曝光装置及方法以及显示用面板基板制造装置及制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种曝光装置及方法以及显示用面板基板制造装置及制造方法。其中，该曝光装置，为具有：通过排列于正交复数的反射镜的二方向的空间性光调变器，依据描绘资料，对涂布有光阻剂的基板照射光束予以描绘的光束照射装置；及相对地扫描所述基板与所述光束照射装置的扫描手段；及数字地检测所述扫描手段的位置的检测手段的曝光装置，具有：以使描绘于所述基板的一定的描绘区域内的曝光量接近均等的方式，使所述一定的描绘区域内的所述各反射镜的描绘中心点位置分散的分散手段。本发明专利技术的技术方案可以制造高画质的显示用面板。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于液晶显示装置等显示用面板基板的制造，对涂布有光阻剂的基板照射光束，通过光束扫描基板，于基板描绘图案的曝光装置及曝光方法，以及显示用面板基板制造装置或显示用面板基板的制造方法，特别是使用排列于正交复数的反射镜的二方向的空间性光调变器，变更各反射镜的角度来调变照射基板的光束的曝光装置及曝光方法，以及显示用面板基板制造装置或显示用面板基板的制造方法。
技术介绍
被作为显示用面板使用的液晶显示装置的TFTCThin Film Transistor，薄膜晶体管)基板或彩色滤色片基板、电浆显示面板用基板、有机EL (Electroluminescence，电激发光)显示面板用基板等的制造，是使用曝光装置，通过微影法技术于基板上形成图案来进行。作为曝光装置，现有技术中，有使用透镜或镜片，将光罩的图案投影于基板上的投影方式、及于光罩和基板之间设置微小的间隙(proximity gap)，将光罩的图案转印于基板的近接方式。近年来，对涂布有光阻剂的基板照射光束，通过光束来扫描基板，于基板描绘图案的曝光装置被开发出来。由于是通过光束来扫描基板，于基板描绘图案，因此不需要高价的光罩。另外，通过变更描绘图案及扫描的程序，可以对应各种的显示用面板基板。作为此种曝光装置，例如有专利文献1。日本专利特开2003-332221号公报
技术实现思路
通过光束，于基板描绘图案时，在光束的调变上，是使用DMD(Digital Micromirror Device，数字微反射镜装置)。DMD是排列于通过反射光束，对基板照射的二方向所构成，通过变更各反射镜的角度，来调变对基板反射的光束。现在市售的DMD，各反射镜的尺寸为10 15 μ m四方程度，于邻接的反射镜之间设置有1 μ m程度的间隙。如将DMD 和藉由光束的基板的扫描方向平行地配置时，各反射镜的排列方向(正交的二方向)成为和基板的扫描方向平行及垂直，邻接的反射镜间的间隙与基板是相对地平行移动，于对应此间隙的处所，无法描绘图案。因此，DMD是如专利文献1所记载般，对于藉由光束的基板的扫描方向为倾斜地被使用。通过DMD被调变的光束，是从包含光束照射装置的装置光学系统的头部被照射于基板。对应DMD的各反射镜的各光束照射区域，是和反射镜的形状相同为正方形，被描绘于基板的图案，成为排列微小的正方形的点者。如依据专利文献1记载的方法，基板上的某大小的正方形区域内中的各光束照射区域的中心点的分布，理想上为如图11般。但是，于实际的装置中，依据进行基板的移动的工作台的编码器的分解能，各光束照射区域的藉由各反射镜的描绘中心点位置成为数字值，非如图11所示的理想的分布，成为于如图12所示的描绘中心点位置产生周期性偏移的分布，知道会对曝光结果产生影响。本专利技术的第1目的，在于提供将各光束照射区域的各反射镜的描绘中心点位置转换为数字值之时，使之分散以免产生周期性偏移，以接近均等的曝光量，可以涵盖基板全面描绘的曝光装置或曝光方法。本专利技术的第2目的，在于提供适用可以达成第1目的的曝光装置或曝光方法，可以制造高画质的显示用面板的显示用面板制造装置或显示用面板制造方法。本专利技术为了达成所述第1目的，提供了一种曝光装置，为具有通过排列于正交复数的反射镜的二方向的空间性光调变器，依据描绘资料，对涂布有光阻剂的基板照射光束予以描绘的光束照射装置；及相对地扫描所述基板与所述光束照射装置的扫描手段；及数字地检测所述扫描手段的位置的检测手段的曝光装置，具有以使描绘于所述基板的一定的描绘区域内的曝光量接近均等的方式，使所述一定的描绘区域内的所述各反射镜的描绘中心点位置分散的分散手段。另外，本专利技术为了达成所述第1目的，其第2特征为在第1特征之外，所述各反射镜是被排列于所述扫描方向的反射镜。进而本专利技术为了达成所述第1目的，其第3特征为在第2特征之外，所述分散手段，是将通过排列于所述扫描方向的反射镜的分散图案，于垂直于所述扫描方向的方向予以错开相位来使之分散的手段。另外，本专利技术为了达成所述第1目的，其第4特征为在第1特征之外，所述分散手段，是使通过所述检测手段所产生的所述一定的描绘区域内的偏移的位置偏差分散的手段。进一步地，所述曝光装置具有搭载所述光束照射装置予以旋转，使所述光束照射装置的空间性光调变器对于扫描方向为倾斜的工作台。其中，所述光束照射装置的空间性光调变器，是对于扫描方向只倾斜反射镜的间隔量地被配置。本专利技术还提供了一种曝光方法，为相对地扫描通过排列于正交复数的反射镜的二方向的空间性光调变器，依据描绘资料，对涂布有光阻剂的基板照射光束予以描绘的光束照射装置及所述基板，并数字地检测所述扫描的位置所进行的曝光方法，以使描绘于所述基板的一定的描绘区域内的曝光量接近均等的方式，使所述一定的描绘区域内的所述各反射镜的描绘中心点位置分散。其中，所述各反射镜是被排列于所述扫描方向的反射镜。其中，所述分散是将排列于所述扫描方向的反射镜的分散图案，于垂直于所述扫描方向的方向予以错开相位来使之分散。其中，所述分散是使通过所述检测所产生的所述一定的描绘区域内的偏移的位置偏差分散来进行。进而本专利技术为了达成所述第2目的，还提供了一种显示用面板基板制造装置，使用上述的曝光装置来进行基板的曝光。本专利技术还提供了一种显示用面板基板制造方法，使用上述曝光方法来进行基板的曙光ο如依据本专利技术，可以提供将各光束照射区域的各反射镜的描绘中心点位置转换为数字值之时，使之分散以免产生周期性偏移，以接近均等的曝光量，可以涵盖基板全面描绘的曝光装置或曝光方法。另外，如依据本专利技术，可以提供适用上述的曝光装置或曝光方法的显示用面板制造装置以及显示用面板制造方法，可以制造高画质的显示用面板。附图说明 图1为表示依据本专利技术的一实施例的曝光装置的概略构成图；图2为依据本专利技术的一实施例的曝光装置的侧面图；图3为依据本专利技术的一实施例的曝光装置的正面图；图4为表示光束照射装置的概略构成图；图5为被搭载于门上的光束照射装置的上面图；图6为被搭载于门上的光束照射装置的侧面图；图7为说明对于DMD的扫描方向的倾斜图；图8为说明激光测距系统的动作图；图9为表示描绘控制部的概略构成图；图10为表示通过光束所描绘的图案的一例图；图11为表示光束照射区域的各反射镜描绘中心点的理想分布的一例图；图12为表示藉由工作台的编码器被转换为数字值时的光束照射区域的各反射镜描绘中心点位置的分布的一例图；图13为以某反射镜的描绘中心点位置为基准，表示以数字值的编码器输出EO所规定的反射镜的实际描绘中心点位置Pr、该反射镜的理想描绘中心点位置Pi、以及以两者的差的决定值所规定的误差Err( = I Pr-Pi)、各描绘位置与描绘间隔Pd的表；图14为表示本专利技术的一实施例的处理流程图；图15为以图13所示条件，依据图14的处理流程，来表示扫描方向1行的各描绘位置的描绘间隔、累积误差等的表；图16为表示使用本专利技术的一实施例，使各光束照射区域的各反射镜描绘中心点位置接近均等分布的一例图；图17为说明藉由光束的基板的扫描图；图18为说明藉由光束的基板的扫描图；图19为说明藉由光束的基板的扫描图；图20为说明藉由光束的基板的扫描图；图21为表示液晶显示装置的TFT基板的制造工程的一例的流程图；图22为表示液晶显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种曝光装置，为具有：通过排列于正交复数的反射镜的二方向的空间性光调变器，依据描绘资料，对涂布有光阻剂的基板照射光束予以描绘的光束照射装置；及相对地扫描所述基板与所述光束照射装置的扫描手段；及数字地检测所述扫描手段的位置的检测手段的曝光装置，其特征在于，具有：以使描绘于所述基板的一定的描绘区域内的曝光量接近均等的方式，使所述一定的描绘区域内的所述各反射镜的描绘中心点位置分散的分散手段。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：工藤慎也，林知明，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：JP