【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种净化氢气用干燥塔，尤其指还原氧化钨用氢气的净化干燥 + -tB。
技术介绍
在钨钢产业中，还原氧化钨用的氢气净化干燥塔，是将一层干燥氢气用吸附剂层3 设置于所述的进气口 1与出气口间2，该层干燥氢气用吸附剂层3高度超过1. 5米。经测试， 净化后的氢气露点高，并且不稳定，所以生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细不均，细颗粒粉末则无法生产。
技术实现思路
针对现有技术中存在的不足之处，本技术提供一种还原氧化钨用氢气净化干燥塔，其生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细均勻，且生产出的细颗粒粉末也较均勻。为实现上述目的，本技术技术方案为还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口、于下端部设有氢气出气口，干燥氢气用吸附剂层设置于所述的进气口与出气口间，所述的干燥氢气用吸附剂层设为三层，每层间隔设置，且每高度小于1.5米。所述的干燥氢气用吸附剂层为硅胶层或分子筛层。上述技术方案的有益之处在于本技术摒弃了现有技术干燥塔内仅采用一层高度超过1. 5米的干燥氢气用吸附剂层的结构。由于超过1.5米的硅胶层再生时间短，再生不完全，常达不到最佳的氢气净化干燥效果，故，本技术是在干燥塔内间隔设置三层的硅胶层或分子筛层，且每高度小于1.5米。经上述结构改造后的干燥塔净化干燥后氢气露点明显降低，状态稳定。并且生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细均勻，细颗粒粉末也较均勻。附图说明图1是现有技术还原氧化钨用氢气净化干燥塔结构示意图；图2是本技术还原氧化钨用氢气净化干燥塔结构示意图。具体实施方式现结合附图和实施例说明本技术。如图1所示的还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢...
【技术保护点】
１．还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口、于下端部设有氢气出气口，干燥氢气用吸附剂层设置于所述的进气口与出气口间，其特征在于：所述的干燥氢气用吸附剂层设为三层，每层间隔设置，且每高度小于１．５米。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：廖永乐，
申请(专利权)人：春保材料科技厦门有限公司，
类型：实用新型
国别省市：92
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