本发明专利技术提供一种电子装置的壳体。该电子装置壳体包括一基体及形成于基体表面的金属氧化物膜。所述基体表面的粗糙度值在60nm以下。该金属氧化物膜包括有具不同折射率的相互交替排列的氧化物层，该不同折射率的氧化物层选自为五氧化二钽氧化物层与二氧化硅氧化物层的组合或五氧化二铌氧化物层与氧化锆氧化物层的组合。所述壳体的表面光泽度值为100-200光泽单位。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于一种电子装置壳体，尤其是关于一种既具有金属质感又具有高光泽 度的电子装置壳体。
技术介绍
现有电子产品(如手机、PDA等)的壳体常被镀覆一金属层或金属氧化物层而使 产品具有金属质感，从而吸引消费者眼球。该金属层通常以不导电电镀的方式形成，因该金 属层不导电，从而可避免其对电子产品信号接收的干扰。该不导电的金属层或金属氧化物 层通常为透明状，其形成于壳体上之后，与壳体的基材及形成于壳体上的其他油漆层共同 使得壳体呈现出多彩的具金属质感的外观。然而，上述在壳体表面形成的金属层或金属氧 化物层的结构单一，光泽度低，难以使产品呈现出高光泽度、高雅的外观。
技术实现思路
鉴于此，有必要提供一种既具有金属质感又具有高光泽度的电子装置壳体。一种电子装置壳体，其包括一基体及形成于基体表面的金属氧化物膜，所述基体 表面的粗糙度值在60nm以下，该金属氧化物膜包括有具不同折射率的相互交替排列的氧 化物层，该不同折射率的氧化物层选自为五氧化二钽氧化物层与二氧化硅氧化物层的组合 或五氧化二铌氧化物层与氧化锆氧化物层的组合，所述壳体的表面光泽度值为100-200光 泽单位。相较于现有技术，本专利技术电子装置壳体通过控制基体的表面粗糙度值以及于基体 表面上设置特定结构的金属氧化物膜，使得该电子装置壳体既具有金属质感又具有高光泽 度，外观更加高雅、更具有吸引力，大大提升了产品的使用价值和附加价值。附图说明图1为本专利技术一较佳实施方式电子装置壳体的剖视示意图。 具体实施例方式请参阅图1所示，本专利技术一较佳实施方式的电子装置壳体10包括一基体11、形成 于基体11上的底漆层13、结合于底漆层13上的金属氧化物膜15以及结合于金属氧化物膜 15上的面漆层17。基体11可为不透明的塑料基体，其可以注塑成型的方式制成。注塑该基体11的 塑料可选自为聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)及聚甲 基丙烯酸甲酯(PMMA)中的任一种。该基体11亦可为陶瓷基体。所述基体11的表面粗糙 度值在60nm以下。该基体11可为白色、黑色或其他多彩的颜色，优选为白色。底漆层13可由白色、彩色或无色透明的丙烯酸树脂漆喷涂形成于基体11的表面。 该底漆层13可增强金属氧化物膜15与基体11间的结合力，其厚度可在1-30 μ m之间。金属氧化物膜15可以真空溅镀的方式形成于底漆层13的表面。该金属氧化物膜 15可包括有相互交替排列的五氧化二钽(Ta2O5)氧化物层及二氧化硅(SiO2)氧化物层。该 五氧化二钽氧化物层可为3-4层，与其交替排列的二氧化硅氧化物层亦可为3-4层。与底 漆层13表面直接相结合的可以是某一五氧化二钽氧化物层或二氧化硅氧化物层。该金属 氧化物膜15也可包括有相互交替排列的五氧化二铌(Nb2O5)氧化物层及氧化锆(ZrO2)氧化 物层。该五氧化二铌氧化物层可为3-4层，与其交替排列的氧化锆氧化物层亦可为3-4层。 与底漆层13表面直接相结合的可以是某一五氧化二铌氧化物层或氧化锆氧化物层。该金 属氧化物膜15的厚度可为lO-lOOOnm，在该厚度范围内，该金属氧化物膜15可使所述电子 装置壳体10的光泽度值达到100-200光泽单位(测试光线入射角度为60度)。本较佳实施方式中采用真空溅镀的方式形成金属氧化物膜15，相较于真空蒸镀， 可较精确的控制金属氧化物膜15的微观结构，以使该金属氧化物膜15产生高光泽度效果。 溅镀时，以钽、铌、锆或硅作为靶材，并通入一定量高纯度的氧气(约99. 99% )。所述金属氧化物膜15的厚度可通过光学膜系的数值计算软件计算出光谱曲线后 而确定。面漆层17为透明的保护漆，其厚度可为10_50μπι。用以形成面漆层17的油漆可 为紫外光固化漆，其具有较高的硬度，从而可起到较好的表面保护作用。所述面漆层17中 亦可添加彩色颜料，以使所述电子装置壳体10的外观更美观。可以理解的，所述底漆层13可以省略，即金属氧化物膜15直接形成于基体11上。可以理解的，所述面漆层17亦可以省略。本专利技术较佳实施方式的电子装置壳体10通过控制基体11的表面粗糙度值以及于 基体11表面上设置特定结构的金属氧化物膜15，使得该电子装置壳体10既具有金属质感 又具有高光泽度，外观更加高雅、更具有吸引力，大大提升了产品的使用价值和附加价值。权利要求1.一种电子装置壳体，其包括一基体及形成于基体表面的金属氧化物膜，其特征在于 所述基体表面的粗糙度值在60nm以下，该金属氧化物膜包括有具不同折射率的相互交替 排列的氧化物层，该不同折射率的氧化物层选自为五氧化二钽氧化物层与二氧化硅氧化物 层的组合或五氧化二铌氧化物层与氧化锆氧化物层的组合，所述壳体的表面光泽度值为 100-200光泽单位。2.如权利要求1所述的电子装置壳体，其特征在于所述基体由塑料或陶瓷制成。3.如权利要求1所述的电子装置壳体，其特征在于所述金属氧化物膜的厚度为 IO-IOOOnm04.如权利要求1所述的电子装置壳体，其特征在于所述金属氧化物膜以真空溅镀的 方式形成。5.如权利要求1所述的电子装置壳体，其特征在于所述五氧化二钽氧化物层为3-4 层，二氧化硅氧化物层为3-4层。6.如权利要求1所述的电子装置壳体，其特征在于所述五氧化二铌氧化物层为3-4 层，氧化锆氧化物层为3-4层。7.如权利要求1所述的电子装置壳体，其特征在于所述壳体还包括一形成于基体与 金属氧化物膜之间的底漆层。8.如权利要求7所述的电子装置壳体，其特征在于所述底漆层为丙烯酸树脂漆层，其 厚度在1-30 μ m之间。9.如权利要求1所述的电子装置壳体，其特征在于所述壳体还包括一形成于金属氧 化物膜表面的面漆层。10.如权利要求9所述的电子装置壳体，其特征在于所述面漆层为紫外光固化漆层。全文摘要本专利技术提供一种电子装置的壳体。该电子装置壳体包括一基体及形成于基体表面的金属氧化物膜。所述基体表面的粗糙度值在60nm以下。该金属氧化物膜包括有具不同折射率的相互交替排列的氧化物层，该不同折射率的氧化物层选自为五氧化二钽氧化物层与二氧化硅氧化物层的组合或五氧化二铌氧化物层与氧化锆氧化物层的组合。所述壳体的表面光泽度值为100-200光泽单位。文档编号C23C14/08GK102098887SQ20091031140公开日2011年6月15日 申请日期2009年12月14日 优先权日2009年12月14日专利技术者姜传华, 杜琪健 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：姜传华，杜琪健，
申请(专利权)人：深圳富泰宏精密工业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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