【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光生酸剂(photoacid generator)、其制备方法以及含有该光生酸剂的抗蚀剂组合物。更具体地，本专利技术涉及在曝光时能够产生酸的光生酸剂，所述酸具有低的扩散速率、短的扩散距离和适中的酸度，从而能够改善线宽粗糙度(LWR)特性，还能够控制其在处理中所用的诸如纯水的溶剂中的洗脱。本专利技术还涉及该光生酸剂的制备方法以及含有该光生酸剂的抗蚀剂组合物。
技术介绍
随着一代一代使用光刻法的微处理方法的变化，需要有更高分辨率的光致抗蚀剂，针对该需要，已开发了化学增强型抗蚀剂。这种化学增强抗蚀剂组合物含有光生酸剂。化学增强抗蚀剂组合物中的光生酸剂是重要的成分，其与抗蚀剂组合物一起在分辨率、LWR、灵敏度等方面赋予化学增强抗蚀剂以优异的性质。因此，正在对各种类型的光生酸剂进行研究，以制备具有适当性质的化学增强抗蚀剂组合物。具体地，已对用作光生酸剂以改善酸的扩散速率、透明度等(这是显示诸如优异的分辨率、LWR和灵敏度的特性的某些性质)的那些化合物的阳离子部分进行了很大程度的修饰和实验。然而，在目前的水平，用于通过修饰光生酸剂的阴离子部分而改善化学增强抗蚀剂的性质的研究仍然不足。实验数据报道了，对于显著改善酸的流动性和抗蚀剂组合物的性质的物理和化学性质，阴离子部分能够比阳离子部分施加更大的影响，基于这些实验数据，最近已完成了与光生酸剂的阴离子部分有关的新专利技术。此外，对于能够调节酸的渗透能力同时降低酸的扩散速率的光生酸剂有持续增加的需求。此外，最近用于化学增强抗蚀剂的光源需要比通常使用的g_线或i_线区更短的波长，因此，正在对使用远紫外辐照、Kr...
【技术保护点】
１．一种光生酸剂，其由下式１表示：［式１］其中，在式１中，Ｙ表示选自具有３至３０个碳原子的环烷基和具有３至３０个碳原子的环烯基中的任一种；Ｑ１和Ｑ２各自独立地表示卤素原子；Ｘ表示选自烷烃二基、烯烃二基、ＮＲ′、Ｓ、Ｏ、ＣＯ及其组合中的任一种，其中Ｒ′表示选自氢原子和烷基中的任一种；ｎ表示０至５的整数；且Ａ＋表示有机反离子。
【技术特征摘要】
2010.06.01 KR 10-2010-00515911. 一种光生酸剂，其由下式1表示 [式1]2.根据权利要求1所述的光生酸剂，其中Y表示选自以下的任一种金刚烷基、降冰片基、含有具有10至30个碳原子的降冰片基的多环环烷基、具有3至14个碳原子的单环环院基、具有8至20个碳原子的双环环烷基、具有10至30个碳原子的三环环烷基和具有10 至30个碳原子的四环环烷基。3.根据权利要求1所述的光生酸剂，其中Y表示选自下式Ι-a至I-I中的任一种4.根据权利要求ι所述的光生酸剂，其中式ι中的χ表示选自-O-、-OCH2-、-OCH(CI)-、 -⑴-、-coffl2-、-cofflA-、-^-、-fflA-、-o^-o-、-oi2-o-ai2-、-ai2ai2-o-、-ai2-o-ai2ai2-、-cH2CH2-O-CH2-, -CH2CH2CH2-O-, -CH2-O-CH2CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2CH2-O-CH2-, -CH ( CH3) _、-C (CH3) 2CH2-、-CH (CH3) CH2-、-CH (CH2CH3) _、-CH (OCH3) _、-C (CF3) (OCH3) _、-CH2-S-、-CH 2-S-CH2-, -CH2CH2-S-, -CH2-S-CH2...
【专利技术属性】
技术研发人员：韩俊熙，朱炫相，申珍奉，任铉淳，
申请(专利权)人：锦湖石油化学株式会社，
类型：发明
国别省市：KR
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