沟槽型双层栅MOS器件的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种沟槽型双层栅MOS器件的制备方法，包括如下：在沟槽刻蚀形成之后，进行垂直的离子注入在沟槽下方的外延层内形成具有第一导电类型的第一阱区，第一导电类型与所述MOS器件的外延层导电类型相反；在制备两层栅之间的氧化层时，采用热氧化法生长氧化层；而在接触孔刻蚀形成之后，在接触孔下方进行离子注入，在接触孔下方形成具有第一导电类型的第二阱区，第二阱区延伸到外延层中，第二阱区的深度深于后续在所述沟槽中形成的上层栅在外延层内的深度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种沟槽型双层栅MOS器件的制备方法。
技术介绍
沟槽型功率MOS器件是目前热门的功率器件。具有双层栅的沟槽型MOS器件则为 较先进的功率MOS器件。图1为现有的一种沟槽型双层栅MOS器件的结构示意图。这种沟 槽型双层栅MOS器件结构可以在不改变沟道宽度的情况下，通过增加一层多晶硅栅(屏蔽 电极)将栅区与漏区隔离开来，以减少栅区和漏区之间的交叠区来降低米勒电容，从而降 低器件的开关时间和开关损耗。但是，在中压和高压领域，因该器件的通态电阻受到外延层 浓度和厚度的限制，很难进一步降低。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种沟槽型双层栅MOS器件的制备方法。为解决上述技术问题，本专利技术的沟槽型双层栅MOS器件的制备方法在所述MOS器件的沟槽刻蚀形成之后，进行垂直的离子注入在所述沟槽下方的外 延层内形成具有第一导电类型的第一阱区，所述第一导电类型与所述MOS器件的外延层导 电类型相反；在制备双层栅之间的氧化层时，采用热氧化法生长所述氧化层；而在接触孔刻蚀形成之后，在接触孔下方进行离子注入，在接触孔下方形成具有 第一导电类型的第二阱区，所述第二阱区延伸到所述外延层中，所述第二阱区的深度深于 后续在所述沟槽中形成的上层栅在硅衬底中的深度。本专利技术的沟槽型双层栅MOS器件的制备方法，为在原有的沟槽型功率MOS器件的 工艺平台上作进一步改进，增加了沟槽底部和接触孔底部两步离子注入，分别在沟槽下方 和接触孔下方形成阱，器件截止时这两步离子束注入形成的两个阱区与外延区中的载流子 相互耗尽使得米勒电容进一步降低。同时采用热氧工艺生长厚度均勻从而电击穿可靠性更 好的两层栅间氧化层，使最终MOS器件拥有低米勒电容同时具有更低的通态电阻和更好的 器件性能。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明图1是现有的沟槽型双层栅MOS器件的结构示意图；图2为采用本专利技术的方法制备的沟槽型双层栅MOS器件的结构示意图；图3为实施本专利技术的方法步骤中沟槽刻蚀后的结构示意图；图4为实施本专利技术的方法步骤中沟槽底部离子注入后的结构示意图；图5为实施本专利技术的方法步骤中下层栅形成后的结构示意图；图6为实施本专利技术的方法步骤中热氧形成下层栅上氧化层后的结构示意图7为实施本专利技术的方法步骤中上层栅形成后的结构示意图；图8为实施本专利技术的方法步骤中源区形成后的结构示意图；图9为实施本专利技术的方法步骤中第二阱区注入后的结构示意图。具体实施例方式本专利技术的沟槽型双层栅MOS器件的制备方法，为在原有结构的基础上，增加沟槽 下面的第一阱区和接触孔下面的第二阱区，两个阱区的导电类型与外延层相反，另外，采用 热氧工艺生长两层栅之间的氧化层，最终形成如图2所示的结构(图2为NMOS器件)。下面以沟槽型双层栅NMOS器件为例对本专利技术的制备方法作详细说明，包括如下 步骤1)在沟槽刻蚀形成(见图幻之后，在沟槽下方进行离子注入，在沟槽底部形成掺 杂剂的导电类型与外延层相反的第一阱区(见图4)，在NMOS器件中为P型导电，第一阱区 的掺杂浓度要较低，但高于外延层。沟槽的刻蚀之前的工艺与常规的工艺相同，可为在外延 层上淀积硬阻挡层，之后利用光刻工艺定义出沟槽图形，并刻蚀硬阻挡层，而后进行沟槽的 刻蚀。沟槽底部的离子注入采用垂直注入中，所注入的离子剂量范围为IO12 IO15原子/ cm2，注入能量范围为IKeV 2000KeV。注入后可利用退火工艺进行第一阱区的推进，退火 的温度为400 1200摄氏度，处理时间为10秒 10小时。2)接着是沟槽内壁的氧化层生长，第一层多晶硅的淀积并回刻，形成下层栅(为 该器件的屏蔽电极层，见图5)。3)而后是采用热氧工艺生长下层栅上的氧化层，沟槽侧壁的氧化层也一并形成 (见图6)。一种具体的做法为先采用离子注入工艺将氮离子注入到沟槽侧壁表面(即为没 被下层栅覆盖的沟槽表面)，而不注入到底下的下层栅表面；接着进行热氧生长，使沟槽侧 壁的硅和下层栅表面的多晶硅氧化生成氧化层，因有氮离子存在的沟槽侧壁的氧化速度比 多晶硅的氧化速度慢，因此可以在下层栅表面形成足够厚且均勻致密的氧化层。氮离子注 入工艺中，所注入的氮离子剂量为1011 IO16原子/cm2，氮离子束与衬底垂直轴的夹角为 1 85度，注入能量为10 200KeV。而另一种做法为先采用离子注入工艺将氟离子注入 至下层栅的表面，沟槽侧壁不注入氟离子；之后进行热氧生长，使沟槽侧壁的硅和下层栅表 面的多晶硅氧化生成氧化层，也可以在下层栅上形成足够厚且均勻致密的氧化层。氟离子 注入工艺中，氟离子的注入剂量为1011 IO"5原子/cm2，注入能量为10 200KeV。4)而后是第二层多晶硅的淀积，刻蚀后形成上层栅(见图7)(称为开关电极)。5)而后同样是采用常规工艺进行体区的离子注入和源区的离子注入(见图8)，以 及在形成了上述结构的衬底上淀积层间膜，接着刻蚀层间膜形成接触孔。6)在接触孔刻蚀形成之后，在接触孔下方进行离子注入，形成导电类型与体区相 同的第二阱区，该第二阱区的深度深于上层栅在外延层内的深度，并位于外延层内。所注入 的离子剂量范围为IO12 IO15原子/cm2，注入能量范围为IOKeV 2000KeV。离子注入后 可利用退火工艺进行注入区的推进，退火的温度为400 1200摄氏度，时间为10秒 10 小时。接着为离子注入在接触孔底部形成欧姆接触区，以形成欧姆接触(见图9)。后续其它工艺与传统的双层栅MOS器件制程完全一致，最终形成如图2所示的器 件结构。采用本专利技术的方法所制备的双层栅MOS器件，可以在保持原有击穿电压不变的基础上使用更高浓度的外延层，从而降低器件的通态电阻，还可进一步降低米勒电容，获得更 优的器件性能。权利要求1.一种沟槽型双层栅MOS器件的制备方法，其特征在于在所述MOS器件的沟槽刻蚀形成之后，进行垂直的离子注入在所述沟槽下方的外延层 内形成具有第一导电类型的第一阱区，所述第一导电类型与所述MOS器件的外延层导电类 型相反；在制备双层栅之间的氧化层时，采用热氧化法生长所述氧化层；而在接触孔刻蚀形成之后，在接触孔下方进行离子注入，在接触孔下方形成具有第一 导电类型的第二阱区，所述第二阱区延伸到所述外延层中，所述第二阱区的深度深于后续 在所述沟槽中形成的上层栅在外延层内的深度。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述形成第一阱区的工艺中，所注入 的离子剂量范围为IO12 IO15原子/cm2，注入能量为1 2000KeV ；所述形成第二阱区的工 艺中，所注入的离子剂量范围为IO12 IO15原子/cm2，注入能量范围为10 2000KeV。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于在进行所述沟槽下方离子注入 工艺和接触孔下方离子注入工艺之后，都要对衬底进行退火处理。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于所述退火处理的温度设置为400 1200°C，处理时间为10秒至10小时。5.按照权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于所述双层栅中下层栅制备形成 之后，进行所述下层栅上氧化层的生长之前，增加将氟离子注入到所述下层栅表面的步骤。6.按照权利要求5所述的制备方法，其特征在于所述氟离子的注入剂量为IO11 IO16 本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种沟槽型双层栅ＭＯＳ器件的制备方法，其特征在于：在所述ＭＯＳ器件的沟槽刻蚀形成之后，进行垂直的离子注入在所述沟槽下方的外延层内形成具有第一导电类型的第一阱区，所述第一导电类型与所述ＭＯＳ器件的外延层导电类型相反；在制备双层栅之间的氧化层时，采用热氧化法生长所述氧化层；而在接触孔刻蚀形成之后，在接触孔下方进行离子注入，在接触孔下方形成具有第一导电类型的第二阱区，所述第二阱区延伸到所述外延层中，所述第二阱区的深度深于后续在所述沟槽中形成的上层栅在外延层内的深度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金勤海，李卫刚，缪进征，
申请(专利权)人：上海华虹NEC电子有限公司，
类型：发明
国别省市：31