磁盘用基板以及磁盘制造技术

本发明专利技术的课题在于对表面缺陷的形状以及个数进行管理，而抑制在搭载了如ＤＦＨ头那样浮动高度非常小的磁头的ＨＤＤ装置中产生缺点。本发明专利技术的磁盘用基板的特征在于，在对以５μｍ的光斑直径照射了激光功率２５ｍＷ的波长４０５ｎｍ的激光时的来自所述基板的散射光进行检测时检测为０．１μｍ～０．３μｍ以下的尺寸的缺陷针对每２４ｃｍ２少于５０个，并且不存在针对所述缺陷通过使用了原子力显微镜的支撑曲线描绘法得到的支撑曲线中的从所述缺陷的顶点至４５％的部分与从所述缺陷的顶点连接了４５％的假想线相比位于缺陷高度更高的区域的缺陷。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及硬盘驱动器装置中搭载的磁盘用基板以及磁盘。
技术介绍
作为硬盘驱动器装置(HDD装置)中搭载的磁记录介质有磁盘。磁盘是在由铝-镁 合金等构成的金属板上覆盖了 NiP膜的基板、玻璃基板、以及陶瓷基板等的基板上层叠磁 性层、保护层而制作的。以往，作为磁盘用的基板广泛使用了铝合金基板，但伴随近年来的 磁盘的小型化、薄板化、以及高密度记录化，使用与铝合金基板相比表面的平坦度、薄板中 的强度更优良的玻璃基板。对于在这样的磁盘用基板上至少形成磁性层而成的磁盘，检查在表面中存在的缺 陷。例如，在专利文献1中，公开了如下技术通过包括投光系统和受光系统的缺陷检测光 学系统，进行磁盘用基板的缺陷检测，其中，所述投光系统在相对主扫描方向垂直的方向上 照射具有宽度的光束而相对地扫描透射性基板，所述受光系统具备受光器并将透射性基板 的扫描位置的影像成像于受光元件中，所述受光器具有在与透射性基板的表面垂直的方向 上接收来自透射性基板的散射光的高倍率的物镜及沿着与垂直的方向对应的成像的方向 排列而接收来自物镜的光的受光元件。专利文献1 日本特开2002-55061号公报
技术实现思路
近年来，在HDD装置中，磁头与磁盘之间的距离(浮动高度)变小，特别在搭载 具备根据通过加热器的热引起的膨胀来调整浮动高度的滑动器的面向垂直记录的记录头 (DFH(dynamic fly Hight)，动态浮动高度)的情况下，浮动高度进一步变小。随着浮动高度 变小，为了抑制设为磁盘时的不良，作为磁盘容许的基板表面的缺陷的大小也进一步变小。 另外，与其对应地，对于磁盘用基板的表面缺陷，针对其形状以及个数的要求也变得严格。本专利技术是鉴于所述问题而完成的，其目的在于提供一种磁盘用基板以及磁盘，可 以对表面缺陷的形状以及个数进行管理，而抑制在搭载了如Dra头那样浮动高度非常小的 磁头的HDD装置中产生缺点。本专利技术者进行所制造的磁盘用玻璃基板的缺陷检查，使用缺陷的个数和大小大致 相同的多个磁盘用玻璃基板来制造磁盘，并进行了证明测试以及分级测试，其结果，发现混 合存在良品和不良品。另外，对与进行了所述测试的情况相比缺陷的个数更多，缺陷的大小 更大的磁盘用玻璃基板进行了所述测试的结果，有时良品较多。本专利技术者对所述现象进行了潜心研究的结果，发现特定尺寸并且特定形状的缺陷 对证明测试以及分级测试的结果造成大的影响，并发现可通过去除该缺陷来提供可靠性提 高的磁盘以及磁盘用玻璃基板，由此完成了本专利技术。另外，本专利技术者发现在磁盘用基板上，不可避免地存在缺陷，而且在使用如Dra头 那样浮动高度非常小的磁头的情况下，有时磁盘用基板和磁头不可避免地接触。在该情况下，与在磁盘用基板上存在的缺陷的个数相比，形状更重要。即，本专利技术者关注在搭载了如 DFH头那样浮动高度非常小的磁头的HDD装置中，注意到不仅是在磁盘用基板中存在的缺 陷的大小以及个数产生影响，而且缺陷的形状也产生影响。另外，本专利技术者发现了所述缺陷的形状的影响在基板的表面粗糙度变低的情况下 变得显著。即，在可靠性的观点中，在表面粗糙度高时与缺陷的影响相比表面粗糙度的影响 更大，所以所述特定形状的缺陷造成的影响小，在表面粗糙度Ra成为0. 15nm以下的情况 下，该特定形状的缺陷的影响变大，为了提高可靠性，需要消除该特定形状的缺陷。但是，在如Dra头那样浮动高度非常小的磁头中，作为认为造成影响的缺陷，考虑 具有图IA所示那样的剖面的缺陷、即凸区域较宽的缺陷。这样的凸区域较宽的缺陷是与磁 头接触的面积相对较大，且向磁头的碰撞能量相对较大的缺陷。因此，由于对磁头施加大的 碰撞能量，作为结果磁头无法使用。另一方面，对于具有图IB所示那样的剖面的缺陷、即凸 区域较窄的缺陷，与图IA所示的缺陷不同，是与磁头接触的面积相对较小，向磁头的碰撞 能量相对较小的缺陷。因此，关于磁头的驱动几乎不造成影响。S卩，本专利技术提供一种磁盘用玻璃基板，该磁盘用玻璃基板具有主表面，其特征在 于，对于所述主表面，使用原子力显微镜对2 μ mX2 μ m见方的测定区域以256X256 象素的分辨率进行了测定时的表面粗糙度Ra是0. 15nm以下，在以5 μ m的光斑直径对所述基板的主表面照射波长405nm、功率25mW的激光而对 来自所述基板的主表面的散射光进行检测时检测为0. 1 μ m以上0. 3 μ m以下的尺寸的缺陷 针对每Mcm2少于50个，并且在所述检测到的所有缺陷中，不存在如下缺陷对于该缺陷， 通过使用了原子力显微镜的支撑曲线描绘法得到的支撑曲线中的从所述缺陷的顶点(0% 处的高度)至45%处的高度的部分与连接了所述缺陷的顶点(0%处的高度)和45%处的 高度的点的假想线相比，位于缺陷高度更高的区域。另外，在所述磁盘用玻璃基板中，其特征在于，所述磁盘用玻璃基板被用作应对 DFH(dynamic fly Hight，动态浮动高度)头的磁盘的基板。另外，在所述磁盘用玻璃基板中，其特征在于，仅在一个主表面中，对于所述主表 面使用原子力显微镜对2 μ mX 2 μ m见方的测定区域以256 X 256象素的分辨率进行了测定 时的表面粗糙度Ra是0. 15nm以下，并且在以5 μ m的光斑直径对所述基板的主表面照射波 长405nm、功率25mW的激光而对来自所述基板的主表面的散射光进行检测时检测为0. 1 μ m 以上0. 3 μ m以下的尺寸的缺陷针对每Mcm2少于50个，并且在所述检测到的所有缺陷中， 不存在的缺陷对于该缺陷，通过使用了原子力显微镜的支撑曲线描绘法得到的支撑曲线 中的从所述缺陷的顶点(0%处的高度)至45%处的高度的部分与连接了所述缺陷的顶点 (0%处的高度)和45%处的高度的点的假想线相比，位于缺陷高度更高的区域。另外，在所述磁盘用玻璃基板中，其特征在于，所述磁盘用玻璃基板被用作热辅助 磁存储方式的磁盘的基板。另外，在所述磁盘用玻璃基板中，其特征在于，所述基板是在中央具有孔部的圆盘 形状，将从中心至最外周的距离作为100%时的从中心起80% 90%的范围内的主表面中 的算术平均粗糙度(RaO)和10 20%的主表面中的算术平均粗糙度(RaI)之差(RaO-RaI) 是0.01以下，其中，是使用原子力显微镜，针对2 μ mX2 μ m见方的测定区域以256X256象素的分辨率进行了测定时的值。另外，本专利技术提供一种磁盘用基板，其特征在于，在所述磁盘用基板中，在对以 5 μ m的光斑直径照射了激光功率25mW的波长405nm的激光时的来自所述基板的散射光进 行检测时检测为0. 1 μ m 0. 3 μ m以下的尺寸的缺陷针对每Mcm2少于50个，不存在针对 所述缺陷通过使用了原子力显微镜的支撑曲线描绘法得到的支撑曲线中的从所述缺陷的 顶点至45%的部分与从所述缺陷的顶点连接了 45%的假想线相比位于缺陷高度更高的区 域的缺陷。根据该结构，可以对表面缺陷的形状以及个数进行管理，而抑制在搭载了如Dra 头那样浮动高度非常小的磁头的HDD装置中产生缺点。另外，在所述磁盘用基板中，其特征在于，所述原子力显微镜是针对2μπι见方中 至少具有256X256象素的分辨率的原子力显微镜。另外，在所述磁盘用基板中，其特征在于，所述磁盘用基板由硅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板，该磁盘用玻璃基板具有主表面，其特征在于，　　对于所述主表面，使用原子力显微镜对２μｍ×２μｍ见方的测定区域以２５６×２５６象素的分辨率进行了测定时的表面粗糙度Ｒａ是０．１５ｎｍ以下，　　在以５μｍ的光斑直径对所述基板的主表面照射波长４０５ｎｍ、功率２５ｍＷ的激光而对来自所述基板的主表面的散射光进行检测时检测为０．１μｍ以上０．３μｍ以下的尺寸的缺陷针对每２４ｃｍ↑［２］少于５０个，并且在所述检测到的所有缺陷中，不存在如下缺陷：对于该缺陷，通过使用了原子力显微镜的支撑曲线描绘法得到的支撑曲线中的从所述缺陷的顶点（０％处的高度）至４５％处的高度的部分与连接了所述缺陷的顶点（０％处的高度）和４５％处的高度的点的假想线相比，位于缺陷高度更高的区域。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：橘内浩二，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP