一种刻蚀系统技术方案

本发明专利技术提供一种刻蚀系统，该系统包括：用于容置电浆的腔体；设置于所述腔体上方的石英盘；设置于所述石英盘上方的多个永久磁体；旋转机构，所述旋转机构带动所述多个永久磁体旋转，所述多个永久磁体产生的磁场随所述多个永久磁体的旋转而旋转，所述电浆处于所述磁场中。本发明专利技术的方案可以进一步增加粒子的碰撞频率，以达到最优化电浆的均匀度，也可提高电浆的浓度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及LED领域中的刻蚀技术，特别是指一种刻蚀系统。
技术介绍
LED领域中PSS (图形化衬底)干法刻蚀，目前采用的是高密度等离子体ICP刻蚀系统，如图1、图2和图3所示，图1为目前的高密度等离子体ICP刻蚀系统剖视图，图2为图1所示系统的俯视图，图3为图1所示的系统的磁场磁力线示意图，其中，该刻蚀系统包括腔体10，腔体10中有电浆18，腔体10的上方设置有石英盘11，石英盘11上方设置有上部电极14，上部电极14上方为永久磁体13以及接触器12，其中，该永久磁体13以固定方式设置于石英盘11上方，该系统还包括设置于腔体下方的下部电极16，以及与上部电极 14相连的上部射频输出线圈15和下部电极16相连的下部射频输出线圈17，该腔体中的电浆18在上部电极14和下部电极16形成的电场以及永久磁体13产生的磁场的作用下，实现对图形化衬底的刻蚀；如可进行蓝宝石衬底图形化刻蚀、Si衬底刻蚀以及GaN基外延层刻蚀等应用。其中，为了减轻上部电极14的反应而生成的聚合物的沉积，上述系统是通过安装在石英盘11和上部射频输出线圈15之间的永久磁体13产生的磁力线而提升电浆的均勻度。但是磁场位置却是相对固定的(如图3所示)，随着上部电极14的消耗，厚度变薄，造成电极清洁能力下降；另外，磁场方向也是固定的，造成磁力线固定，故粒子碰撞几率和电浆(Plasma)浓度无法进一步提高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种刻蚀系统，进一步增加粒子的碰撞频率，以达到最优化电浆(Plasma)的均勻度，也可提高电浆的浓度。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供一种刻蚀系统，包括用于容置电浆的腔体；设置于所述腔体上方的石英盘；设置于所述石英盘上方的多个永久磁体；所述系统还包括旋转机构，所述旋转机构带动所述多个永久磁体旋转，所述多个永久磁体产生的磁场随所述多个永久磁体的旋转而旋转，所述电浆处于所述磁场中。其中，所述多个永久磁体固设于位于所述石英盘上方的一磁体托架中，所述旋转机构通过带动所述磁体托架旋转使所述多个永久磁体旋转；或者所述旋转机构直接与所述多个永久磁体连接，带动所述多个永久磁体旋转。其中，所述旋转机构为第一旋转电机，所述第一旋转电机具有第一旋转轴；所述旋转机构通过带动所述磁体托架旋转使所述多个永久磁体旋转时，所述磁体托架上具有第二旋转轴，所述第一旋转轴通过第一传动带带动所述第二旋转轴使所述磁体托架旋转并使所述多个永久磁体旋转；或者所述旋转机构直接与所述多个永久磁体连接，带动所述多个永久磁体旋转时，所述多个永久磁体上分别具有第二旋转轴，所述第一旋转轴通过第一传动带带动所述第二旋转轴使所述多个永久磁体旋转。其中，所述第一旋转轴上安装有第一齿轮，所述第二旋转轴上安装有第二齿轮，所述第一传动带通过所述第一齿轮与所述第一旋转轴连接，并通过所述第二齿轮与所述第二旋转轴连接。其中，所述旋转机构为第二旋转电机，所述第二旋转电机具有多个第三旋转轴，所述多个第三旋转轴的第一端位于所述旋转电机上；所述旋转机构通过带动所述磁体托架旋转使所述多个永久磁体旋转时，所述多个第三旋转轴的第二端位于所述磁体托架上，所述第三旋转轴带动所述磁体托架旋转使所述多个永久磁体旋转；所述旋转机构直接与所述多个永久磁体连接，带动所述多个永久磁体旋转时，所述多个第三旋转轴的多个第二端与所述多个永久磁体一一对应连接，所述第三旋转轴带动所述多个永久磁体旋转。其中，上述刻蚀系统还包括升降电机，所述升降电机具有第四旋转轴，所述第四旋转轴的第一端位于所述升降电机上；所述旋转机构为第三旋转电机，所述第三旋转电机具有第五旋转轴，所述第五旋转轴通过第二传动带与所述第四旋转轴的第一端连接，所述五旋转轴通过所述第二传动带带动所述第四旋转轴旋转且所述升降电机带动所述第四旋转轴上下运动；所述旋转机构通过带动所述磁体托架旋转使所述多个永久磁体旋转时，所述第四旋转轴的第二端位于所述磁体托架上，所述磁体托架在所述第四旋转轴的带动下旋转并上下运动；所述旋转机构直接与所述多个永久磁体连接，带动所述多个永久磁体旋转时，所述第四旋转轴的第二端位于所述多个永久磁体上，所述多个永久磁体在所述第四旋转轴的带动下旋转并上下运动。其中，所述第四旋转轴上安装有第三齿轮，所述第五旋转轴上安装有第四齿轮，所述第二传动带通过所述第三齿轮与所述第四旋转轴连接，并通过所述第四齿轮与所述第五旋转轴连接。其中，所述升降电机中具有第一控制器，所述第一控制器用于控制所述第四旋转轴上下运动的高度。其中，所述旋转机构中具有第二控制器，所述第二控制器用于控制所述旋转机构带动所述多个永磁体旋转的转速。其中，上述刻蚀系统还包括设置于所述石英盘和所述永久磁体之间的第一电极，所述第一电极与第一射频线圈连接；设置于所述腔体下方的第二电极，所述第二电极与第二射频线圈连接。其中，上述刻蚀系统还包括设置于所述多个永久磁体上方的接触器。本专利技术的上述技术方案的有益效果如下上述方案中，通过旋转机构将原有固定的磁场旋转运动起来，使电浆中的带电粒子和磁场产生交互作用力而改变运动方向，从而进一步增加粒子的碰撞频率，以达到最优化电浆(Plasma)的均勻度为目的.也可提高电浆的浓度。 附图说明图1为现有的刻蚀系统的剖视图；图2为图1所示系统的俯视图；图3为图1所示系统的永久磁体的磁力线示意图；图4为本专利技术的实施例刻蚀系统的剖视图；图5为图4所示系统的旋转机构与石英盘连接的第一实施例示意图；图6为图4所示系统的旋转机构与石英盘连接的第二实施例示意图；图7为图4所示系统的旋转电机、升降电机与石英盘连接的实施例图；图8为图7所示的系统中旋转电机与升降电机作用后，电浆轮廓以及石英盘对电极的消耗示意图；图9为图4所示系统的俯视图；图10为图9所示系统中永久磁体与其磁体托架的设置关系示意图；图11为图7所示系统的可旋转磁场的磁力线示意图。具体实施例方式为使本专利技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。如图4所示，本专利技术的实施例刻蚀系统，包括用于容置电浆观的腔体20;设置于所述腔体20上方的石英盘21 ；设置于所述石英盘21上方的多个永久磁体23 ；旋转机构30， 所述旋转机构30带动所述石英盘21上方的所述多个永久磁体23旋转，所述多个永久磁体 23产生的磁场随所述多个永久磁体23的旋转而旋转，所述电浆观处于所述磁场中。本专利技术的该实施例中，刻蚀系统还可包括设置于所述石英盘21和所述永久磁体 23之间的第一电极M，所述第一电极M与第一射频线圈25连接；设置于所述腔体20下方的第二电极26，所述第二电极沈与第二射频线圈27连接；所述电浆观处于所述第一电极 M与所述第二电极26的电场中。图中的四为晶圆，22为接触器。其中，所述永久磁体23 可为永久磁铁。该实施例通过旋转机构将原有固定的磁场旋转运动起来，使电浆中的带电粒子和磁场产生交互作用力而改变运动方向，从而进一步增加粒子的碰撞频率，以达到最优化电浆(Plasma)的均勻度为目的.也可提高电浆的浓度。在本专利技术的另一实施例中，上述旋转机构30带动所述多个永久磁体23旋转的具体实现方式可以包括1)所述多个永久磁体固设于位于所述石英盘上方的一磁体托架231 中(如图10所示)，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种刻蚀系统，包括：用于容置电浆的腔体；设置于所述腔体上方的石英盘；设置于所述石英盘上方的多个永久磁体；其特征在于，还包括：旋转机构，所述旋转机构带动所述多个永久磁体旋转，所述多个永久磁体产生的磁场随所述多个永久磁体的旋转而旋转，所述电浆处于所述磁场中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：马擎天，池玟霆，李明亮，
申请(专利权)人：协鑫光电科技张家港有限公司，
类型：发明
国别省市：32