一种浆纱机双面后上蜡装置，包括机架、上蜡槽、下蜡槽、上蜡辊、下蜡辊、导纱辊及传动机构，上蜡辊置于上蜡槽内，下蜡辊置于下蜡槽内，上蜡辊和下蜡辊均与纱片接触，所述上蜡槽和下蜡槽均水平放置，且上蜡槽位于下蜡槽的正上方；导纱辊分布于上蜡槽和下蜡槽的四周且呈“S”型布局。本实用新型专利技术相对于单面上蜡，特别是双浆槽浆纱机的单面上蜡，有利于更好的保护浆膜，使纱线光洁柔滑，降低浆纱表面摩擦系数，使得浆纱之间、浆纱与机件之间的摩擦力减小，避免经纱毛羽再生和缠结，显著降低经纱断头率。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术属于纺织机械
，尤其涉及一种浆纱机双面后上蜡装置。
技术介绍
后上蜡的作用原理是经纱在上浆烘干后，经干区分绞卷入织轴前，从盛有蜡液的蜡槽上通过，与慢速转动的上蜡辊表面接触，从而使蜡液粘附在经纱表面保护浆膜，使纱线光洁柔滑，降低浆纱表面摩擦系数，使得浆纱之间、浆纱与机件之间的摩擦力减小，避免经纱毛羽再生和缠结，降低经纱断头率。现有国内外新型浆纱机均配置单面上蜡装置，这种单面上蜡装置只能使经纱半个表面与蜡辊接触，蜡液不能粘附于经纱整个表面，特别是对于双浆槽浆纱机只能使下层纱片下表面上蜡，从而使后上蜡效果大大降低，不利于保护浆膜。而且，该单面上蜡装置，仅仅适用于低档品种，对高支高密品种和AB纱品种的后上蜡存在局限，造成织造时，布面起球起毛现象，直接影响织机的生产效率。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对上述现有技术中所存在的不足提供一种浆纱机双面后上蜡装置，提高上蜡效果，解决高支高密和AB纱品种布面起球的难题，达到织机高效生产的目的。为了解决上述技术问题采用以下技术方案本技术与现有技术相比有益效果如下一种浆纱机双面后上蜡装置，包括机架、上蜡槽、下蜡槽、上蜡辊、下蜡辊、导纱辊及传动机构，上蜡辊置于上蜡槽内，下蜡辊置于下蜡槽内，上蜡辊和下蜡辊均与纱片接触，所述上蜡槽和下蜡槽均水平放置，且上蜡槽位于下蜡槽的正上方；导纱辊分布于上蜡槽和下蜡槽的四周且呈“S”型布局。所述上蜡辊和下蜡辊在竖直方向上最高点的表面线速度方向与纱片前进方向一致。所述导纱辊为5个，上蜡槽左侧竖直方向上分别设置上、下两个导纱辊，下蜡槽的右侧竖直方向上分别设置上、下两个导纱辊，下蜡槽的左侧下方设置导纱辊。本技术相对于单面上蜡，特别是双浆槽浆纱机的单面上蜡，有利于更好的保护浆膜，使纱线光洁柔滑，降低浆纱表面摩擦系数，使得浆纱之间、浆纱与机件之间的摩擦力减小，避免经纱毛羽再生和缠结，显著降低经纱断头率。本技术对于提高产品质量， 提高织机生产效率，有明显作用，特别适用于高支高密和AB纱品种的经纱上浆工序。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式本技术以下将结合附图作进一步描述如图1所示，一种浆纱机双面后上蜡装置，包括机架1、上蜡槽2、下蜡槽3、上蜡辊 4、下蜡辊5、导纱辊6及传动机构，上蜡辊4置于上蜡槽2内，下蜡辊5置于下蜡槽3内，上蜡辊4和下蜡辊5均与纱片7接触，上蜡辊4和下蜡辊5在竖直方向上最高点的表面线速度方向与纱片7前进方向一致；上蜡槽2和下蜡槽3均水平放置，且上蜡槽2位于下蜡槽3 的正上方；5个导纱辊6分布于上蜡槽2和下蜡槽3的四周且呈“S”型布局。上蜡槽左侧竖直方向上分别设置上、下两个导纱辊，下蜡槽的右侧竖直方向上分别设置上、下两个导纱辊，下蜡槽的左侧下方设置导纱辊。本技术浆纱机双面后上蜡装置，可以作为浆纱机上增设或改进的机构，也可作为新型浆纱机上配备的机构，具体指一种装置使得经纱在上浆烘干后，经干区分绞卷入织轴前，纱线的上表面A、下表面B依次与慢速转动的下蜡辊和上蜡辊表面接触，从而使蜡液粘附在经纱整个表面。综上所述，本技术的核心是利用若干导纱辊变换纱片的两个表面，并依次上蜡。因此，凡是采用该方式实现双面上蜡的任何具体结构，均属于本技术的保护范围。权利要求1.一种浆纱机双面后上蜡装置，包括机架、上蜡槽、下蜡槽、上蜡辊、下蜡辊、导纱辊及传动机构，上蜡辊置于上蜡槽内，下蜡辊置于下蜡槽内，上蜡辊和下蜡辊均与纱片接触，其特征在于所述上蜡槽和下蜡槽均水平放置，且上蜡槽位于下蜡槽的正上方；导纱辊分布于上蜡槽和下蜡槽的四周且呈“S”型布局。2.根据权利要求1所述的一种浆纱机双面后上蜡装置，其特征在于所述上蜡辊和下蜡辊在竖直方向上最高点的表面线速度方向与纱片前进方向一致。3.根据权利要求1所述的一种浆纱机双面后上蜡装置，其特征在于所述导纱辊为5 个，上蜡槽左侧竖直方向上分别设置上、下两个导纱辊，下蜡槽的右侧竖直方向上分别设置上、下两个导纱辊，下蜡槽的左侧下方设置导纱辊。专利摘要一种浆纱机双面后上蜡装置，包括机架、上蜡槽、下蜡槽、上蜡辊、下蜡辊、导纱辊及传动机构，上蜡辊置于上蜡槽内，下蜡辊置于下蜡槽内，上蜡辊和下蜡辊均与纱片接触，所述上蜡槽和下蜡槽均水平放置，且上蜡槽位于下蜡槽的正上方；导纱辊分布于上蜡槽和下蜡槽的四周且呈“S”型布局。本技术相对于单面上蜡，特别是双浆槽浆纱机的单面上蜡，有利于更好的保护浆膜，使纱线光洁柔滑，降低浆纱表面摩擦系数，使得浆纱之间、浆纱与机件之间的摩擦力减小，避免经纱毛羽再生和缠结，显著降低经纱断头率。文档编号D06B1/14GK202116837SQ20112016417公开日2012年1月18日 申请日期2011年5月23日 优先权日2011年5月23日专利技术者李春广, 李铬, 梁睦 申请人:中原工学院本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种浆纱机双面后上蜡装置，包括机架、上蜡槽、下蜡槽、上蜡辊、下蜡辊、导纱辊及传动机构，上蜡辊置于上蜡槽内，下蜡辊置于下蜡槽内，上蜡辊和下蜡辊均与纱片接触，其特征在于：所述上蜡槽和下蜡槽均水平放置，且上蜡槽位于下蜡槽的正上方；导纱辊分布于上蜡槽和下蜡槽的四周且呈“Ｓ”型布局。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李铬，梁睦，李春广，
申请(专利权)人：中原工学院，
类型：实用新型
国别省市：41
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