触摸面板的制造方法和成膜装置制造方法及图纸

该触摸面板的制造方法为包括具有形成透明导电膜（１３）的主面（１１ａ）的透明基板（１１）的触摸面板（１）的制造方法，通过在含有选自氢气、氧气和水蒸气中的两种或三种的反应性气体气氛中使用由氧化锌类材料形成的靶（２７）进行溅射法，在所述透明基板（１１）的所述主面（１１ａ）上形成所述透明导电膜（１３）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及触摸面板的制造方法和成膜装置，更详细地，涉及适于设置在液晶显 示装置(IXD)等平板显示器(FPD，Flat Panel Display)的显示面上，可通过普通的记录用 具或手指等容易地输入，可实现小型化，可减少除显示区域以外的周边区域的面积，可降低 制造成本的触摸面板的制造方法和成膜装置。本申请基于2008年7月9日申请的日本专利申请第2008-179372号主张优先权， 在此引用其内容。
技术介绍
近些年，随着液晶显示装置(IXD)等平板显示器(FPD)的进步，对于设置在此平板 显示器(FPD)的显示面上的触摸面板的新要求也正提高。为了实现这些要求，开发并提出 了新的技术。作为此触摸面板的一种，已知电阻膜方式触摸面板。在此电阻膜方式触摸面板中， 以规定间隔对向配置有在主面上形成透明导电膜的一对透明基板以使这些透明导电膜彼 此对置。此外，在这些透明导电膜之间矩阵状地配置有多个绝缘性间隔体。此触摸面板具 有在向显示面按压视认侧的透明基板上的期望位置时，在该期望位置使一对透明导电膜电 连接，将该期望位置的信息以电信号方式输出到外部的功能。以往，此电阻膜方式触摸面板中，作为透明导电膜材料使用在氧化铟中添加有 1 40质量％的氧化锡的添加有锡的氧化铟(ITOJndium Tin Oxide)。然而，作为ITO原 料的铟(In)为稀有金属，估计今后会因难以得到而造成成本上升。因此，作为代替ITO的 透明导电材料，丰富且廉价的氧化锌(SiO)类材料正引起人们关注(例如参见专利文献1)。该ZnO类材料为通过稍微还原ZnO而稍稍偏离化学计量组成，在ZnO结晶中形成 氧空穴而释放自由电子，或者作为杂质添加的B、Al、fe等进入ZnO晶格中的Si离子的位置 形成离子而释放自由电子等，由此表现出导电性的η型半导体。该ZnO类材料适用于可对大型基板均勻成膜的溅射。在成膜装置中，通过将ITO 等In2O3类材料的靶变更为ZnO类材料的靶，可将ZnO成膜。此外，由于ZnO类材料不包含 如h203类材料一样绝缘性高的低级氧化物(InO)，所以不易发生溅射异常。为了提高防反射性能，该触摸面板也可在透明基板上设置防反射膜。该防反射膜 具有折射率不同的多层透明膜重叠的层压结构。作为以往的防反射膜，例如使用折射率 1. 45 1. 46的SiO和折射率2. 3 2. 55的TiO层压而成的结构。可是，在使用氧化物靶通过溅射法将SiO和TiO的层压结构成膜时，由于这些氧化 物靶的电阻高，所以使用RF电源进行溅射法。此外，在使用可用DC电源或AC电源的Si和 Ti的金属靶将上述层压结构成膜时，通过在导入大量的氧化性气体的同时进行溅射的所谓 反应溅射形成层压膜。专利文献1 日本特开平9-87833号公报然而，将使用现有的ZnO类材料的透明导电膜用于静电容量式触摸面板时，透明性不比现有的ITO膜逊色，但具有电阻率高的问题。因此，为了使ZnO类透明导电膜的电阻率降至期望值，考虑了在进行溅射法时，将 氢气作为还原气体导入腔内，在此还原气氛中成膜的方法。然而，此时得到的透明导电膜的电阻率切实地降低，但存在在其表面产生少许金 属光泽，透过率降低的问题。此外，防反射膜的成膜工艺中使用SiO和TiO的靶时，由于需要使用RF电源，与使 用DC电源或AC电源时相比，成膜速度具有变慢的趋势。此外，在使用RF电源的装置中，电源成本具有变高的趋势，因情况不同而装置也 有可能复杂化。进而，现有的成膜方法由于需要SiO和TiO的两种靶或者Si和Ti的两种靶，所以 需要两种溅射装置。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述问题而提出的，其目的在于，提供在使用氧化锌类透明导 电膜或防反射膜等光学膜的触摸面板中，使氧化锌类透明导电膜的电阻率降低，同时可维 持对可见光线的透明性的触摸面板的制造方法和成膜装置。此外，本专利技术的目的在于，提供在设置防反射膜等光学膜时，也可用一个装置形成 透明导电膜或光学膜的触摸面板的制造方法和成膜装置。此外，本专利技术的目的在于，提供可以以现有的透明导电膜或光学膜的成膜速度以 上的成膜速度成膜的触摸面板的制造方法和成膜装置。进而，本专利技术的目的在于，提供通过使用一种靶，变更导入的气体种类，可形成多 层光学膜、或多层光学膜和透明导电膜，进一步地，可以以比现有的透明导电膜或光学膜的 成膜速度高的成膜速度成膜的触摸面板的制造方法和成膜装置。本专利技术人对适用氧化锌类透明导电膜或防反射膜的触摸面板进行仔细研究的结 果发现，在使用由氧化锌类材料形成的靶通过溅射法形成氧化锌类透明导电膜时，如果在 含有选自氢气、氧气和水蒸气中的两种或三种的反应性气体的气氛中进行溅射，并且氢气 的分压(Ph2)与氧气的分压(P。2)的比R(PH2/P。2)满足下式⑴的条件下进行溅射法，可得 到比现有优异的触摸面板，直至完成本专利技术。R = PH2/P02 彡 5(1)具体来说，本专利技术人发现，如果在上述条件下进行溅射法，可使氧化锌类透明导电 膜的电阻率降低，可维持对可见光线的透明性，进而发现，如果与上述同样处理形成氧化锌 类防反射膜等光学膜，不用担心产生金属光泽，可维持对可见光线的透明性。即，本专利技术第一方式中的触摸面板的制造方法为包括具有形成有透明导电膜的主 面的透明基板的触摸面板的制造方法，通过在含有选自氢气、氧气和水蒸气中的两种或三 种的反应性气体气氛中使用由氧化锌类材料形成的靶进行溅射法，在所述透明基板的所述 主面上形成所述透明导电膜。在此，本专利技术中的触摸面板包括将形成有透明导电膜的一对透明基板以规定间隔 对向配置以使这些透明导电膜彼此对置，检测出该一对透明导电膜接触的位置的电阻膜方 式。此外，本专利技术中的触摸面板可为在触摸面板的全部表面形成低压电场，通过用户等接触按压部分，使电场放电，检测出该位置的静电容量式。该制造方法中，通过使用由氧化锌类材料形成的靶在含有选自氢气、氧气和水蒸 气中的两种或三种的反应性气体气氛中进行溅射法在透明基板的主面上形成透明导电膜。 由此，可使通过溅射法在透明基板上形成氧化锌类透明导电膜时的气氛为含有选自氢气、 氧气和水蒸气中的两种或三种的气氛，即还原性气体和氧化性气体的比例调和的气氛。因 此，如果在该气氛下进行溅射法，可在得到的透明导电膜中控制氧化锌结晶中的氧空穴数， 可实现具有期望导电率的透明导电膜。此外，透明导电膜的电阻率也降低，可实现具有期望 电阻率值的透明导电膜。此外，得到的透明导电膜不会产生金属光泽，可维持对可见光线的 透明性。本专利技术第二方式中的触摸面板的制造方法为下述触摸面板的制造方法，所述触摸 面板包括具有形成有透明导电膜的主面的第一透明基板和第二透明基板，对向配置有所述 第一透明基板和所述第二透明基板以使所述第一透明基板的透明导电膜和所述第二透明 基板的所述透明导电膜彼此对置且以规定间隔隔开，通过使用由氧化锌类材料形成的靶在 含有选自氢气、氧气和水蒸气中的两种或三种的反应性气体气氛中进行溅射法，在所述第 一透明基板和所述第二透明基板中的任意一方或两方的基板的所述主面上形成所述透明 导电膜。该制造方法中，通过使用由氧化锌类材料形成的靶在含有选自氢气、氧气和水蒸 气中的两种或三种的反应性气体气氛中进行溅射法在一对的所述第一透明基板和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触摸面板的制造方法，为包括具有形成有透明导电膜的主面的透明基板的触摸面板的制造方法，其特征在于，　　通过在含有选自氢气、氧气和水蒸气中的两种或三种的反应性气体气氛中使用由氧化锌类材料形成的靶进行溅射法，在所述透明基板的所述主面上形成所述透明导电膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥明久，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：JP