的衰减作用的分布精确成型。这意味着根据校正功能可调整照明光的强度。可以影响或调整物场照明的均勻度，就是说一致度，以调整或影响物场照明的椭圆率或远心度。也可以调整或影响从以限定方式预定的来自多个照明角度的多个照明强度之间的物场照明的强度比率，这已知为极平衡。这些引用参数的单个例子或者全部可被调整或影响。EUV反射镜的反射面可具有自由形式表面的形式。这使得物场照明与特定预设相匹配。如果需要，可以利用具有自由形式表面设计的EUV反射镜而对矩形物场照明。EUV反射镜的反射面可为分面表面的形式，具有多个反射独立分面、至少某些特定独立分面能够具有与EUV衰减器的相关衰减器部分。这种衰减器部分可与多个独立分面相关。这种设计的分面镜尤其可以是照明几何形状的照明场分面镜或者光瞳分面镜，例如可从US 2007/0058274 Al的图12中了解。这种分面镜的分面尤其独立地倾斜或翘起。在这种情况下，独立分面可关于EUV反射镜的主平面独立地倾斜大于0.5°、大于1°、大于2°、 大于3°或者大于5°的倾斜角。此外，分面可具有弯曲的、尤其是凹陷弯曲的反射面以形成光束。这种设计允许特定独立分面具体通过EUV衰减器而被衰减，以影响物场的照明参数。独立衰减器部分和/或包括多个这种衰减器部分的组合可从尤其是单片形成的主体制成。其可以是通过电镀形成的主体。衰减器部分可产生独立衰减。例如，可提供每一个具有不同衰减的两种类型衰减器部分或者超过两种类型的衰减器部分，例如三种、四种、五种或者甚至更多种。这使得以相当大的自由度影响物场照明参数。衰减器部分可具有与独立分面相关的具有遮光边缘的光阑。这使得独立分面以独立的方式精确地衰减。分面表面可分成多个分面区块。分面区块可继而组合多个独立分面。分面区块可在分面表面上具有插入的距离部分。EUV衰减器的互补成型衰减器面可在衰减器面部分上具有加固支柱，其与分面表面上的距离部分相邻布置。这使得EUV衰减器为自支撑设计，如果不具有这种设计将导致可用辐射的显著不期望的损耗。EUV衰减器的互补成型衰减器面可具有从EUV反射镜的反射面尤其通过电镀形成的层的形式。这确保了衰减器面相对于EUV反射镜的反射面的精确互补形状。这继而产生以非常短的间隔布置两个分面的可能。EUV衰减器的形成层可由镍制成。除了精确形成以外，这还允许EUV衰减器设计为具有小壁厚，这进一步减少尤其是双通道中的可用辐射的不期望损耗。EUV衰减器的壁厚大于或等于0. 03mm。该壁厚可在0. 03mm与0. 3mm之间的范围内，尤其在0. 05mm与0. 3mm之间的范围内。形成层可包含多个光阑。尤其是，这使得EUV反射镜的区域、尤其是分面镜形式的 EUV反射镜的独立分面独立遮光。除了衰减器部分，形成层可还包含非衰减通孔。在这种情况下，EUV反射镜仅在为了影响物场照明参数所需的点衰减。EUV反射镜的分面设计可不仅提供有校正分面，该校正分面的照明通过EUV衰减器的衰减器部分影响，而且还提供有不受影响的基础照明分面， 其在EUV衰减器中具有相关的非衰减通孔。只要EUV衰减器的衰减器部分具有某些相关的独立分面，衰减器部分可具有作为光阑的多个衰减器指。每个衰减器指则能够以独立地对于该衰减器指相关的至少一个独立分面微调的方式形成。这增加了产生用于照明光学系统的EUV衰减器的自由度。衰减器指的独立成型遮光边缘为照明产生适当的独立校正选择。每个独立分面具有精确一个或者至多两个相关衰减器指的配置允许EUV衰减器的紧凑同时易于处理的设计。衰减器指可具有共同的安装支撑。这产生了将衰减器部分连同共同安装支撑预先安装为一个模块的可能性，该衰减器部分与多个独立分面相关。安装支撑可以具有支撑支架，该支撑支架布置在具有多个独立分面的分面区块两侧，衰减器指布置在与该分面区块相关的两个支撑支架之间。这使得允许衰减器指的安装支撑，其中损失通过不期望遮光的尽可能小的分面镜的可用反射面。衰减器指在支撑支架上的保持点可布置在一个水平上，该水平取决于本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种ＥＵＶ微光刻的照明光学系统（４），用于将来自辐射源（３）的照明光束（１０）导引到物场（５），－具有包括反射面（２９）的至少一个ＥＵＶ反射镜（１３），为了形成该照明光束（１０），该反射面（２９）具有非平面反射镜形貌，－具有至少一个ＥＵＶ衰减器（２７），其布置在该ＥＵＶ反射镜（１３）的前面，并且面向该ＥＵＶ反射镜（１３）的该反射面（２９）的该ＥＵＶ衰减器（２７）衰减器面（３１）具有衰减器形貌，该衰减器形貌设计为与该反射镜形貌互补，使得衰减器面（３１）的至少部分以恒定间隔距该反射面（２９）布置而不接触该反射面（２９）。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：N施米茨，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE
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