一种清洗箱体底部杂质的结构制造技术

技术编号:7020279 阅读:210 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种清洗箱体底部杂质的结构,由箱体、密封座、O形圈、挡圈组成,所述的箱体底部开设有一个外面大里面小的阶梯圆孔,靠近箱体外端部处设计有一个挡圈槽,所述的密封座一端小,一端大,小端外圆上设计有一个O形圈槽,大端外端面上设计一个螺纹孔,所述的密封座小端安装在箱体阶梯圆孔小孔内,密封座大端安装在箱体阶梯圆孔大孔内,所述的O形圈安装于密封座的O形槽上,所述的挡圈安装于箱体圆孔的挡圈槽上,所述挡圈和箱体阶梯圆孔端面对密封座进行轴向限位。由于本实用新型专利技术采用上述结构,清洗箱体底部杂质既方便又彻底。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种清洗结构,特别是涉及一种清洗箱体底部杂质的结构
技术介绍
工程机械作为一种工程建设用的机械,经常使用在港口、煤场、石灰厂、水利、码头等灰尘较大的环境。工程机械双变系统包括变速箱、变矩器、滤清器、变速泵、油管、散热器等元件,箱体作为变速箱中的一部分,用于盛装双变系统的油液;工程机械停机时,双变系统中的大部分油液停留在箱体底部,同时装配过程中未清洗干净或工作过程中由呼吸器进入的杂质也随着油液停留在箱体底部。箱体的清洁度决定着整个双变系统的清洁度,维护和保持箱体的清洁度对双变系统的各元件使用寿命起着至关重要的作用。箱体底部为一个封闭的空间,清洗工具无法进入,现在仅靠箱体底部的放油口对变速箱进行换油,但无法清洗箱体底部上残留的杂质。
技术实现思路
本技术的目的是在于提供一种既方便又彻底的清洗箱体底部杂质的结构。为实现上述目的,本技术的技术方案是本技术是一种清洗箱体底部杂质的结构,由箱体、密封座、0形圈、挡圈组成, 所述的箱体底部开设有一个外面大里面小的阶梯圆孔,靠近箱体外端部处设计有一个挡圈槽,所述的密封座一端小,一端大,小端外圆上设计有一个0形圈槽,大端外端面上设计一个螺纹孔,所述的密封座小端安装在箱体阶梯圆孔小孔内,密封座大端安装在箱体阶梯圆孔大孔内,所述的0形圈安装于密封座的0形槽上,所述的挡圈安装于箱体圆孔的挡圈槽上,所述挡圈和箱体阶梯圆孔端面对密封座进行轴向限位。采用本方案后,由于本技术为一简单装配结构,依次将挡圈拆除,密封座拆除后,便能彻底的清洗箱体底部的杂质,这种结构既方便又彻底的清洗掉附着在箱体底部上的杂质。以下结合附图和具体实施例对本技术作进一步的说明。附图说明图1是本技术清洗箱体底部杂质的结构示意图。图2是图1中A的局部放大图。图中1箱体、2密封座、30形圈、4挡圈具体实施方式图1是本技术清洗箱体底部杂质的结构的实施例,由箱体1、密封座2、0形圈 3、挡圈4组成。所述的箱体1底部开设有一个阶梯圆孔,圆孔靠近箱体1内壁端小,靠近箱体外壁端大,阶梯圆孔大孔上设计有一个挡圈槽;所述的密封座2 —端小,一端大,小端外圆上设计有一个0形圈槽,大端外端面上设计一个螺纹孔;所述的密封座2小端安装在箱体1阶梯圆孔小孔内,密封座2大端安装在箱体阶梯圆孔大孔内。所述的0形圈3安装于密封座2的0形槽上,用于箱体1与密封座2之间的密封, 防止箱体1内的油液向外渗漏。所述的挡圈4安装于箱体1圆孔的挡圈槽上,箱体1的阶梯圆孔的大孔与小孔交叉处的端面5和挡圈4对密封座2进行轴向限位,防止密封座2轴向移动。在箱体1需要清洗时,先用工具拆掉挡圈4,再用一个螺栓拧进密封座2大端外端面螺纹孔内,该螺栓将密封座2及0形圈3 —起拔出,使用清洗工具通过箱体1底部开设的圆孔进入箱体1内部,对箱体1底部进行清洗,清洗方便而且彻底。权利要求1. 一种清洗箱体底部杂质的结构,由箱体、密封座、0形圈、挡圈组成,所述的箱体底部开设有阶梯圆孔,靠近箱体外端部处设计有一个挡圈槽,所述的密封座一端小,一端大,小端外圆上设计有一个0形圈槽,大端外端面上设计一个螺纹孔,所述的密封座小端安装在箱体阶梯圆孔小孔内,密封座大端安装在箱体阶梯圆孔大孔内,所述的0形圈安装于密封座的0形槽上,所述的挡圈安装于箱体圆孔的挡圈槽上,所述挡圈和箱体阶梯圆孔端面对密封座进行轴向限位,其特征在于所述的箱体底部阶梯圆孔外面大里面小。专利摘要本技术涉及一种清洗箱体底部杂质的结构,由箱体、密封座、O形圈、挡圈组成,所述的箱体底部开设有一个外面大里面小的阶梯圆孔,靠近箱体外端部处设计有一个挡圈槽,所述的密封座一端小,一端大,小端外圆上设计有一个O形圈槽,大端外端面上设计一个螺纹孔,所述的密封座小端安装在箱体阶梯圆孔小孔内,密封座大端安装在箱体阶梯圆孔大孔内,所述的O形圈安装于密封座的O形槽上,所述的挡圈安装于箱体圆孔的挡圈槽上,所述挡圈和箱体阶梯圆孔端面对密封座进行轴向限位。由于本技术采用上述结构,清洗箱体底部杂质既方便又彻底。文档编号F16H57/02GK202091481SQ201120027669公开日2011年12月28日 申请日期2011年1月23日 优先权日2011年1月23日专利技术者丁平芳, 侯广猛, 冯伟宁, 张英华, 李玉祥, 杨小兵, 殷琳, 秦英, 雷雄波, 龚滏生 申请人:徐工集团工程机械股份有限公司科技分公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗箱体底部杂质的结构,由箱体、密封座、O形圈、挡圈组成,所述的箱体底部开设有阶梯圆孔,靠近箱体外端部处设计有一个挡圈槽,所述的密封座一端小,一端大,小端外圆上设计有一个O形圈槽,大端外端面上设计一个螺纹孔,所述的密封座小端安装在箱体阶梯圆孔小孔内,密封座大端安装在箱体阶梯圆孔大孔内,所述的O形圈安装于密封座的O形槽上,所述的挡圈安装于箱体圆孔的挡圈槽上,所述挡圈和箱体阶梯圆孔端面对密封座进行轴向限位,其特征在于:所述的箱体底部阶梯圆孔外面大里面小。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:雷雄波殷琳丁平芳杨小兵龚滏生侯广猛冯伟宁秦英张英华李玉祥
申请(专利权)人:徐工集团工程机械股份有限公司科技分公司
类型:实用新型
国别省市:32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1