本发明专利技术提供了一种热辅助磁性记录头，其中，包括光学系统的滑块与光源单元联接。光源单元包括：单元基板，包括与滑块联接的联接表面以及与联接表面相邻的源安装表面；光源，设置在源安装表面中，发射用于热辅助的光；以及光电检测器部件，形成在单元基板内部，光电检测器部件的光接收部分位于单元基板的源安装表面侧，并且被配制为接收从背面光发射中心发射的光。光源单元包括使得对来自光源的光输出实现恒定监测的光电检测器部件。因此，可以实现对光输出的反馈调节。此外，由于背面光发射中心和光接收部分可以彼此充分靠近，所以可以以更高的精度来监测光输出。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及热辅助磁性记录头，其中通过将光源单元与滑块相联接来构造所述热辅助磁性记录头，所述光源单元包括用于发射供热辅助磁性记录头使用的光的光源。本专利技术还涉及一种包括所述热辅助磁性记录头的头支架组件(HGA，head gimbal assembly)以及一种包括HGA的磁性记录装置。
技术介绍
随着近年来对互联网的大量使用，在诸如服务器和信息处理终端之类的计算机上存储了远远高于以往的大量数据。预计这还会加速进一步增长。在这些环境下，越来越需要作为海量存储器的诸如磁盘装置之类的磁性记录装置，并且还越来越需要磁性记录装置的更高记录密度。在磁性记录技术中，需要磁头在磁性记录介质上写入较小的记录比特，以实现较高的记录密度。为了稳定地形成较小的记录比特，在商业上实行垂直磁性记录技术，在垂直磁性记录技术中，与介质表面垂直的磁化分量用作记录比特。此外，正在积极开发热辅助磁性记录技术，所述热辅助磁性记录技术使得可以使用具有更高的磁化热稳定性的磁性记录介质。在热辅助磁性记录技术中，使用具有较大能量Ku的磁性材料形成的磁性记录介质，以使磁化稳定，然后通过对介质的用于写入数据的部分进行加热，来减小该部分的各项异性磁场，然后通过向加热部分施加写入场来执行写入。实际上，通常使用一种方法，在该方法中，利用诸如近场光(NF光)之类的光来照射磁性记录介质，从而将磁性记录介质加热。在这种情况下，非常重要的是在头的内部应当将具有足够高的光输出的光源布置在哪里以及如何布置所述光源，以在磁性记录介质上的期望位置稳定地提供具有足够高的强度的光。关于光源的设置，例如，美国专利No. 7，538，978B2公开了一种配置，在这种配置下，包括激光二极管的激光单元安装在滑块的背面；美国专利公开No. 2008/0056073A1公开了一种配置，在这种配置下具有单片集成反射镜的激光二极管元件的结构安装在滑块的背面。此外，美国专利公开NO.2005/0213436A1公开了一种滑块与半导体激光器形成 ￠- W^nI^J ；Robert Ε. Rottmayer ^AW "Heat-Assisted Magnetic Recording" IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS, Vol. 42,No. 10，p. 2417-2421 (2006)公开了一种配置，在这种配置下，利用设置在驱动装置内的激光单元所产生的光，来照射衍射光栅。此外，本专利技术人提出了一种具有“复合滑块结构”的热辅助磁性记录头，其中通过将具有光源的光源单元与具有写入头元件的滑块的端面(背面)相联接(join)，来构造所述“复合滑块结构”，端面与滑块的对向介质表面(opposed-to-medium surface)相对。例如，在美国专利公开No. 2008/043360A1和美国专利公开No. 2009/052078A1中公开了“复合滑块结构”。尽管提出了多种形式的光源安装，然而上述所有激光二极管都是由半导体制成的4器件。半导体器件的输出响应于环境温度的变化而变化。具体地，在使用磁盘装置的环境下采用的环境温度在例如-5至60°C的范围内。相应地，从设置在头中的光源输出的光的变化范围应当被估计为非常宽。此外，由于从周围元件和光源自身辐射的热量所引起的光源温度变化也非常大，所以从光源输出的光的变化范围进一步增大。因此，为了在不同温度下稳定地提供具有恒定强度的输出光，所以应当采取措施来实时检测从光源输出的光的变化以及使从光源输出的光保持恒定。然而，很难将对用于热辅助的光进行监测的系统与传输用于热辅助的光的光学系统一起安装在头的元件集成表面中，因为元件集成表面的面积有限。实际上，飞米(femto) 滑块常被用作头滑块基板。飞米滑块的元件集成表面的面积小到230微米(μπι) X 700 μ m。 在这些情况下，尚未有措施来监测从光源输出的用于热辅助的光。此外，当磁头在磁性记录介质上移动(fly)时，需要防止设置在磁头中的监测系统提高磁头的空气阻力从而干扰磁头附近的气流。然而，尚未有措施来防止这种空气阻力的增大。
技术实现思路
在说明本专利技术之前，将定义说明书中使用的一些术语。根据本专利技术，在滑块基板的元件安装表面中、或者在磁性记录头的单元基板的源安装表面中形成的分层结构或元件结构中，当从标准层或元件侧观看时，将基板侧定义为“下部”，而相对侧定义为“上部”。此外，根据需要，在示出了根据本专利技术的头的实施例的一些附图中，指示了 “X轴、Y轴和Z轴方向”。本文中，ζ轴方向指示上述“上下”方向，+Z侧对应于尾侧(trailing side)，-Z侧对应于首侧(leading side)。Y轴方向指示迹线宽度方向，X轴方向指示高度方向。根据本专利技术，提供了一种热辅助磁性记录头，其中，包括光学系统的滑块与光源单元联接，所述光学系统被配置为传播用于热辅助的光，并且设置在滑块基板的元件集成表面中。本文中，所述光源单元包括单元基板，包括联接表面，当光源单元与滑块联接时面对滑块基板；以及源安装表面，与联接表面相邻；光源，设置在源安装表面中，发射要输入光学系统中的用于热辅助的光；以及光电检测器部件，形成在单元基板内部，并且被配置为测量来自光源的输出，光电检测器部件的光接收部分位于单元基板的源安装表面侧，并且被配制为接收从光源的在光发射中心的相对侧的背面光发射中心发射的光，所述光发射中心发射用于热辅助的光；滑块基板的在对向介质表面的相对侧的后表面联接到单元基板的联接表面，使得从光发射中心发射的光进入光学系统。如上所述，在根据本专利技术的热辅助磁性记录头中，设置了使得能够对来自光源的光输出实现恒定监测的光电检测器部件。因此，可以实现对光源的光输出的反馈调节，其中所述光源发射用于热辅助的光。此外，可以通过响应于由于环境波动而引起的光输出的变化或者光输出随时间的变化而进行调节，来控制来自光源的光输出，以稳定照射磁性记录介质的、用于热辅助的光的强度。因此，可以适当地并且稳定地加热磁性记录介质的用于写入数据的区域。因此，可以实现良好的热辅助磁性记录。此外，光电检测器部件形成在单元基板的内部，光接收部分位于单元基板的源安装表面上，使得光接收部分可以接收从光源的背面光发射中心发射的激光。因此，背面光发射中心和光接收部分可以彼此充分靠近，使得可以以更高的效率来监测来自光源的光输出。此外，由于监测系统包含在光源单元中的单元基板的内部，所以光源具有不那么不规则的总体外形。当头在磁记录介质上方移动时，这可以避免热辅助磁性记录头的空气阻力的增大，其中所述空气阻力的增大会显著干扰头周围的气流。在根据本专利技术的热辅助磁性记录头中，当从单元基板的联接表面侧观看时，光电检测器部件优选地位于光源的背面。此外，光电检测部件优选地是从单元基板的一部分形成的半导体光电二极管，更优选地，是从单元基板的一部分形成的PIN型光电二极管。本文中，PIN型光电二极管包括ρ型半导体部分和η型半导体部分，以及设置在ρ型半导体部分和η型半导体部分之间的本征部分，所述本征部分具有非常低的杂质浓度。提供本征部分加宽了 PIN型光电二极管中耗尽层的宽度，从而可以使寄生电容最小化。因此，与PN结二极管相比，PIN型光电二极管可以实现更高的灵敏度和更高的响应速度。此本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种热辅助磁性记录头，其中，包括光学系统的滑块与光源单元联接，所述光学系统被配置为传播用于热辅助的光并且被设置在滑块基板的元件集成表面中，所述光源单元包括：单元基板，包括：联接表面，当光源单元与滑块联接时面对滑块基板；以及源安装表面，与联接表面相邻；光源，设置在源安装表面中，发射要输入光学系统中的用于热辅助的光；以及光电检测器部件，形成在单元基板内部，并且被配置为测量来自光源的输出，光电检测器部件的光接收部分位于单元基板的源安装表面侧，并且被配制为接收从光源的在光发射中心相对侧的背面光发射中心发射的光，所述光发射中心发射用于热辅助的光；滑块基板的在对向介质表面的相对侧的后表面联接到单元基板的联接表面，使得从光发射中心发射的光进入光学系统。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：岛泽幸司，田中浩介，小村英嗣，本田隆，
申请(专利权)人：TDK股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP
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