光学膜制造技术

本发明专利技术的目的为提供由共聚碳酸酯形成的光学膜，该光学膜具有所希望的波长分散特性、光弹性低、熔融加工性优异。本发明专利技术涉及一种光学膜，包含由２５～９０摩尔％的下述式（Ａ）［式中，Ｒ１及Ｒ２分别独立地为氢原子、碳原子数１～１０的烃基或卤原子。Ｒ３及Ｒ４分别独立地为碳原子数１～１０的烃基。ｍ及ｎ分别独立地为０～４的整数。ｐ及ｑ分别独立地为０以上的整数。］表示的单元（Ａ）及１０～７５摩尔％的下述式（Ｂ）［式中，Ｒａ为碳原子数４～２０的单环或多环的脂环烃基，该脂环烃基可以含有杂原子，另外也可以具有交联结构。ｑ为０或１。］表示的单元（Ｂ）构成的共聚碳酸酯，满足下述式（１）Ｒ（４５０）＜Ｒ（５５０）＜Ｒ（６５０）（１），［其中，Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）及Ｒ（６５０）分别为波长４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ处的膜面内的相位差值。］

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学膜。更详言之，本专利技术涉及具有所希望的波长分散特性、光弹性常数低、耐热性高、熔融加工性优异的光学膜。
技术介绍
光学膜被用作相位差膜、偏振片的保护膜。相位差膜被用于液晶显示装置等，具有补色、扩大视场角、防反射等功能。作为相位差膜，已知λ/4板、λ/2板，作为其材料，使用聚碳酸酯、聚醚砜、聚砜等。由上述材料得到的λ/4板、λ/2板有波长越短相位差越大的性质。所以，存在能够作为λ/4板、λ/2板发挥作用的波长限于特定波长的问题。作为在宽频带控制波长的方法，已知将相位差的波长依赖性不同的2张以上双折射膜以特定的角度层叠的方法(专利文献1)。该方法需要粘合多张相位差膜的工序、调整粘合的角度的工序等，生产率方面有问题。另外，因为相位差膜整体的厚度增加，所以也有光线透射率降低、变暗的问题。近年提出不进行上述层叠而由一张膜在宽频带控制波长的方法(专利文献幻。该方法是使用由具有正的折射率各向异性的单元和具有负的折射率各向异性的单元构成的共聚碳酸酯的方法。但是，该共聚碳酸酯因为含有来自芴系双酚的单元所以熔融温度高，有熔融加工时容易由分解产生凝胶状物的问题。另外，玻璃化温度(Tg)高，膜的拉伸加工需要高温，必须有不同于以往的特别的加工设备。另外，有光弹性常数高、由应力产生的双折射大、用作相位差膜时发生漏光的问题。另一方面，已经提出了用于光纤、光盘等的、使用脂肪族二醇的光弹性常数低的共聚碳酸酯(专利文献幻。但是，该文献中并没有探讨膜的拉伸或波长分散性。另外，该文献中记载的共聚碳酸酯的光弹性常数在用作相位差膜或偏振片的保护膜时必须进一步减低。另外，报告了使用含有芴成分及异山梨醇成分的共聚碳酸酯的光弹性常数低的相位差膜(专利文献4)。因为该共聚碳酸酯是三元共聚物，所以为了控制波长分散性，必须精密地控制三成分的组成比率，不容易稳定地制备。另外，因为热稳定性低，所以熔融加工时有分子量容易降低的缺点。还提出了由含有芴系双酚骨架的共聚碳酸酯构成的相位差膜(专利文献5、专利文献6)。另外，也提出了由含有芴系双酚骨架的共聚碳酸酯构成的偏振片保护膜(专利文献7)。但是，上述膜均玻璃化温度(Tg)高，膜的拉伸加工需要高温，必须有不同于以往的特别的加工设备。另外，有光弹性常数高、由应力产生的双折射大、用作相位差膜时发生漏光的问题。专利文献1 日本特开平2-120804号公报专利文献2 日本专利第3325560号公报专利文献3 日本特开2004-67990号公报专利文献4 国际公开第06/041190号小册子专利文献5 国际公开第01/009649号小册子权利要求1. 一种光学膜，包含由25 90摩尔％下述式㈧表示的单元㈧及10 75摩尔％ 下述式(B)表示的单元(B)构成的共聚碳酸酯，满足下述式(1)，2.如权利要求1所述的膜，其中，单元(A)为下述式表示的单元(Al)，R1W2、！n、n与单元(A)相同。3.如权利要求1所述的膜，其中，单元㈧4.如权利要求1所述的膜，其中，单元(A)为下述式表示的单元(A3)，5.如权利要求1所述的膜，其中，单元(A)为下述式表示的单元(A4)，6.如权利要求1所述的膜，其中，单元⑶的！^为选自可以具有取代基的碳原子数4 20的亚环烷基、可以具有取代基的碳原子数4 20的亚环烷氧基、7.如权利要求1所述的膜，其中，共聚碳酸酯的玻璃化温度在1008.如权利要求1所述的膜，其中，共聚碳酸酯包含下述式9.如权利要求8所述的膜，其中，由包含25摩尔％以上且不足40摩尔％的单元(A2) 及超过60摩尔％且在75摩尔％以下的单元(Bi)的共聚碳酸酯构成，满足下述式(2)及 (3)，光弹性常数的绝对值为ZSXlO-12Pa-1以下， 0 < R (450)/R (550) < 1(2)1. 01 < R(650)/R(550) < 2(3)其中，IU450)、R(550)及R(650)分别为波长450nm、550nm、650nm处的膜面内的相位差值c10.如权利要求9所述的膜，其中，满足下述式⑶ (10)， R(400)/R(550)-400/550| < 0.15 (8) R (700)/R (550)-700/550 I <0.25 (9) R(400) /R(550)-400/550|2+1 R(700)/R(550)-700/550 12 < 0. 05(10)值C其中，R(400)、R(550)及R(700)分别为波长400nm、550nm、700nm处的膜面内的相位差11.如权利要求9所述的膜，其中，相位差表现性Δη满足下述式(11)， 0. 3 > Δη > 0. 003(11)其中，Δη = R(550)/厚度，R(550)为波长550nm处的膜面内的相位差值，R(550)和厚度的单位为nm。12.如权利要求8所述的膜，由包含40摩尔％以上且不足60摩尔％的单元m及超过40摩尔％且在60摩尔％以下的单元(Bi)的共聚碳酸酯构成，满足下述式(4) (6)，光弹性常数的绝对值为ZSXio-12Pa-1以下，其中，IU450)、R(550)及R(650)分别为波长450nm、550nm、650nm处的膜面内的相位差值。13.如权利要求8所述的膜，由包含60 90摩尔％的单元(A2)及10 40摩尔％的单元(Bi)的共聚碳酸酯构成，满足下述式(7)，光弹性常数的绝对值为30 X KT12Pa-1以下，14.如权利要求1所述的膜，其中，共聚碳酸酯包含下述式表示的单元(A4)以及选自下述式15.如权利要求14所述的膜，由包含25摩尔％以上且不足65摩尔％的单元(A4)及超过35摩尔％且在75摩尔％以下的单元(Bi)的共聚碳酸酯构成，满足下述式( 及(3)，光弹性常数的绝对值为ZSXio-12Pa-1以下，.1. 01 < R(650)/R(550) < 2(3)其中，IU450)、R(550)及R(650)分别为波长450nm、550nm、650nm处的膜面内的相位差值。16.如权利要求15所述的膜，其中，满足下述式⑶ (10)， R(400)/R(550)-400/550| < 0.15 (8)R (700)/R (550)-700/550 I <0.25 (9) R(400) /R(550)-400/550|2+1 R(700)/R(5 50)-700/550 12 < 0. 05(10)其中，R(400)、R(550)及R(700)分别为波长400nm、550nm、700nm处的膜面内的相位差值。17.如权利要求15所述的膜，其中，相位差表现性Δη满足下述式， 0. 3 > Δη > 0. 002其中，Δη = R(550)/厚度，R(550)为波长550nm处的膜面内的相位差值，R(550)和厚度的单位为nm。18.如权利要求14所述的膜，由包含65摩尔％以上且不足82摩尔％的单元(A4)及超过18摩尔％且在35摩尔％以下的单元(Bi)的共聚碳酸酯构成，满足下述式(4) (6)，光弹性常数的绝对值在SOXlO-12Pa-1以下，-30 < R (450) < 0(4)-本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种光学膜，包含由２５～９０摩尔％下述式（Ａ）表示的单元（Ａ）及１０～７５摩尔％下述式（Ｂ）表示的单元（Ｂ）构成的共聚碳酸酯，满足下述式（１），式中，Ｒ１及Ｒ２分别独立地为氢原子、碳原子数１～１０的烃基或卤原子，Ｒ３及Ｒ４分别独立地为碳原子数１～１０的烃基，ｍ及ｎ分别独立地为０～４的整数，ｐ及ｑ分别独立地为０以上的整数，式中，Ｒａ为碳原子数４～２０的单环或多环的脂环烃基，该脂环烃基可以含有杂原子，另外也可以具有交联结构，ｑ为０或１；Ｒ（４５０）＜Ｒ（５５０）＜Ｒ（６５０）（１）其中，Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）及Ｒ（６５０）分别为波长４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ处的膜面内的相位差值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：本吉哲也，
申请(专利权)人：帝人化成株式会社，
类型：发明
国别省市：JP