平面光波导电路制造技术

本发明专利技术以防止从ＭＺＩ泄漏的泄漏光进入抽头用耦合器中来降低抽头率的变动为目的。与本发明专利技术有关的平面光波导电路的特征在于，具备：包覆层；光波导，具有嵌入在包覆层中的芯；以及沟（１５），形成在包覆层中且具有反射界面（３１），所述反射界面（３１）对从光波导向包覆层泄漏的泄漏光向包覆层进行全反射。通过在包覆层中形成对泄漏光进行全反射的反射界面（３１），来防止泄漏光进入抽头用耦合器中，能够防止抽头率的变动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于光通信系统中的光学设备，特别是涉及在基板上由包覆层、 和由嵌入在包覆层中的芯所形成的光波导所构成的平面光波导电路。
技术介绍
作为用于光通信系统中的光学设备，使用搭载了光学开关等光学电路的平面光波 导电路(例如参照专利文献1以及非专利文献1)。有在使用平面光波导电路构成的光通 信系统节点的一个中使用了波长复用信号的光分插复用(ROADM =Reconfigurable Optical AddDrop Multiplexer)方式。该方式具有在节点内只对任意的WDM信道信号在与下层网络 之间进行交换之后将全部信号向相邻节点传输的功能，主要用作构成环状网络的方式。为 了实现该功能，提出在一个模组内集成了平面光波导电路的高功能光学设备。图10表示现有的平面光波导电路的一个例子。从构成光学电路的 MZI (Mach-Zehnder Interferometer 马赫-曾德尔干涉仪)51输出的光分路为两个，其中 一个输入到抽头用耦合器52中。输入到抽头用耦合器52中的光分路为两个，其中一个作 为光输出从输出端53a输出，另一个作为监视器用从输出端5 输出。从输出端5 输出 的光通过监视器用PD(Photo Detector 光检测器)检测光强度。在现有的平面光波导电 路中，为了提高平面光波导电路的集成度，MZI 51和抽头用耦合器52排列在大致同一直线 上。现有技术文献专利文献1 日本专利第3755762号公报非专利文献 1 :Y. Hashizume, et. al. ,“Compact 32-channel 2 X 2optical switch array based on PLC technology for OADM systems，，，EC0C2003，M03-5-
技术实现思路
(专利技术要解决的问题)以往，由于抽头用耦合器与MZI排列在大致同一直线上，所以从MZI的芯向包覆层 泄漏的泄漏光进入抽头用耦合器中，使抽头率变动。因此，本专利技术的目的在于，防止从MZI泄漏的泄漏光进入抽头用耦合器中，降低抽 头率的变动。(用于解决问题的方案)为了解决上述问题，与本专利技术有关的平面光波导电路的特征在于，具备包覆层； 光波导，具有嵌入在所述包覆层中的芯；以及沟，形成在所述包覆层中且具有反射界面，所 述反射界面对从所述光波导向所述包覆层泄漏的泄漏光进行全反射。通过在包覆层中形成对泄漏光进行全反射的反射界面，防止泄漏光进入抽头用耦 合器中，能够降低抽头率的变动。在与本专利技术有关的平面光波导电路中，优选具备抽头用耦合器，所述反射界面对向所述抽头用耦合器传输的所述泄漏光进行全反射。反射界面对在抽头用耦合器中传输的泄漏光进行全反射，因此，能够防止泄漏光 进入抽头用耦合器中，降低抽头率的变动。在与本专利技术有关的平面光波导电路中，优选具备多个所述沟，各个所述沟具备入 射界面，入射从其它所述沟中的所述反射界面反射的泄漏光；以及出射界面，使从所述入射 界面入射到所述沟中的所述泄漏光出射到所述包覆层，其中，所述出射界面使所述泄漏光 相对于所述抽头用耦合器的轴方向以45°以上的角度出射。有时由反射界面反射的泄漏光进入相邻信道的抽头用耦合器中。因此，设置有使 由相邻的沟反射的泄漏光一度取入沟中的入射界面。而且，以不进入其它抽头用耦合器中 的角度从出射界面出射。由此，能够设为泄漏光难以进入其它信道的抽头用耦合器中的结 构。优选地，在与本专利技术有关的平面光波导电路中，具备多个所述沟，各个所述沟具 备入射界面，入射从其它所述沟中的所述反射界面反射的泄漏光；以及出射界面，使从所 述入射界面入射到所述沟中的所述泄漏光出射到所述包覆层，其中，所述入射界面与所述 轴方向大致平行，所述入射界面和所述反射界面的角度为30°，所述反射界面和所述出射 界面的角度为120°。有时由反射界面反射的泄漏光进入相邻信道的抽头用耦合器中。因此，设置有使 由相邻的沟反射的泄漏光一度取入沟中的入射界面。而且，相对于入射界面的反射界面以 及出射界面的角度设为30°。由此，能够设为泄漏光难以进入其它信道的抽头用耦合器中 的结构。在与本专利技术有关的平面光波导电路中，所述抽头用耦合器的轴方向相对于所述反 射界面的法线的角度优选为所述反射界面的临界角以上90°以下。能够使从抽头用耦合器的轴方向入射到抽头用耦合器的泄漏光在反射界面全反射。与本专利技术有关的平面光波导电路的特征在于，具备包覆层；光波导，具有嵌入在 所述包覆层中的芯；沟，形成在所述包覆层中；以及抽头用耦合器，其中，所述抽头用耦合 器的轴方向相对于所述沟的第一界面的法线的角度θ为临界角以上。根据本专利技术，能够防止向抽头用耦合器以浅的角度入射的泄漏光进入抽头用耦合 器中，降低抽头率的变动。优选地，在与本专利技术有关的平面光波导电路中，配置有多个所述沟，所述沟具有第 二界面以及第三界面，所述第二界面与所述轴方向大致平行，所述第三界面与所述第一界 面所成的角度(Θ + Θ》满足数式1。有时由反射界面反射的泄漏光进入相邻信道的抽头用耦合器中。因此，设置有使 由相邻的沟反射的泄漏光一度取入沟中的第二界面。而且，以不进入其它抽头用耦合器中 的角度从第三界面出射。由此，能够设为泄漏光难以进入其它信道的抽头用耦合器中的结 构。优选地，在与本专利技术有关的平面光波导电路中，所述沟具备使入射到所述沟内的 泄漏光的光强度衰减的遮光材料。能够使从反射界面、入射界面入射的泄漏光的光强度衰减。根据本专利技术，能够防止从光电路泄漏的泄漏光进入抽头用耦合器中，降低抽头率 的变动。附图说明图1是与本实施方式有关的平面光波导电路的结构概要图。图2是A-A’剖面的一个例子。图3是表示反射沟的一个例子的示意图。图4是平面光波导电路具备多信道的MZI以及抽头用耦合器且各信道具备反射沟 时的光路的说明图。图5是入射角θ、角度θ ρ以及出射角Φ的评价的一个例子。图6是平面光波导电路具备多信道的MZI以及抽头用耦合器且各信道中具备反射 沟时的光路的具体例。图7是与本实施例有关的平面光波导电路的结构概要图。图8是没有反射沟15的比较例的抽头率。图9是具有反射沟15的实施例的抽头率。图10是表示搭载了现有的平面光波导电路的光学模组的一个例子的框图。附图标记说明11 基板；12 =MZI ；13aU3b 输出端；14 抽头用耦合器；15、15a、15b 反射沟； 21 芯；22 包覆层；23 基板；31 反射界面；32 入射界面；33 出射界面；41 =VOAl ；42 V0A2 ；43 抽头用耦合器；51 =MZI ；52 抽头用耦合器;53a、53b 输出端。具体实施例方式参照附图来说明本专利技术的实施方式。下面所说明的实施方式是本专利技术的结构的例 子，本专利技术不限于下面的实施方式。图1是与本实施方式有关的平面光波导电路的结构概要图。与本实施方式有关的 平面光波导电路具备基板11、作为光学电路的MZI12、输出端13a和13b、抽头用耦合器14 以及反射沟15，MZI 12以及抽头用耦合器14是由光波导来连接的。平面光波导电路是例如通过下面的工序来制作的。通过使用SiCL4、GeCl4等原料 气体的火焰水解反应的石英系玻璃膜的堆积技术和反应离子蚀刻技术的组合来制作在厚 度1mm本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种平面光波导电路，其特征在于，具备：包覆层；光波导，具有嵌入在所述包覆层中的芯；以及沟，形成在所述包覆层中且具有反射界面，所述反射界面将从所述光波导向所述包覆层泄漏的泄漏光全反射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：永野充，
申请(专利权)人：NTT电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP