具有邻苯二酚基团的头孢菌素制造技术

技术编号:7156264 阅读:217 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了具有宽的抗菌谱并且对产生β-内酰胺酶的革兰氏阴性菌具有有效抗菌活性的由式(I)代表的头孢类化合物[其中X表示N、CH或C-Cl;T表示S等;A和G独立地表示低级亚烷基等;B表示单键等;D表示单键、-NR7-CO-、-CO-NR7-、-NR7-CO-NR7-等;E表示可被取代的低级亚烷基;F表示单键或可被取代的亚苯基;R3、R4、R5和R6独立地表示氢、卤素、腈或-OR8;R8表示氢等;由式(II)代表的基团表示包含至少一个N原子的饱和或不饱和的、单环或稠合环的季铵基团,且可被取代,其中虚线显示环中的键],头孢类化合物的酯、其中位于7-位侧链中的环上的氨基被保护的头孢类化合物、头孢类化合物的药学上可接受的盐、保护的产物的酯,或头孢类化合物的溶剂合物,酯、保护的产物或药学上可接受的盐。也公开了药用组合物,所述组合物包含头孢类化合物的酯、其中位于7-位侧链中的环上的氨基被保护的头孢类化合物、头孢类化合物的药学上可接受的盐、保护的产物、其酯、保护的产物、药学上可接受的盐或溶剂合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有邻苯二酚基团的头孢菌素本专利技术化合物涉及具有宽的抗菌谱,并且尤其是对产生β -内酰胺酶的革兰氏阴性菌呈现有效抗菌活性的头孢类(c印hem)化合物,以及包含上述化合物的药用组合物。
技术介绍
迄今为止,已经开发多种β -内酰胺药物并且β -内酰胺药物已经变为临床上极其重要的抗菌药物。然而,存在越来越多数目的已经通过产生β-内酰胺酶,降解β-内酰胺药物获得对内酰胺药物抗药性的细菌类型。按照安布勒分子分类法(Ambler molecular classification),β -内酰胺酶主要地分为4类。具体地讲,那些类型为A类(TEM型、SHV型、CTX-M型等)、B类(IMP型、VIM 型、L-I型等)、C类(AmpC型)和D类(0ΧΑ型等)。在这些类型当中,A、C和D类型主要分为丝氨酸- β -内酰胺酶,并且在另一方面,B类型分为金属- β -内酰胺酶。已知两者在水解内酰胺药物方面分别具有各自的不同的机制。最近,由于存在已对内酰胺药物(包括头孢类和碳青霉稀类)变得高度耐药的革兰氏阴性菌而出现了临床问题,这样的耐药性是通过产生已经延长其底物谱 (substrate spectrum)的A或D型丝氨酸-β -内酰胺酶和B类型金属-β -内酰胺酶引起的。具体地讲,已知金属内酰胺酶为革兰氏阴性菌获得多重耐药性的原因之一。已知对产生金属-β -内酰胺酶的革兰氏阴性菌呈现中等抑制活性的头孢类化合物(例如专利文献1和非专利文献1)。然而,需要开发显示更有效抗菌活性,尤其对产生多种β -内酰胺酶的革兰氏阴性菌显示抑制有效性的头孢类化合物。具有高抗革兰氏阴性菌活性的已知抗菌剂中的一种为具有分子内邻苯二酚基团的头孢类化合物(例如非专利文献2-4)。其作用为邻苯二酚基团与!^3+形成螯合物,从而化合物通过细胞膜上的狗3+转运系统(tonB依赖型转运送系统)有效结合到细菌体内。因此,已经对在头孢类骨架的3-位侧链或7-位侧链具有邻苯二酚或相似结构的化合物进行了研究。专利文献2-8和非专利文献2-11与16公开了在头孢类骨架的3_位侧链具有邻苯二酚或其相似结构的化合物。专利文献9和非专利文献12-15公开了在头孢类骨架的7-位侧链具有邻苯二酚或其相似结构的化合物。非专利文献7、9、10和12-15描述了已经稳定对抗β -内酰胺酶的头孢类化合物。然而,这些参考文献没有公开本专利技术的化合物。另外,描述了具有分子内邻苯二酚基团的头孢类化合物的这些参考文献没有具体描述B类型金属内酰胺酶或对包含B 类型在内的广谱革兰氏阴性菌的抗菌活性。专利文献10和11没有具体公开具有邻苯二酚类型取代基的头孢类化合物。国际公布号2007/119511小册子日本专利特许公开第H3-173893号日本专利特许公开第H2-15090号日本专利特许公开第H2-28187号日本专利特许公开第H2-117678号日本PCT国家阶段特许公开第H6-510523号日本专利特许公开第H5-213971号日本专利特许公开第H2-28185号 日本专利特许公开第H6-345776号国际公布号2007/096740小册子国际公布号2003/078440号小册子The Journal of Antibiotics,第 61 卷,第 36-39 页(2008)The Journal of Antibiotics,第 43 卷,第 1617-1620 页(1990)The Journal of Antibiotics,第 42 卷,第 795-806 页(1989)The Journal of Antibiotics,第 46 卷,第 833-839 页(1993)The Journal of Antibiotics,第 46 卷,第 840-849 页(1993)The Journal of Antibiotics,第 46 卷,第 850-857 页(1993)The Journal of Antibiotics,第 46 卷,第 1458-1470 页(1993)The Journal of Antibiotics,第 48 卷,第 1371-1374 页(1995)The Journal of Medicinal Chemistry,第;35 卷,第洸31_2642 页(1992)The Journal of Medicinal Chemistry,第;35 卷,第洸43_2651 页(1992)Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters,第 5 卷,第 963-966页(1995)The Journal of Antibiotics,第 48 卷,第 417-424 页(1995)The Journal of Antibiotics,第 41 卷,第 377-391 页(1988)The Journal of Antibiotics,第 49 卷,第 496-498 页(1996)The Journal of Antibiotics,第 46 卷,第 1279-1288 页(1993)应用微生物学和生物技术(AppliedMicrobiology and Biotechnology),第 40 卷,第 892-897 页(1994)本专利技术提供了对包括革兰氏阴性菌和/或革兰氏阳性菌的多种细菌呈现有效抗菌谱的头孢类化合物。优选地,本专利技术提供了对产生β -内酰胺酶的革兰氏阴性菌呈现有效抗菌活性的头孢类化合物。更优选地,本专利技术提供了对多药耐药的微生物,尤其是产生B类型金属内酰胺酶的革兰氏阴性菌呈现有效抗菌活性的头孢类化合物。还更优选地,本专利技术提供了对已知的头孢类药物或碳青霉稀药物不呈现交叉耐药性的头孢类化合物。本专利技术提供了已经解决以上所提及问题的具有至少以下结构特征的头孢类化合物1)本专利技术化合物在3-位侧链具有环状季铵基团,并且在其末端具有邻苯二酚型取代基,优选地,在邻苯二酚基团的苯环上具有氯原子;2)本专利技术化合物在季铵基团与邻苯二酚型取代基之间具有间隔(spacer)部分 (-G-B-D);3)本专利技术化合物在7-位侧链上具有氨基噻二唑环或氨基噻唑环和在肟部分的末端具有羧基。具体地讲,本专利技术提供了以下专利技术1) 一种下式的化合物,其酯、在7-位侧链中的环上氨基保护的化合物、药学上可接受的盐或溶剂合物权利要求1. 一种下式的化合物或其酯、在7-位侧链中的环上氨基保护的化合物、药学上可接受的盐或溶剂合物2.权利要求1的化合物或其酯、在7-位侧链中的环上氨基保护的化合物、药学上可接受的盐或溶剂合物,其中所述式 3.权利要求1的化合物或其酯、在7-位侧链中的环上氨基保护的化合物、药学上可接受的盐或溶剂合物,其中所述式 4.权利要求1-3中任何一项的化合物或其酯、在7-位侧链中的环上氨基保护的化合物、药学上可接受的盐或溶剂合物,其中R3和R4为-0R8,其中R8如在权利要求1中所定义。5.权利要求1-3中任何一项的化合物或其酯、在7-位侧链中的环上氨基保护的化合物、药学上可接受的盐或溶剂合物,其中下式6.权利要求1-3中任何一项的化合物或其酯、在7-位侧链中的环上氨基保护的化合物、药学上可接受的盐或溶剂合物,其中下式 7.权利要求1-6本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种下式的化合物或其酯、在7-位侧链中的环上氨基保护的化合物、药学上可接受的盐或溶剂合物:[式1]其中:X为N、CH或C-Cl;T为S、S=O、CH2或O;A为低级亚烷基、低级亚链烯基或低级亚链炔基;G为单键、任选取代的低级亚烷基、任选取代的低级亚链烯基或任选取代的低级亚链炔基;B为单键或者包含至少1-3个N原子的5-或6-元杂环基团;D为单键、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-NR7-、-NR7-CO-、-CO-NR7-、-NR7-CO-NR7-、-O-、-S-、-SO-、-SO2-NR7-、-NR7-SO2-、-CH2-NR7-CO-或-SO2-;E为任选取代的低级亚烷基;F为单键或任选取代的亚苯基;R3、R4、R5和R6每一个独立地为氢、卤素、腈或-OR8;R7每一个独立地为氢或任选取代的低级烷基;R8每一个独立地为氢、低级烷基、卤代(低级)烷基、低级烷基羰基或氨基甲酰基;下式基团:[式2]为任选取代的、包含至少一个或更多个N原子的饱和或不饱和的、单环或稠合环状季铵基团;虚线显示环中的键;条件是当G键合于阳离子N原子时,虚线为不存在;当G不键合于阳离子N原子时,虚线显示阳离子N原子与邻近原子之间的单键或者显示阳离子N原子与除了邻近原子以外的成环原子之间的低级亚烷基;并且当G为单键时,B为单键和D为-NH-CO-或-S-、下式基团:[式3]不为下式基团:[式4]其中氢原子可被取代。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:西谷康宏
申请(专利权)人:盐野义制药株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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