本发明专利技术涉及式Ｉ或ＩＩ的吡唑化合物及其盐和Ｎ－氧化物，其中Ａ为式Ａ１、Ａ２或Ａ３的吡唑基团，其中＃表示连接位置；Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ５１为Ｈ、卤素、ＣＮ、ＮＯ２、Ｃ１－Ｃ１０烷基等；Ｒ５２、Ｒ５３为Ｈ、卤素、ＣＮ、ＮＯ２、Ｃ１－Ｃ１０烷基等；Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３为Ｈ、ＣＮ、ＮＯ２、Ｃ１－Ｃ１０烷基等；Ｔ为Ｃ（Ｒｔ）或Ｎ；Ｕ为Ｃ（Ｒｕ）或Ｎ；Ｖ为Ｃ（Ｒｖ）或Ｎ；Ｗ为Ｃ（Ｒｗ）或Ｎ；条件是基团Ｔ、Ｕ、Ｖ和Ｗ中至少一个为Ｎ；Ｒｔ、Ｒｕ、Ｒｖ、Ｒｗ为Ｈ、卤素、Ｃ１－Ｃ４烷基等；Ｘ１为Ｓ、Ｏ或ＮＲ１ａ，其中Ｒ１ａ选自Ｈ、Ｃ１－Ｃ１０烷基等；Ｘ２为ＯＲ２ａ、ＮＲ２ｂＲ２ｃ、Ｓ（Ｏ）ｍＲ２ｄ，其中ｍ为０、１或２，Ｒ２ａ为Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基等，Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ为Ｈ、Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基等，或Ｒ２ｂ和Ｒ２ｃ与它们所键合的氮原子一起形成杂环，并且Ｒ２ｄ为Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基、Ｃ３－Ｃ６环烷基等；以及Ｒ１为Ｈ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ１０烷基等。本发明专利技术进一步涉及一种防治无脊椎动物害虫的方法，一种保护植物繁殖材料和／或由其生长的植物的方法，包含至少一种本发明专利技术化合物的植物繁殖材料，一种处理或保护动物以防寄生虫侵袭或侵染的方法以及含有至少一种本发明专利技术化合物的农业组合物。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防治无脊椎动物害虫的吡唑化合物本专利技术涉及可以用于防治或控制无脊椎动物害虫，尤其是节肢动物害虫的新型吡唑化合物。本专利技术进一步涉及一种通过使用这些化合物防治无脊椎动物害虫的方法。本专利技术进一步涉及一种通过使用这些化合物保护植物繁殖材料和/或由其生长的植物的方法。 本专利技术进一步涉及包含所述化合物的植物繁殖材料以及农用或兽用组合物。
技术介绍
无脊椎动物害虫以及尤其是节肢动物和线虫损害生长和收获的作物并攻击木质居住和商业结构体，从而对食物供应和财产造成大的经济损失。尽管已知大量杀虫剂，但由于目标害虫能够对所述杀虫剂产生耐药性，仍然需要用于防治无脊椎动物害虫如昆虫、蜘蛛和线虫的新试剂。因此，本专利技术的目的是提供对于大量不同的无脊椎动物害虫，尤其对于难以防治的昆虫、蜘蛛和线虫具有良好的杀虫活性并显示出宽活性谱的化合物。WO 2004/106324、WO 2004/035545 和 WO 2005/040152 描述了衍生于含有 5 员杂环的羧酸的N-芳基-和N-杂芳基酰胺的衍生物。提到这些化合物可以用作除草剂。WO 2007/068373和WO 2007/068377描述了衍生于含有5或6员碳环或杂环的羧酸的N-芳基-和N-杂芳基酰胺的衍生物。提到这些化合物可以用于防治微生物。WO 2003/106427、WO 2004/046129 和 JP 2007-77106 描述了衍生于吡唑羧酸的 N-芳基酰胺的衍生物。提到这些化合物可以用于防治无脊椎动物害虫。WO 2001/00575描述了衍生于含有在邻位带有另一酰胺衍生官能团的5或6员杂环的羧酸的N-芳基-和N-杂芳基酰胺的衍生物。提到这些化合物可以用作杀虫剂。WO 2005/073165描述了衍生于含有苯基或杂环的羧酸的N-芳基-或N-杂芳基酰胺的衍生物，其中N-键合的环在间位带有另一酰胺衍生官能团。提到这些化合物可以用作杀虫剂。专利技术概述本专利技术的目的是提供具有良好杀虫活性，尤其是杀昆虫活性，并且对大量不同的无脊椎动物害虫，尤其是对难以防治的昆虫显示出宽活性谱的化合物。已经发现这些目的可以通过下文所定义的式I和II化合物及其盐和N-氧化物， 尤其是其可农用盐或可兽用盐实现。在第一方面，本专利技术涉及式I或II的吡唑化合物及其盐和N-氧化物权利要求1.式I或II的吡唑化合物及其盐和N-氧化物2.如权利要求1的化合物，其中所述吡唑化合物为式I化合物。3.如权利要求2的化合物，其中X1为氧。4.如权利要求2或3的化合物，其中R1选自氢、CNX1-Cltl烷基、C1-Cltl卤代烷基、C2-Cltl 链烯基、C2-Cltl 卤代链烯基、C2-Cltl 炔基、C1-C4 亚烷基-CN、0Ra、C ⑴ Rb、C ⑴ ORe、S (0) 2Rd、C1-C4 亚烷基-C⑴Rb、C「C4亚烷基-0Ra、C「C4亚烷基-NReRf、C「C4亚烷基-C⑴NRgRh、苯基-C1-C4 烷基、杂环基-C1-C4烷基和杂芳基-C1-C4烷基，其中后提到的3个基团可以未被取代或可以带有1、2、3、4或5个基团Rx和Ry，所述基团Rx和Ry如上所定义且优选选自卤素、NO2、C1-C4 烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基磺酰基和C1-C4卤代烷基磺酰基。5.如权利要求4的化合物，其中R1选自氢、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、杂环基-C1-C4烷基和杂芳基-C1-C4烷基。6.如前述权利要求中任一项的化合物，其中基团T、U、V或W中的1或2个为N且其余基团为 C (Rt)、C (Ru)、C (Rv)或 C (Rw)。7.如前述权利要求中任一项的化合物，其中W为基团C(Rw)。8.如权利要求6或7的化合物，其中基团T、U、V或W中之一为N且其余基团为C(Rt)、 C (Ru)、C (Rv)或。00。9.如前述权利要求中任一项的化合物，其中V为N。10.如权利要求9的化合物，其中式I或II的吡唑化合物或其盐或N-氧化物选自式 I. A或II. A化合物11.如前述权利要求中任一项的化合物，其中W为CRW，其中Rw为氢。12.如前述权利要求中任一项的化合物，其中Ru和Rv若存在的话相互独立地选自氢、甲基、二氟甲基、三氟甲基、甲氧基、二氟甲氧基或三氟甲氧基。13.如前述权利要求中任一项的化合物，其中基团Ru、Rv或Rw中至少两个若存在的话为氢。14.如权利要求13的化合物，其中基团Rt、Ru、Rv和Rw若存在的话为氢。15.如前述权利要求中任一项的化合物，其中A为基团Al。16.如权利要求15的化合物，其中R41选自氢、卤素、ClC1-C4烷基和C2-Cltl链烯基，其中后提到的2个基团可以未被取代、可以部分或完全被卤代或可以带有1、2或3个选自C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C3-C6环烷基、杂芳基、苯基和苯氧基的相同或不同取代基，其中后提到的3个基团可以未被取代或可以带有1、2、3、4或5个选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4商代烷氧基、C1-C4烷基磺酰基和C1-C4商代烷基磺酰基的基团， 或者其中R41进一步选自C3-C6环烷基、C5-C6杂芳基和苯基，其中后提到的3个基团可以未被取代或可以带有1、2、3、4或5个选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4 卤代烷氧基、C1-C4烷基磺酰基和C1-C4卤代烷基磺酰基的相同或不同取代基。17.如权利要求16的化合物，其中R41选自氢、卤素、CN、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、 C3-C6环烷基、c3-c6卤代环烷基和苯基，其中苯基可以未被取代或可以带有1、2、3、4或5个选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团。18.如权利要求17的化合物，其中R41选自氢、卤素、CN、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、 C3-C6环烷基和C3-C6卤代环烷基。19.如权利要求18的化合物，其中R41为氢。20.如权利要求15-19中任一项的化合物，其中R51选自氢、卤素、ClC1-Cltl烷基和C2-Cltl 链烯基，其中后提到的2个基团可以未被取代、可以部分或完全被卤代或可以带有1、2或3 个选自C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C3-C6环烷基、杂芳基、苯基和苯氧基的相同或不同取代基，其中后提到的3个基团可以未被取代或可以带有1、2、3、4或5个选自卤素、(^-(；烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基磺酰基和C1-C4卤代烷基磺酰基的基团，或者其中R51进一步选自C3-C6环烷基、c5-c6杂芳基和苯基，其中后提到的3个基团可以未被取代或可以带有1、2、3、4或5个选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4 烷氧基.C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基磺酰基和C1-C4卤代烷基磺酰基的相同或不同取代基。21.如权利要求20的化合物，其中R51选自氢、卤素、CN、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、 C3-C6环烷基、c3-c6卤代环烷基和苯基，其中苯基可以未被取代或可以带有1、2本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．式Ｉ或ＩＩ的吡唑化合物及其盐和Ｎ－氧化物：其中Ａ为式Ａ１、Ａ２或Ａ３的吡唑基团，其中＃表示与式Ｉ或ＩＩ的其余部分连接的位置，并且其中Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３和Ｒ５１相互独立地选自氢、卤素、ＣＮ、ＮＯ２、Ｃ１－Ｃ１０烷基、Ｃ２－Ｃ１０链烯基和Ｃ２－Ｃ１０炔基，其中后提到的３个基团可以未被取代、可以部分或完全被卤代或可以带有１、２或３个相同或不同的取代基Ｒｘ，或者其中Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３和Ｒ５１进一步选自ＯＲａ、ＳＲａ、Ｃ（Ｙ）Ｒｂ、Ｃ（Ｙ）ＯＲｃ、Ｓ（Ｏ）Ｒｄ、Ｓ（Ｏ）２Ｒｄ、ＮＲｅＲｆ、Ｃ（Ｙ）ＮＲｇＲｈ、杂环基、杂芳基、Ｃ３－Ｃ１０环烷基、Ｃ５－Ｃ１０环烯基和苯基，其中后提到的５个基团可以未被取代或可以带有１、２、３、４或５个选自基团Ｒｙ和Ｒｘ的相同或不同取代基，并且其中Ｒ５２、Ｒ５３选自氢、卤素、ＣＮ、ＮＯ２、Ｃ１－Ｃ１０烷基、Ｃ２－Ｃ１０链烯基和Ｃ２－Ｃ１０炔基，其中后提到的３个基团可以未被取代、可以部分或完全被卤代或可以带有１、２或３个相同或不同的取代基Ｒｘ，或者其中Ｒ５２、Ｒ５３进一步选自ＯＲａ、ＳＲａ、Ｃ（Ｙ）Ｒｂ、Ｃ（Ｙ）ＯＲｃ、Ｓ（Ｏ）Ｒｄ、Ｓ（Ｏ）２Ｒｄ、ＮＲｅＲｆ、Ｃ（Ｙ）ＮＲｇＲｈ、杂环基、杂芳基、Ｃ３－Ｃ１０环烷基、Ｃ５－Ｃ１０环烯基和苯基，其中后提到的５个基团可以未被取代或可以带有１、２、３、４或５个选自基团Ｒｙ和Ｒｘ的相同或不同取代基，并且其中Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３选自氢、ＣＮ、ＮＯ２、Ｃ１－Ｃ１０烷基、Ｃ２－Ｃ１０链烯基和Ｃ２－Ｃ１０炔基，其中后提到的３个基团可以未被取代、可以部分或完全被卤代或可以带有１、２或３个相同或不同的取代基Ｒｘ，或者其中Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３进一步选自ＯＲａ、ＳＲａ、Ｃ（Ｙ）Ｒｂ、Ｃ（Ｙ）ＯＲｃ、Ｓ（Ｏ）Ｒｄ、Ｓ（Ｏ）２Ｒｄ、ＮＲｅＲｆ、Ｃ（Ｙ）ＮＲｇＲｈ、Ｓ（Ｏ）ｍＮＲｅＲｆ、Ｃ（Ｙ）ＮＲｉＮＲｅＲｆ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－ＯＲａ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－ＣＮ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－Ｃ（Ｙ）Ｒｂ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－Ｃ（Ｙ）ＯＲｃ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－ＮＲｅＲｆ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－Ｃ（Ｙ）ＮＲｇＲｈ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－Ｓ（Ｏ）ｍＲｄ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－Ｓ（Ｏ）ｍＮＲｅＲｆ、Ｃ１－Ｃ５亚烷基－ＮＲｉＮＲｅＲｆ、杂环基、杂芳基、Ｃ３－Ｃ１０环烷基、Ｃ５－Ｃ１０环烯基、杂环基－Ｃ１－Ｃ５烷基、杂芳基－Ｃ１－Ｃ５烷基、Ｃ３－Ｃ１０环烷基－Ｃ１－Ｃ５烷基、Ｃ５－Ｃ１０环烯基－Ｃ１－Ｃ５烷基、苯基－Ｃ１－Ｃ５烷基和苯基，其中后提到的１０个基团的环可以未被取代或可以带有１、２、３、４或５个相同或不同的取代基Ｒｙ；ｍ为０、１或２；Ｔ为Ｃ（Ｒｔ）或Ｎ；Ｕ为Ｃ（Ｒｕ）或Ｎ；Ｖ为Ｃ（Ｒｖ）或Ｎ；Ｗ为Ｃ（Ｒｗ）或Ｎ；条件是基团Ｔ、Ｕ、Ｖ和Ｗ中至少一个为Ｎ；Ｒｔ、Ｒｕ、Ｒｖ和Ｒｗ相互独立地选自氢、卤素、Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ３卤代烷基、Ｃ１－Ｃ４烷氧基、Ｃ１－Ｃ３卤代烷氧基、Ｃ１－Ｃ４烷硫基、Ｃ１－Ｃ３卤代烷硫基、Ｃ１－Ｃ４烷基亚磺酰基、Ｃ１－Ｃ３卤代烷基亚磺酰基、Ｃ１－Ｃ４烷基磺酰基、Ｃ１－Ｃ３卤代烷基磺酰基、Ｃ３－Ｃ６环烷基、Ｃ３－Ｃ６卤代环烷基、Ｃ２－Ｃ４链烯基、Ｃ２－Ｃ４卤代链烯基、Ｃ２－Ｃ４炔基或Ｃ１－Ｃ４烷氧基－Ｃ１－Ｃ４烷基；Ｘ１为Ｓ、Ｏ或ＮＲ１ａ，其中Ｒ１ａ选自氢、Ｃ１－Ｃ１０烷基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基、Ｃ３－Ｃ１０环烷基、Ｃ３－Ｃ１０环烷基甲基、Ｃ３－Ｃ１０卤代环烷基、Ｃ２－Ｃ１０链烯基、Ｃ２－Ｃ１０卤代链烯基、Ｃ２－Ｃ１０炔基、Ｃ１－Ｃ１０烷氧基－Ｃ１－Ｃ４烷基、ＯＲａ、杂环基、杂环基－Ｃ１－Ｃ４烷基、苯基、杂芳基、苯基－Ｃ１－Ｃ４烷基和杂芳基－Ｃ１－Ｃ４烷基，其中后提到的６个基团中的环可以未被取代或可以带有１、２、３、４或个相互独立地选自卤素、氰基、硝基、Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基、Ｃ１－Ｃ４烷氧基和Ｃ１－Ｃ４卤代烷氧基的取代基；Ｘ２为ＯＲ２ａ、ＮＲ２ｂＲ２ｃ、Ｓ（Ｏ）ｍＲ２ｄ，其中Ｒ２ａ选自Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基、Ｃ３－Ｃ６环烷基、Ｃ３－Ｃ６卤代环烷基、Ｃ２－Ｃ４链烯基、Ｃ２－Ｃ４卤代链烯基、Ｃ２－Ｃ４炔基、Ｃ１－Ｃ４烷氧基－Ｃ１－Ｃ４烷基、杂环基、杂环基－Ｃ１－Ｃ４烷基、苯基、杂芳基、苯基－Ｃ１－Ｃ４烷基和杂芳基－Ｃ１－Ｃ４烷基，其中后提到的６个基团中的环可以未被取代或可以带有１、２、３、４或个相互独立地选自卤素、氰基、硝基、Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基、Ｃ１－Ｃ４烷氧基和Ｃ１－Ｃ４卤代烷氧基的取代基，并且其中Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ相互独立地选自氢、Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基、Ｃ３－Ｃ６环烷基、Ｃ３－Ｃ６卤代环烷基、Ｃ２－Ｃ４链烯基、Ｃ２－Ｃ４卤代链烯基、Ｃ２－Ｃ４炔基、Ｃ１－Ｃ４烷氧基－Ｃ１－Ｃ４烷基、Ｃ１－Ｃ４烷基羰基、Ｃ１－Ｃ４卤代烷基羰基、Ｃ１－Ｃ４...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：S·格罗斯，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：DE
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。