着色组合物、滤色器以及彩色液晶显示元件制造技术

本发明专利技术提供一种能够形成即使在低曝光量下也具有充分的显影耐性且耐溶剂性优异的像素和黑矩阵的着色组合物。本发明专利技术的着色组合物的特征在于含有（Ａ）着色剂、（Ｂ）粘接剂树脂和（Ｃ）具有下式（１）表示的结构的化合物。在下式（１）中，Ｘ表示具有环氧乙基的基团、具有氧杂环丁基的基团或具有聚合性不饱和键的基团，“＊”表示结合位点。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及着色组合物、滤色器以及彩色液晶显示元件，更具体而言，涉及用于形成对透射型或反射型的彩色液晶显示装置、彩色摄像管元件等中所使用的滤色器有用的着色层的着色组合物，涉及具备利用该着色组合物所形成的着色层的滤色器以及具备该滤色器的彩色液晶显示元件。
技术介绍
作为利用着色放射线敏感性组合物形成滤色器的方法，已知在基板上或者预先形成有所需图案的遮光层的基板上形成着色放射线敏感性组合物的涂膜，介由具有规定的图案的光掩模照射放射线(以下称为“曝光”。)，进行显影，将未曝光部分溶解除去，然后进行后烘烤，从而得到各色的像素的方法(专利文献1和幻。另外，还知道利用含有黑色材料的光聚合性组合物形成黑矩阵的方法(专利文献3)。而且，在近年来的滤色器的
中，降低曝光量、缩短产距时间已成为主流， 即使在低曝光量下也要求具有充分的显影耐性、耐溶剂性等，即要求着色层形成用放射线敏感性组合物的高灵敏化。尤其是有关耐溶剂性，在像素图案中产生裂缝、空缺或从像素图案中溶出着色成分的问题日益明显，需要解决这种情况。上述问题的背景可以认为与以下情况相关为了应对近年来对彩色液晶显示元件的高对比度化、高亮度化以及高色纯度化的要求，对着色放射线敏感性组合物中使用的颜料的大部分进行各种各样的微细化处理、 表面处理；在着色放射线敏感性组合物中颜料所占的含有比例具有变得越来越高的倾向寸。另一方面，在专利文献4中，为了提高使用着色组合物形成的着色层的耐试剂性， 提出了使其含有三聚氰胺树脂等作为交联剂。但是，就所述的着色组合物而言，存在如果曝光量变低或使用特定的颜料，则无法得到充分的显影耐性和耐溶剂性的问题。 专利文献专利文献1 专利文献2 专利文献3 专利文献4日本特开平2-144502号公报日本特开平3-53201号公报日本特开平6-35188号公报日本特开2007-225717号公报
技术实现思路
本专利技术的课题在于提供一种能够形成即使在低曝光量下也具有充分的显影耐性且耐溶剂性优异的像素和黑矩阵的着色组合物。本专利技术的其他课题在于提供一种具有由上述着色组合物形成的像素的滤色器以及具备该滤色器的彩色液晶显示元件。本专利技术人等进行了深入的研究，结果发现通过在着色剂以及粘接剂树脂中含有介由氨基甲基氧基结构结合环氧乙基、氧杂环丁基或者具有聚合性不饱和键的基团的特定结构的交联剂，能够解决上述课题，从而完成了本专利技术。S卩，本专利技术提供一种着色组合物，其特征在于，含有(A)着色剂、(B)粘接剂树脂以及(C)具有下式(1)表示的结构的化合物(以下有时将它们总称为“特定交联剂”)。权利要求1. 一种着色组合物，其特征在于，含有(A)着色剂、(B)粘接剂树脂和(C)具有下式(1) 表示的结构的化合物，2.根据权利要求1所述的着色组合物，其中，(C)成分具有酰脲结构、甘脲结构、三聚氰胺结构、苯代三聚氰二胺结构或咪唑烷-2-酮结构。3.根据权利要求1或2所述的着色组合物，其中，(C)成分是从下式(1-1)、(1-2)、 (1-3)、(1-4)和(1-5)中选择的化合物，4.根据权利要求1 3中任一项所述的着色组合物，进一步含有⑶具有聚合性不饱和键的单体，但是所述(D)具有聚合性不饱和键的单体不包括所述(C)成分。5.根据权利要求1 4中任一项所述的着色组合物，进一步含有(E)光聚合引发剂。6.一种滤色器，具备利用权利要求1 5中任一项所述的着色组合物所形成的着色层。7.一种彩色液晶显示元件，具备权利要求6所述的滤色器。8.一种交联用化合物，具有下式(1)表示的结构，.9. 一种交联用化合物，用下式(1-1) (1-5)中的任一个表示，全文摘要本专利技术提供一种能够形成即使在低曝光量下也具有充分的显影耐性且耐溶剂性优异的像素和黑矩阵的着色组合物。本专利技术的着色组合物的特征在于含有(A)着色剂、(B)粘接剂树脂和(C)具有下式(1)表示的结构的化合物。在下式(1)中，X表示具有环氧乙基的基团、具有氧杂环丁基的基团或具有聚合性不饱和键的基团，“*”表示结合位点。文档编号C09B67/20GK102341731SQ20108000991公开日2012年2月1日 申请日期2010年3月26日 优先权日2009年3月30日专利技术者成濑秀则, 板野考史, 蓑轮贵树 申请人:Jsr株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种着色组合物，其特征在于，含有（Ａ）着色剂、（Ｂ）粘接剂树脂和（Ｃ）具有下式（１）表示的结构的化合物，式中，Ｘ表示具有环氧乙基的基团、具有氧杂环丁基的基团或具有聚合性不饱和键的基团，“＊”表示结合位点。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：成濑秀则，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP