本发明专利技术涉及盘状记录介质、光斑位置控制装置、光斑位置控制方法。在通过照射第一光在信息记录层上执行记录和再现并通过对与信息记录层分开设置的位置控制信息记录层照射第二光来控制信息记录层上的记录和再现位置时，可高精度校正由第一和第二光光轴偏离引起的记录和再现位置间偏离。凹坑可形成位置间隔限于预定第一间隔的凹坑列以螺旋或同心状形成并布置在半径方向，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的间隔设定成偏离预定第二间隔以形成具有多个凹坑列相位的盘状记录介质。从而可在传统轨道宽度中布置多个凹坑列。因此在使用把循轨伺服应用到根据再现位置的校正量而选择的凹坑列的校正方法时，可进行比一个轨道宽度更窄的宽度的高精度校正。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及盘状记录介质。另外，具体地，本专利技术涉及下述光斑位置控制装置及其方法该装置作为对照射到盘状记录介质上的光的光斑位置进行控制的光斑位置控制装置，很适于基于与信息记录/再现光分开照射的光来执行对信息的记录/再现位置的控制的情况。
技术介绍
例如，在下述专利文献中，已知通过信号光和参考光的干涉图案来执行数据记录的全息图记录/再现系统。在这个全息图记录/再现系统中，在记录时，被进行了与记录数据相应的空间光调制(例如光强度调制)的信号光和与这里的信号光分开的参考光被照射到全息图记录介质上，并且其干涉图案被形成在全息图记录介质上，从而执行数据记录。另外，在再现时，参考光被照射到全息图记录介质上。从而，通过照射参考光，获得与如上所述在全息图记录介质上形成的干涉图案相应的衍射光。从而，这样获得了与记录数据相符的再现光(再现信号光)。利用诸如CCD(电荷耦合器件)传感器或CMOS (互补金属氧化物半导体)传感器之类的图像传感器来检测这样获得的再现光，从而再现记录数据。现在，作为全息图记录再现系统，与诸如CD (压缩盘)或DVD (数字多功能盘)之类的传统光盘记录/再现系统类似，正在考虑沿着形成于记录介质上的轨道而记录数据。也就是说，通过与传统光盘的情况类似地执行诸如针对轨道的循轨伺服(tracking servo)之类的记录/再现位置控制，在盘上的适当位置执行数据记录。将利用图32中的截面构造图来描述在执行这种记录/再现位置控制的情况下使用的全息图记录介质的构造的示例。在图32中，示出了具有反射膜的反射型的全息图记录介质100的构造示例。如图所示，全息图记录介质100具有彼此分开形成的记录层(106)和位置控制信息记录层，在该记录层(106)上利用上述信号光和参考光的干涉图案来执行全息图的记录，而在该位置控制信息记录层上，利用基板110上的不平坦截面构造执行了用于位置控制的地址信息等等的记录。具体而言，全息图记录介质100按照从上层起的顺序具有覆盖层105、记录层106、 反射膜107、中间层108、反射膜109和基板110。在再现时用于再现全息图的激光(上述的参考光)被照射到形成在记录层106的下层的反射膜107上，并且在获得与记录在记录层106上的全息图相应的再现图像时，这被设为以反射光的形式返回到装置侧。另外，在基板110上以螺旋状或同心状形成用于引导记录层106上的全息图的记录/再现位置的轨道。例如，可以通过利用凹坑列(pit row)执行地址信息等等的信息记录来形成轨道。形成在基板110的上层的反射膜109被设置来获得与凹坑列相应的反射光。注意，中间层108例如是诸如树脂之类的粘合材料。用于在记录层106上执行全息图的记录/再现的记录/再现光和用于获得来自位置控制信息的反射光的位置控制光被各自分别照射到具有例如以上所述的截面构造的全息图记录介质100上。现在，如果我们假定仅用一类光，既用于全息图的记录/再现又用于位置控制，则存在这样的风险，即与基板110(反射膜109)的不平坦截面形状相对应的成分将作为噪声叠加在全息图的再现图像上，从而使再现能力恶化。因此，对于全息图记录/再现系统中的位置控制，随同全息图的记录/再现光一起，单独照射用于获得来自位置控制信息记录层的反射光的位置控制光。另外，在这样照射全息图记录/再现光和单独的位置控制光的情况下，使用具有不同波长带的光。其原因是，在将具有相同波长带的光用于位置控制光和记录/再现光的情况下，存在记录层106由于位置控制光的照射而变得光敏的风险，因此这是为了防止这种风险。例如，对于全息图记录/再现光，使用具有大约λ = 405nm的波长的紫色激光，而对于位置控制光，使用具有大约λ = 650nm的波长的红色激光。现在，为了通过位置控制光的照射来获得来自位置控制信息记录层的反射光，位置控制光必须到达其上反映了基板Iio的不平坦截面形状的反射层109。也就是说，位置控制光必须透过形成在反射膜109的上层的反射膜107。另一方面，全息图记录/再现光必须在反射膜107处反射，以使得与记录在记录层 106上的全息图相应的再现图像以反射光的形式被返回到装置侧。考虑到这些点，具有波长选择性的反射膜被用于反射膜107，从而用于记录/再现的紫色激光反射，而用于位置控制的红色激光透过。从而，位置控制光到达反射膜109，并且用于位置控制的反射光被适当地返回到装置侧，同时，记录在记录层106上的全息图的再现图像可被反射膜107反射并适当地返回到装置侧。现在，在这样使用与全息图记录/再现光分开的光来执行对记录/再现位置的控制的情况下，在记录/再现装置侧，全息图记录/再现光和位置控制光被合成在同一光轴上，如接来下的图33中所示，并且对全息图记录介质100照射该合成光。然后执行基于位置控制光的反射光的循轨伺服控制。这样，通过在在同一光轴上合成全息图记录/再现光和位置控制光并将其照射到全息图记录介质100上的同时执行基于位置控制光的反射光的位置控制，全息图记录/再现位置被控制在沿着形成于全息图记录介质100中的轨道(凹坑列)的位置处。引文列表专利文献1 日本专利申请公布No. 2005-250038专利文献2 日本专利申请公布No. 2007-79438
技术实现思路
然而，如上所述的对于全息图记录/再现位置的传统控制方法是一种假定位置控制光和记录/再现光的光轴将会匹配的方法，从而在如图34所示由于时间性变化或温度变化而引起两个光轴中存在偏移的情况下，可能就无法将全息图记录/再现位置控制到沿着凹坑列的准确位置。也就是 说，从这一点我们可以理解，在利用上述方法执行位置控制的传统全息图记录/再现系统中，存在这样的可能性即，在再现时不能准确地跟踪记录全息图列，并且相应地，担心不能正确地再现全息图。另外，在利用在外部装置上执行记录的盘执行再现的情况下，也可能类似地发生由两个光轴的偏移引起的全息图记录位置和再现位置之间的偏移的问题。例如，在在另一装置上记录全息图时位置控制光与记录/再现光之间的光轴偏移量是α的情况下，如果在装置本身处位置控制光与记录再现光之间的光轴偏移量是β，则在此装置处不能准确地再现在该另一装置上记录的全息图。现在，可以设想使用一种用于对全息图记录位置与再现位置之间的这种偏移进行校正的方法。对于这种具体的方法，可以建议一种方法，其中，在单独地设有诸如致动器 (actuator)之类的调整记录/再现光的光轴位置的调整机构时，再现时记录/再现光(参考光)的光轴位置被使得与全息图记录位置的实际位置相匹配并被调整。更具体地说，在使用此方法的情况下，在执行全息图再现之前，预先用致动器(调整机构)在多个位置振动记录/再现光(参考光)的光轴位置以执行识别出获得最多的再现光量的光轴位置的校准。也就是说，因此，识别出实际记录全息图的位置。通过将记录/ 再现光的光轴位置调整在这样获得的位置，可以获得全息图记录位置与再现位置之间的偏移。然而，这里要注意的是以下这点，即在再现全息图时，即使对记录的全息图的记录 /再现光(参考光)的照射位置的偏移是微小的，这也会引起衍射效果的减小(即再现光量的减小)。换言之，如上所述那样校正记录/再现光的光轴位置要求高精度的调整(例如亚微米程度的精度)。从而，由本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种盘状记录介质，包括：多个凹坑列相位，其中，以螺旋状或同心状形成凹坑列，这些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之间的间隔受限于预定的第一间隔，在半径方向上排列的凹坑列中，凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的间隔被设定到偏移了预定的第二间隔的位置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：堀米顺一，
申请(专利权)人：索尼光领公司，
类型：发明
国别省市：JP
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