气动平台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种气动平台，包括第一固定座、第一活动座、第二固定座、第二活动座与至少一驱动装置，该第一活动座与该第二活动座内分别设置一管道，该些管道上分别具有一进气口及多个出气口，并使该些管道的出气口面对于对应的固定座，当气体自管道的进气口灌入后，将会自出气口排出，使得该第一固定座与该第一活动座之间产生间隙，该第二固定座与该第二活动座之间亦产生间隙，藉此各相对应的座体在移动时，将不会产生磨损擦痕，并且，气体阻力极小，对于系统在控制位移距离上更加精确，可因应更高精度的需求。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术为一种用于装载物品进行加工的平台，尤指一种利用气体做为润滑介质的气动平台。
技术介绍
一般在切割晶圆或是LED等高科技半导体材料时，皆需经由切割等手续才会形成可利用的产品。在切割进行时，利用一平台来带动这些半导体材料进行前后左右的移动，而可配合刀具落下的位置来完成切割工序。其中，平台位移精确度将直接影响晶圆被切割后的状况，若有任何偏斜，将导致切割后的成品无法使用，形成损失。为使平台能够移动顺畅，常会于相对活动的组件之间设置润滑油或是轴承等物， 使得平台能够平稳地滑动至指定的位置。然而，润滑油会有消耗或漏出等问题，在经过一段时间后，由于已无法提供润滑效果，故将使组件彼此摩擦，而发生抖动或是位移不精确等问题，而轴承亦为机械式的辅助传动，仍然会有消耗毁损的问题，进而导致晶圆的毁损。再者，科技产品的体积愈来愈小，功能越来越多，倘若晶圆在切割过程中，稍有闪失，将会造成庞大的损失，因此，只要平台无法平稳精确地位移，即无法适应精度要求逐渐提升的切割。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是，针对现有技术不足，提供一种气动平台，其利用气体阻隔需相对移动的组件，避免摩擦的产生，可增进平台移动的精确度。为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是一种气动平台，包括一第一固定座、一第一活动座、一第二固定座、一第二活动座与至少一驱动装置，该第一活动座置于该第一固定座上方，且该第一活动座内设有一第一管道，该第一管道设有至少一第一进气孔与数个第一出气孔，该些第一出气孔朝向该第一固定座；该第二固定座设置于该第一活动座上；该第二活动座置于该第二固定座上方，该第二活动座内设有一第二管道，该第二管道设有至少一第二进气孔与数个第二出气孔，该些第二出气孔朝向该第二固定座；该驱动装置连接于该第一活动座与该第二活动座，用以提供该第一活动座与该第二活动座移动的动力；当气体自该第一进气孔与该第二进气孔进入后，将由该第一出气孔与该第二出气孔排出，使得该第一固定座与该第一活动座之间产生一第一间隙，该第二固定座与该第二活动座之间产生一第二间隙。当该第一间隙与该第二间隙内具有所充入的气体时，将可使该第一固定座与该第一活动座有间隔分离，该第二固定座与该第二活动座有间隔分离。该第一活动座与该第二活动座相互垂直。该第一固定座包括一第一轨道，该第一活动座插入该第一轨道，且部分该些第一出气孔面向于该第一轨道的内侧。该第二活动座包括一第二轨道，且该第二活动座藉由该第一轨道插入该第二固定座；又，该第二管道延伸至该第二轨道内，且部分第二出气孔设置于该第二轨道内侧。由于本技术利用气体做为组件之间的介质，使得各相对移动的组件在移动时，不会直接接触而产生擦痕等问题。并且，气体阻力极小，对于系统在控制位移距离上更加精确，故可因应更高精度的需求。又，本技术可进一步使该第一活动座与该第二活动座相互垂直，而具有不同方向的移动。又，本技术利用一第一轨道与一第二轨道的设计，使得该第一活动座与该第二活动座的移动更加稳定。以下兹举一实施例，配合图式、图号，将本技术的构成内容及其所达成的功效详细说明如后。附图说明图1为本技术实施例的立体图；图2为本技术实施例的另--视角的立体图；图3为本技术实施例的第--活动座的透视图；图4为本技术实施例的第--固定座与第一活动座的剖面示意图；图5为本技术实施例的第二二活动座结合于第一固定座的立体透视图标号说明10..'.…第—』固定座；11..'.…第—-轨道；20..'.…第—』活动座；21..'.…第—-管道；211.…..第-一进气孔；212.…..第-一出气孔；30..'.…第二固定座；40..'.…第二活动座；41..'.…第二管道；411.…..第:二进气孔；412.…..第:二出气孔；42..'.…第二轨道。具体实施方式请参阅图1至图2所示，本实施例包括一第一固定座10、一第一活动座20、一第二固定座30与一第二活动座40，其中，该第一活动座20置于该第一固定座10的上方，且该第一活动座20可相对于该第一固定座10移动，该第二固定座30置于该第一活动座20的上方，与该第一活动座20同时移动，该第二活动座40置于该第二固定座30的上方，使该第二活动座40可相对于该第二固定座30移动。其中，如图3所示，该第一活动座20包括至少一第一管道21，该第一管道21设于该第一活动座20内，并于该第一管道21设有至少一第一进气孔211与数个第一出气孔212，且该些第一出气孔212朝向该第一固定座10，因此，当气体自该第一进气孔211灌入后，将会由该些第一出气孔212排出，而使该第一活动座20与该第一固定座10之间产生一第一间隙，不会直接接触，藉由该气体做为该第一活动座20与该第一固定座10之间的介质，故当该第一活动座20相对于该第一固定座10移动时，将不会在彼此之间发生摩擦毁损。如图5所示，该第二活动座40内设有一第二管道41，该第二管道41包括至少一第二进气孔411与数个第二出气孔412，且该些第二出气孔412朝向该第二固定座30，同理， 当气体自该第二进气孔411进入之后，会由该第些第二出气孔412排出，使得该第二活动座 40与该第二固定座30之间产生一第二间隙，由于该间隙内充斥着气体，故当该第二活动座 40相对于该第二固定座30移动时，该第二固定座30与该第二活动座40之间，将不会接触摩擦。至少一驱动装置(图未示)，连接于该第一活动座20与该第二活动座40，用以提供该第一活动座20与该第二活动座40移动的动力，由于驱动装置与该第一活动座20及该第二活动座40连接的方式，为已知技术，故于此不再加以赘述，若采用两组以上的驱动装置来分别推拉此二活动座，仍为目前已知技术的简易置换，仍属本技术所界定的范围， 于此合先叙明。由于该第一活动座20与该第一固定座10之间利用气体来进行阻隔，而气体与此二组件的摩擦力非常小，因此，不会对该二组件产生磨损，使得移动时维持平稳，并且可提升控制位移的精密度。该第二固定座30与该第二活动座40之间亦利用气体作为阻隔，因此，该第二活动座40进行移动时，亦可维持平稳，并提升位移的精密度。进者，该第一活动座20与该第二活动座40可相互垂直排列，而可具有XY轴双向移动的功能。又，请参阅图2与图3所示，该第一固定座10包括一第一轨道11，该第一活动座 20可插入该第一轨道11，且部分第一出气孔211亦面向于该第一轨道11内侧，藉此，可提升该第一活动座20移动时的平稳。再者，如图4与图5所示，其中该第二活动座40进一步包括一第二轨道42，且部分第二管道41延伸至该第二轨道42内，并使部分第二出气孔422设于该第二轨道42，当该第二固定座30插入该第二轨道42时，该第二活动座40及该第二轨道42内的第二出气孔 422皆面对于该第二固定座30，藉此，可增进该第二活动座40移动时的平稳。 综上所述，本技术可增进移动时的稳定性及提升位移控制的精密度，再者，因不会产生磨损，故减少零件更换维修的次数，降低维护成本。权利要求1.一种气动平台，包括一第一固定座、一第一活动座、一第二固定座、一第二活动座与至少一驱动装置，其特征在于，该第一活动座置于该第一固定座上方，且该第一活动座内设有一第本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种气动平台，包括一第一固定座、一第一活动座、一第二固定座、一第二活动座与至少一驱动装置，其特征在于，该第一活动座置于该第一固定座上方，且该第一活动座内设有一第一管道，该第一管道设有至少一第一进气孔与数个第一出气孔，该些第一出气孔朝向该第一固定座；该第二固定座设置于该第一活动座上；该第二活动座置于该第二固定座上方，该第二活动座内设有一第二管道，该第二管道设有至少一第二进气孔与数个第二出气孔，该些第二出气孔朝向该第二固定座；该驱动装置连接于该第一活动座与该第二活动座，用以提供该第一活动座与该第二活动座移动的动力；当气体自该第一进气孔与该第二进气孔进入后，将由该第一出气孔与该第二出气孔排出，使得该第一固定座与该第一活动座之间产生一第一间隙，该第二固定座与该第二活动座之间产生一第二间隙。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈盛淇，
申请(专利权)人：陈盛淇，
类型：实用新型
国别省市：71