吹扫装置和具有它的等离子体增强化学气相沉积设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出一种用于等离子体增强化学气相沉积设备的吹扫装置，包括：内管，所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭，所述内管的管壁上设有通孔；和外管，所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间，所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通，所述环形空间的第一端和第二端封闭，所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。本实用新型专利技术还提出一种等离子体增强化学气相沉积设备。根据本实用新型专利技术的吹扫装置，结构简单，使用方便，具有该吹扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备能够快速清理载板上的颗粒，从而改善了加工件的外观，提高设备使用率。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种吹扫装置和具有该清扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备。
技术介绍
随着等离子体(Plasma)技术的不断发展，等离子体装置已经被广泛地应用于制造集成电路(IC)或光伏(PV)产品的制造工艺中。而光伏产品制造过程中用到的平板式 PECVD设备根据成膜方式的不同主要分为直接法和间接法两种，这两种设备都是通过平板式载板承放基片。直接法的载板接地，上电极接中频或者射频，在上电极和载板之间形成等离子体；间接法的载板不接地，只起到传输作用，电极板接高频或者微波，离子放电空间中就结合成减反膜并由扩散作用沉积在硅片表面上。直接法成膜致密，可以实现表面钝化和体钝化，有利于提高少子寿命，所以短路电流一般比较高。但直接法为了载板接地，都是采用向上镀膜的方式，成膜表面朝上，在工艺过程中产生的颗粒，或长时间运行后上电极剥落的颗粒会掉落到成膜表面上，影响基片的外观和质量。现有技术的缺点是，操作人员手持通有压缩空气的管子对没有基片的空载板进行吹扫，(此时没有基片的空载板位置不是固定的，有时在卸载台，有时在装载台)直至把载板上的颗粒吹干净为止，因此既浪费人力，又浪费时间。另外，吹扫方式也是不规则的左右吹扫，导致不能把颗粒完全吹落。
技术实现思路
本技术旨在至少解决上述技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提出一种吹扫装置，该吹扫装置的结构简单、使用方便、清扫载板颗粒效果好、提高了基片的外观。本技术的另一目的在于提出一种具有上述吹扫装置的等离子体增强化学气相沉积设备。为实现上述目的，本技术第一方面提出的用于等离子体增强化学气相沉积设备的吹扫装置，包括内管，所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭，所述内管的管壁上设有通孔；和外管，所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间，所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通，所述环形空间的第一端和第二端封闭，所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。根据本技术的用于等离子体增强化学气相沉积设备的吹扫装置，气体从内管的一端通入内管的内腔，内腔中的气体通过所述通孔进入所述环形空间，然后在环形空间中经过缓冲后的气体通过外管上的分配孔向外界吹送。环形空间缓冲气流压力，并起到均勻分配压缩空气的作用，因此，保证从分配孔吹向外界的气流更加平稳，提高吹扫效果。另外，根据本技术的吹扫装置还可以具有如下附加的技术特征所述通孔为多个，所述多个通孔沿所述内管的轴向间隔分布。所述通孔的开口方向与所述分配孔的开口方向之间的夹角α在90° < α < 270°的范围内。所述夹角α为180°。所述内管与所述外管同轴。所述分配孔为沿所述外管的轴向延伸的狭槽。所述狭槽为矩形。所述吹扫装置还包括第一密封件和第二密封件，所述第一密封件连接在所述内管和所述外管的第一端以密封所述环形空间的第一端，所述第二密封件连接在所述内管和所述外管的第二端以密封所述内管的第二端和所述环形空间的第二端。所述第一和第二密封件与所述内管和所述外管分别螺纹连接。本技术第二方面提出的等离子体增强化学气相沉积设备，包括依次设置的装载台，预热腔、工艺腔、冷却腔和卸载台；返回装置，所述返回装置设置在所述卸载台与所述装载台之间以将所述卸载台上的载板输送到所述装载台上；吹扫装置，所述吹扫装置为根据本技术第一方面所述的吹扫装置，所述吹扫装置设在所述返回装置的支架上且位于所述返回装置上方用于吹扫所述返回装置上的所述载板；和气源，所述气源与所述吹扫装置的所述内管的第一端相连。根据本技术的等离子体增强化学气相沉积设备，通过吹扫装置向载板吹送气体以清理载板表面的颗粒，保证载板所运载的基片外观不受颗粒影响，提高基片质量。另外，吹扫装置设置在载板从卸载台返回装载台的过程中，保证设备正常运行，提高设备使用率。另外，根据本技术的等离子体增强化学气相沉积设备还可以具有如下附加的技术特征所述吹扫装置邻近所述装载台。所述吹扫装置可旋转地设置在所述返回装置的支架上。所述吹扫装置的所述外管上的分配孔的开口方向与所述返回装置的上表面之间的夹角β为锐角。根据本技术的等离子体增强化学气相沉积设备还包括设置在所述气源与所述内管之间的电磁阀。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中图IA为本技术实施例的吹扫装置的纵截面示意图；图IB为图IA所示吹扫装置的横截面示意图；图2为本技术一个实施例的吹扫装置与载板的位置关系示意图；以及图3为本技术实施例的等离子体增强化学气相沉积设备的流程图。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、 “前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底” “内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。以下结合附图1A-1B首先描述根据本技术实施例的吹扫装置。如图IA所示，为本技术实施例的吹扫装置的纵截面示意图，图IB为本技术实施例的吹扫装置的横截面示意图。根据本技术实施例的吹扫装置100包括内管 110和外管120。其中，内管110的第一端(图IA中的左端)敞开且内管的第二端(图IA中的右端)封闭，内管110的管壁上设有通孔111。在本技术的一个示例中，如图IA所示，通孔111个数为4个，且4个通孔沿内管110的轴向((图IA中的左右方向)间隔分布。优选地，通过111可以为等间隔分布。当然，通孔111的个数并不限于4个，并且通孔111可以分别在内管110的整个长度上。此外，通孔111可以排列成直线，也可以螺旋分布。外管120套设在内管110外面以在外管120与内管110之间限定出环形空间130。 图IA中示出的内管110和外管120为圆管，然而，本技术并不限于此，例如也可以为扁管。优选地，内管110与外管120可以同轴，从而环形空间130与内管110和外管120同轴， 进而气体在环形空间130内流动顺畅且更加均勻。环形空间130通过通孔111与内管110的内腔112连本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种吹扫装置，其特征在于，包括：内管，所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭，所述内管的管壁上设有通孔；和外管，所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间，所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通，所述环形空间的第一端和第二端封闭，所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。

【技术特征摘要】
1.一种吹扫装置，其特征在于，包括内管，所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭，所述内管的管壁上设有通孔;和外管，所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间， 所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通，所述环形空间的第一端和第二端封闭，所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。2.根据权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述通孔为多个，所述多个通孔沿所述内管的轴向间隔分布。3.根据权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述通孔的开口方向与所述分配孔的开口方向之间的夹角α在90° < α < 270°的范围内。4.根据权利要求3所述的吹扫装置，其特征在于，所述夹角α为180°。5.根据权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述内管与所述外管同轴。6.根据权利要求1-5中任一项所述的吹扫装置，其特征在于，所述分配孔为沿所述外管的轴向延伸的狭槽。7.根据权利要求6所述的吹扫装置，其特征在于，所述狭槽为矩形。8.根据权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，还包括第一密封件和第二密封件，所述第一密封件连接在所述内管和所述外管的第一端以密封所述环形空间的第一端，所述第二密封件连接在所述内管和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘红义，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：实用新型
国别省市：11